[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 200710084317.8
• 申請日: 2007-02-27
• 公開（公告）號: CN101060066A
• 公開（公告）日: 2007-10-24
• 發明（設計）人: 水野博喜
• 申請（專利權）人: 大日本網目版制造株式會社
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 徐恕

技術領域

本發明涉及一種具有狹縫噴嘴的基板處理裝置中的基板搬送技術。

背景技術

一直以來，提出有在從狹縫噴嘴噴出藥液而在基板的表面形成薄膜的基板處理裝置中對基板進行搬送的技術。這種技術例如被記載在專利文獻1中。

在專利文獻1中提出有以下技術：通過使保持基板的往復搬運器(shuttle)在水平方向上移動，即所謂的往復搬運器搬送，來搬送基板。

專利文獻1：JP特開平11-274265號公報。

但是，在上述的往復搬運器搬送中具有這樣的問題：由于搬送單元和涂敷單元沿涂敷單元的涂敷方向配置，所以當在搬送單元側使狹縫噴嘴等待時，待機狀態的狹縫噴嘴和搬送基板的往復搬運器會發生干擾。

還有這樣的問題：由于往復搬運器是僅保持基板的側端部的結構，所以當基板大型化時，所保持的基板的中央部有可能會彎曲、破損。

進而，在往復搬運器搬送中有這樣的問題：由于搬送基板的高度位置被固定，所以裝置設計的自由度降低。

發明內容

本發明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于提供一種具有狹縫噴嘴的基板處理裝置，能夠適當地搬送基板。

為了解決上述的問題，技術方案(1)的發明是一種基板處理裝置，用于在方形基板的表面形成薄膜，其特征在于，具有：涂敷單元，其從狹縫噴嘴噴出處理液的同時，使上述狹縫噴嘴沿涂敷方向移動，向基板的表面涂敷處理液，其中，上述狹縫噴嘴沿著在水平面內與上述涂敷方向垂直的方向延伸；搬送單元，其用于一邊從在水平面內與上述涂敷方向垂直的方向保持上述方形基板，一邊將上述方形基板搬入上述涂敷單元以及/或者將上述方形基板從上述涂敷單元搬出；上述涂敷單元以及上述搬送單元沿著在水平面內與上述涂敷方向垂直的方向排列。

還有，技術方案(2)的發明的特征是在技術方案(1)所述的基板處理裝置中，上述搬送單元還具有升降裝置，該升降裝置使方形基板升降。

技術方案(3)的發明的特征是在技術方案(2)所述的基板處理裝置中，還具有后處理單元，該后處理單元對上述涂敷單元中的處理結束后的方形基板進行后處理，上述后處理單元和上述搬送單元形成多級結構。

技術方案(4)的發明的特征是在技術方案(1)至(3)中任一項所述的基板處理裝置中，上述搬送單元具有支承方形基板的中央部的支承構件。

在技術方案(1)至(4)所記載的基板處理裝置中，通過涂敷單元以及搬送單元沿與涂敷方向垂直的方向排列，從而在涂敷單元中，增大使狹縫噴嘴等待的位置的自由度。

在技術方案(2)所記載的基板處理裝置中，通過搬送單元還具有使基板升降的升降機構，從而進一步增大裝置設計的自由度。特別是由于能夠自由設計涂敷單元中的基板的高度位置，所以能夠容易地應對基板的大型化。

在技術方案(3)記載的基板處理裝置中，后處理單元和上述搬送單元形成多級結構，由此能夠抑制占有面積的增大。

在技術方案(4)記載的基板處理裝置中，由于具有支承基板中央部的支承構件，由此能夠抑制搬送中的基板的撓曲，從而能夠容易地應對基板的大型化。

附圖說明

圖1是表示具有本發明的基板處理裝置的基板處理系統的圖。

圖2是表示涂敷單元的圖。

圖3是表示搬送機械手的俯視圖。

圖4是表示搬送機械手以及涂敷單元的側視圖。

圖5是表示搬送機械手的俯視圖。

圖6是表示搬送機械手的側視圖。

圖7是表示干燥單元以及搬送傳送帶的圖。

具體實施方式

以下，針對本發明的優選實施方式，參照附圖進行詳細地說明。

<1.實施方式>

圖1是表示具有本發明的基板處理裝置1的基板處理系統的圖。

此外，在圖1中，為了便于圖示以及說明，特定義Z軸方向表示鉛垂方向、XY平面表示水平面，但是這些是為了把握位置關系方便而定義的，并不是限定以下說明的各方向。對于以下的圖也是同樣。

基板處理系統除了具有基板處理裝置1之外，還具有搬入要進行處理的基板90的搬入部2、清洗基板90而使其清潔化的清洗部3、以及將基板90調節到規定溫度的溫度調節部40、41、42。基板處理系統將用于制造液晶顯示裝置的畫面面板的方形玻璃基板作為被處理基板90。

此外，雖然沒有詳細圖示，但是溫度調節部40、41、42具有加熱基板90的加熱單元(加熱板)、冷卻基板90的冷卻單元(冷卻板)、以及在這些單元之間搬送基板90的搬送單元。