[發明專利]用于設計精細圖案的方法和設備無效
| 申請號: | 200710085637.5 | 申請日: | 2007-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN101158807A | 公開(公告)日: | 2008-04-09 |
| 發明(設計)人: | 申在弼;金英一;柳文鉉;李鐘培 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/14 | 分類號: | G03F1/14;H01L21/00;H01L21/027;G06F17/50 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 戎志敏 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 設計 精細 圖案 方法 設備 | ||
本申請要求2006年10月2日向韓國知識產權局遞交的韓國專利申請No.10-2006-0097409的優先權,將其全部內容一并在此作為參考。
技術領域
本發明涉及一種用于設計精細圖案的方法和設備,具體地,涉及一種用于使用程序設計在襯底上曝光的精細圖案的方法和設備。
背景技術
由于半導體器件近來趨于高集成度的趨勢,用于形成半導體器件的圖案逐漸變得更加精細。因為減小了包括精細圖案的單獨器件的尺寸,也必須減小節距,即所需圖案的寬度和間隔。然而,用于形成圖案(例如線條和間隔圖案,下文中稱作“線條圖案”)的光刻法具有分辨率限制,從而限制了精細圖案的形成。
在半導體器件的生產中,精細圖案可以采用多種形式,在這些形式中,在美國專利申請No.6,603,688中公開了一種形成小尺寸隔板(spacer)的方法,將其合并在此作為參考;在韓國專利申請No.2005-0032297中公開了一種自對準方法,將其合并在此作為參考。必須將用于轉移精細圖案的掩模上的圖案實際地轉移到物體上。然而,還不存在用于設計完全轉移精細圖案的曝光圖案的方法和設備。
發明內容
本發明提出了一種設計精細圖案的方法,可以將精細圖案完全地轉移到物體上。
本發明還提出了一種用于執行以上設計方法的設備。
根據本發明的一個方面,提出了一種用于設計完全地轉移到物體上的精細圖案的方法。所述方法包括讀取用于曝光的精細圖案的原始數據。將精細圖案劃分為不需要修正的第一圖案和需要修正的第二圖案。通過形成輔助圖案來修正精細圖案,以便維持與第二圖案的第一距離D1。通過運行包括第一輔助圖案和第二輔助圖案的仿真程序來估計要轉移到目標物體上的精細圖案。將所估計的精細圖案與用于曝光的精細圖案的原始數據進行比較,并且如果所估計的精細圖案和用于曝光的精細圖案的原始之間沒有差別,指定已修正的精細圖案作為最終精細圖案。
在一個實施例中,劃分精細圖案的步驟包括:從多個多角精細圖案中選擇待劃分為第一和第二圖案的選定多角精細圖案;確定連接部分,用于將選定多角精細圖案劃分為四邊形形狀;以及通過去除連接部分來獲得已劃分的第一和第二圖案。
在劃分精細圖案之后,確定是否已經正確地執行將精細圖案劃分為第一和第二圖案的操作。如果還沒有不正確地執行將精細圖案劃分為第一和第二圖案的操作,重新選擇待劃分為第一和第二圖案的多角精細圖案。
在一個實施例中,所述方法還包括:在將精細圖案劃分為第一和第二圖案之后,檢查是否已經正確地執行將精細圖案劃分為第一和第二圖案的操作;以及如果已經正確地執行了劃分,重新附加連接部分。
在一個實施例中,所述方法還包括:在劃分第一和第二圖案之后,確定是否可以通過光刻形成第一和第二圖案;以及如果確定不能通過光刻形成第一和第二圖案,重新選擇待劃分為第一和第二圖案的多角精細圖案。
在形成輔助圖案時,輔助圖案可以是第一輔助圖案,獨立地形成所述第一輔助圖案以維持與具有寬度W1的第二圖案相距第一距離D1。一部分第一輔助圖案可以分開距離(W1+2×D1)。第一輔助圖案可以沿線形的第二圖案的周長、與第二圖案分開第一距離D1。第一輔助圖案可以具有與第二圖案的寬度W1相同的寬度W2。在形成輔助圖案時,輔助圖案可以是第二輔助圖案,所述第二輔助圖案附加到第一圖案上,并且維持與第一圖案相距第一距離D1。第二輔助圖案可以與線形的第二圖案的至少一側分開第一距離D1。第二輔助圖案可以具有比第二圖案的寬度W1小的寬度W3。
所述方法還可以包括:在形成輔助圖案之后形成修整圖案,用于去除第一和第二輔助圖案之間不必要的材料。通過修整圖案去除的不必要的材料可以是刻蝕工藝的殘留材料。
所述方法還可以包括:在估計精細圖案之后,檢查在第二圖案中是否存在凹口;以及當在第二圖案中存在凹口時形成輔助圖案。
根據本發明的另一個方面,提出了一種用于設計精細圖案的設備。所述設備包括讀取組件,讀取用于曝光的精細圖案的原始數據。所述設備還包括劃分組件,將精細圖案劃分為不需要修正的第一圖案和需要修正的第二圖案。所述設備包括修正組件,用于通過形成維持與第二圖案相距第一距離D1的輔助圖案,來對所述精細圖案進行修正。所述設備包括估計組件,通過運行包括第一輔助圖案和第二輔助圖案的程序,來估計要轉移到目標物體上的精細圖案。所述設備包括確定組件,將所估計的精細圖案與原始數據相比較,如果在所估計的精細圖案和用于曝光的精細圖案的原始數據之間沒有差別,指定已修正的精細圖案作為最終精細圖案。
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