[發(fā)明專利]注射泵、基板處理裝置以及基板處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710088631.3
• 申請(qǐng)日: 2007-03-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101053861A
• 公開(kāi)（公告）日: 2007-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 福地毅;高木善則
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B05C11/10
• 分類號(hào): B05C11/10;B05B9/04
• 代理公司: 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 徐恕

1.一種注射泵，用于輸送并供給處理液，其特征在于，具有：

中空的缸體，其具有吸引所述處理液的吸引孔和噴出所述處理液的噴出孔；

隔離部件，其將所述缸體的內(nèi)部空間隔成第一室和第二室，并且具有在所述缸體的前后方向上貫通的第一貫通孔，其中，該第一室與所述吸引孔及所述噴出孔相連通，該第二室相比所述第一室形成在所述缸體的后部側(cè)；

后端部件，其配置在所述缸體的后端部，構(gòu)成所述第二室的外壁的一部分，并具有在所述缸體的前后方向上貫通的第二貫通孔；

活塞，其插入到所述第一貫通孔以及所述第二貫通孔中，活塞的前端部配置在所述第一室的內(nèi)部，并且，活塞的后端部相比所述缸體的后端部配置在所述缸體的外側(cè)；

驅(qū)動(dòng)部，其使所述活塞在所述缸體的前后方向上進(jìn)行進(jìn)退；

第一密封部件，其將所述第一貫通孔的內(nèi)側(cè)面和所述活塞的側(cè)面之間密封，并使所述第一貫通孔的內(nèi)側(cè)面和所述活塞的側(cè)面之間自由滑動(dòng)接觸；

第二密封部件，其將所述第二貫通孔的內(nèi)側(cè)面和所述活塞的側(cè)面之間密封，并使所述第二貫通孔的內(nèi)側(cè)面和所述活塞的側(cè)面之間自由滑動(dòng)接觸；

液體供給裝置，其在所述第二室的內(nèi)部向所述活塞的側(cè)面供給規(guī)定的液體；

液體排出裝置，其從所述第二室排出所述規(guī)定的液體。

2.如權(quán)利要求1所述的注射泵，其特征在于，所述活塞不與所述缸體的內(nèi)側(cè)面滑動(dòng)接觸地在所述缸體的前后方向上進(jìn)行進(jìn)退，通過(guò)使所述第一室的體積發(fā)生變化，使所述處理液從所述噴出孔噴出。

3.如權(quán)利要求2所述的注射泵，其特征在于，所述液體供給裝置，通過(guò)在所述第二室內(nèi)貯存所述規(guī)定的液體，向所述活塞的側(cè)面供給所述規(guī)定的液體。

4.如權(quán)利要求2所述的注射泵，其特征在于，所述液體供給裝置，朝向在所述第二室內(nèi)配置的所述活塞的側(cè)面噴出所述規(guī)定的液體。

5.如權(quán)利要求3或4所述的注射泵，其特征在于，所述規(guī)定的液體是所述處理液的溶媒或者所述處理液。

6.如權(quán)利要求3或4所述的注射泵，其特征在于，還具有：

氣體供給裝置，其在所述第二室內(nèi)向被供給了所述規(guī)定的液體的所述活塞的側(cè)面供給規(guī)定的氣體；

氣體排出裝置，其從所述第二室排出所述規(guī)定的氣體。

7.如權(quán)利要求3或4所述的注射泵，其特征在于，在所述活塞的側(cè)面中，至少與所述第一密封部件以及所述第二密封部件滑動(dòng)接觸的部分為高原構(gòu)造表面。

8.如權(quán)利要求7所述的注射泵，其特征在于，所述高原構(gòu)造表面的輪廓的支承長(zhǎng)度率Rmr(c)，在輪廓的最大高度Rz的50％的斷面高度c下，為Rmr(c)≥70％，其中，該輪廓的支承長(zhǎng)度率Rmr(c)是在與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO4287對(duì)應(yīng)的JISB0601中規(guī)定的輪廓的支承長(zhǎng)度率Rmr(c)。

9.如權(quán)利要求7所述的注射泵，其特征在于，所述高原構(gòu)造表面的算術(shù)平均偏差Ra以及最大輪廓峰高Rp，為Ra≤0.08μm且Rp≤0.3μm，其中，該算術(shù)平均偏差Ra以及最大輪廓峰高Rp是在與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO4287對(duì)應(yīng)的JISB0601中規(guī)定的算術(shù)平均偏差Ra以及最大輪廓峰高Rp。

10.一種基板處理裝置，利用處理液對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，具有：

如權(quán)利要求1所述的注射泵，其噴出處理液；

處理液供給裝置，其將從所述注射泵噴出的所述處理液向基板的表面進(jìn)行供給。

11.如權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有：

設(shè)定裝置，其設(shè)定所述液體供給裝置動(dòng)作的定時(shí)；

控制裝置，其基于由所述設(shè)定裝置所設(shè)定的定時(shí)，使所述液體供給裝置動(dòng)作。