[發明專利]過濾裝置及其過濾方法與晶片制造方法有效
| 申請號: | 200710085664.2 | 申請日: | 2007-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN101053702A | 公開(公告)日: | 2007-10-17 |
| 發明(設計)人: | 郝鴻虎;曾國邦 | 申請(專利權)人: | 旺宏電子股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D5/00 | 分類號: | B01D5/00;B01D8/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 陶鳳波 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 過濾 裝置 及其 方法 晶片 制造 | ||
技術領域
本發明涉及一種過濾裝置及其過濾方法與晶片制造方法,且特別是涉及一種利用具有多個峰部和多個谷部的吸附元件的過濾裝置及其過濾方法與晶片制造方法。?
背景技術
在半導體制造工藝中,晶片必須通過許多道的工藝步驟以完成各種微電子元件和線路的布局。不論是沉積工藝(deposition?process)、氧化、擴散(diffusion?process)及蝕刻工藝(etching?process),均有可能在半導體機器中產生廢氣,且廢氣中摻雜微粒子。?
半導體機器具有反應室和排氣管。晶片在反應室中進行薄膜沉積工藝,制造工藝中所產生的廢氣將通過排氣管排出反應室。尤其是一些需在低壓下進行的沉積工藝,例如等離子增強化學氣相沉積法(plasma?enhanced?chemicalvapor?deposition,PECVD)或低壓化學氣相沉積法(low?pressure?chemicalvapor?deposition,LPCVD)。此類工藝必須使用抽氣泵(pump),通過排氣管抽出反應室內的氣體。抽氣泵啟動時可通過排氣管將反應室內的氣體抽出,以凈空反應室內的廢氣,或者是維持反應室在低壓狀態或真空狀態。?
反應室內的氣體經常伴隨著需多微粒子,例如氮化硅(silicon?nitride)。微粒子可能附著于排氣管的管壁而影響抽氣,或進入抽氣泵造成過載。因此,需通過冷凝井(cold?trap)來過濾氣體。?
傳統的冷凝井用以過濾氣體中的微粒子,氣體的溫度比冷凝井的溫度高。傳統的冷凝井包括冷凝室和圓柱狀冷凝元件。通過抽氣泵的抽氣運作,氣體可由冷凝室的一端從排氣管進入冷凝室,并由冷凝室的另一端離開冷凝室而進入抽氣泵。圓柱狀冷凝元件擺置于冷凝室中,且圓柱狀冷凝元件的溫度比進入冷凝室的氣體的溫度還低。當氣體于冷凝室中接觸圓柱狀冷凝元件的表面時,氣體的溫度劇降。因此,部分微粒子將被吸附于圓柱狀冷凝元件的表面。因此,冷凝井可過濾氣體的微粒子,以使微粒子避免附著于排氣管的管壁或抽氣泵內。
然而圓柱狀冷凝元件的表面較光滑且吸附面積較有限,導致圓柱狀冷凝元件對于氣體的微粒子的吸附效果受到局限。很快地,圓柱狀冷凝元件的吸附量在很短時間內將會達到飽和狀態,而無法繼續吸附氣體的微粒子。因此,操作人員就必須經常停止機器運作而更換或清洗圓柱狀冷凝元件。如此一來,圓柱狀冷凝元件過短的更換周期不僅降低機器的生產力,更增加人力的耗費,且增加操作人員更換圓柱狀冷凝元件時的危險性。?
發明內容
鑒此,本發明的目的就是在提供一種過濾裝置及其過濾方法與晶片制造方法。其利用具有多個峰部和多個谷部的吸附元件來增加其與氣體接觸的面積,可以更有效率地吸附氣體的微粒子。因此,大大地提高過濾裝置的過濾能力,避免面臨傳統的具有圓柱狀冷凝元件的冷凝井所遭遇的問題。如此一來,本發明不僅可延長吸附元件的更換周期而降低吸附元件更換頻率。更可提高機器的生產力,且降低操作人員更換吸附元件時的危險性。?
根據本發明的目的,提出一種過濾裝置,用以過濾氣體。氣體具有第一溫度。過濾裝置包括殼體、冷凝器及至少一個吸附元件。殼體具有進氣口、排氣口及冷凝室,進氣口用以供氣體進入冷凝室,排氣口用以供氣體離開冷凝室。冷凝器與殼體耦接,用以維持冷凝室內的溫度為第二溫度,第二溫度低于第一溫度。至少一個吸附元件設置于冷凝室中,并具有多個峰部和多個谷部。峰部和谷部交錯排列,峰部和谷部用以接觸氣體而吸附氣體中的微粒子。吸附元件對應于各峰部的壁厚大于吸附元件對應于各谷部的壁厚。?
根據本發明的再一目的,提出一種過濾方法,用以過濾氣體。氣體具有第一溫度。首先,提供至少一個吸附元件,吸附元件具有多個峰部和多個谷部,峰部和谷部交錯排列。維持吸附元件的溫度為第二溫度,第二溫度低于第一溫度。導引氣體流經吸附元件,使峰部和谷部接觸氣體而吸附氣體中的微粒子。?
根據本發明的另一目的,提出一種晶片制造方法。首先,置放晶片于反應室中。接著,提供第一溫度于反應室,以進行晶片的半導體制造工藝。然后,提供至少一個吸附元件。吸附元件具有多個峰部和多個谷部,峰部和谷部交錯排列。接著,維持吸附元件的溫度為第二溫度,第二溫度低于第一溫度。然后,導引反應室的氣體流經吸附元件,使峰部和谷部接觸氣體而吸附氣體中的微粒子。?
為讓本發明的上述目的、特征和優點能更明顯易懂,下文特舉優選實施例,并配合附圖,作詳細說明如下:?
附圖說明
圖1展示了依照本發明實施例一的過濾裝置的示意圖;?
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