[發(fā)明專利]用以制造平面顯示器的曝光方法和光掩模

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710087774.2
• 申請(qǐng)日: 2007-03-19
• 公開（公告）號(hào): CN101271279A
• 公開（公告）日: 2008-09-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王程麒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 奇美電子股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G03F7/039;G03F1/00;G03F1/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 陶鳳波

1.?一種用以制造平面顯示器的曝光方法，包括：

提供基板，該基板上具有未定義的光致抗蝕劑層；

圖案化該光致抗蝕劑層，以形成初步圖案層，該初步圖案層具有第一解析度；

圖案化該初步圖案層，以形成一完整圖案層，該完整圖案層具有第二解析度，且該第二解析度高于該第一解析度。

2.?如權(quán)利要求1所述的方法，其中該光致抗蝕劑層采用正型光致抗蝕劑材料。

3.?如權(quán)利要求1所述的方法，其中該形成該初步圖案層的步驟中，還包括：

以初步成形光掩模在該光致抗蝕劑層上定義初步的圖案，以形成該初步圖案層。

4.?如權(quán)利要求3所述的方法，其中形成該初步圖案層所使用的曝光機(jī)，為近接式曝光機(jī)。

5.?如權(quán)利要求3的方法，其中該初步成形光掩模上的圖案，其線寬大于5μm。

6.?如權(quán)利要求1所述的方法，其中該形成該完整圖案層的步驟中，還包括：

以細(xì)部修飾光掩模在該初步圖案層上定義完整的圖案，以形成該完整圖案層。

7.?如權(quán)利要求6所述的方法，其中該形成該完整圖案層所使用的曝光機(jī)，為一步進(jìn)式曝光機(jī)(stepper)。

8.?如權(quán)利要求6所述的方法，其中該細(xì)部修飾光掩模上的圖案，其線寬小于或等于5μm。

9.?如權(quán)利要求1所述的方法，其中該形成該完整圖案層的步驟中，還包括：

以激光在該初步圖案層上定義完整的圖案，以形成該完整圖案層。

10.?一組用以制造平面顯示器的光掩模，包括：

初步成形光掩模，具有第一解析度；

細(xì)部修飾光掩模，具有第二解析度，該第二解析度高于該第一解析度；

其中，該初步成形光掩模用以在形成于基板上的光致抗蝕劑層上定義初步圖案，以形成初步圖案層，并以該細(xì)部修飾光掩模，在該初步圖案層上定義完整圖案，以形成完整圖案層。

11.?如權(quán)利要求10的光掩模，其中該初步成形光掩模上的圖案，其線寬大于5μm。

12.?如權(quán)利要求10的光掩模，其中該細(xì)部修飾光掩模上的圖案，其線寬小于或等于5μm。

13.?一種用以制造平面顯示器的曝光方法，包括：

提供基板，該基板上具有光致抗蝕劑層，其特征在于：

圖案化該光致抗蝕劑層，以形成初步圖案層，該初步圖案層具有第一解析度；以及

圖案化該初步圖案層，以形成完整圖案層，該完整圖案層具有第二解析度，且該第二解析度高于該第一解析度。