[發(fā)明專利]靶材以及該靶材所制造的薄膜無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710078740.7 | 申請日: | 2007-02-17 |
| 公開(公告)號: | CN101245443A | 公開(公告)日: | 2008-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李仲仁;趙勤孝;毛慶中 | 申請(專利權(quán))人: | 光洋應(yīng)用材料科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;C23C14/14;H01L31/0216 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 黃健 |
| 地址: | 臺灣省*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 以及 制造 薄膜 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明主要是關(guān)于一種靶材,尤其是指一種具有IB-IIIA-VIA元素組成的靶材,其可應(yīng)用于濺鍍制造太陽能電池的薄膜。?
背景技術(shù)
在石化燃料逐漸缺乏的時代,加上全球氣候變遷以及空氣污染等問題日益嚴(yán)重,替代性能源的應(yīng)用愈來愈受到人們重視,而其中太陽能電池(solarcell)因具有可提供低廉且源源不絕電力的潛力而受到注目。目前的產(chǎn)品中,太陽能電池粗略可分為:?
(1)芯片型(wafer?type)太陽能電池:包含單晶(single?crystal)硅及多晶(polycrystalline)硅;以及?
(2)薄膜型(thin?film?type)太陽能電池。?
雖然硅芯片型太陽能電池為目前市場主流,但因其為間接能隙(indirectenergy?gap),因此需要較厚的硅材料做為吸收層(absorber);而薄膜型太陽能電池中具有IB-IIIA-VIA元素組成(如CuInGaSe2,CIGS)的材料為直接能隙(direct?energy?gap),且光的吸收效率很高,加上可藉由In/Ga成分的比例來調(diào)整能隙的大小,因此僅需很薄一層材料即可產(chǎn)生高光電轉(zhuǎn)換效率,故可大幅節(jié)省材料,降低太陽能電池制作成本。因此具有IB-IIIA-VIA元素組成的太陽能電池為未來前展性極佳的產(chǎn)品。?
CIGS薄膜的制作方式有化學(xué)氣相沉積法(CVD,chemical?vapordeposition,如美國專利第5474939號專利所揭示)、物理氣相沉積法(PVD,physical?vapor?deposition,如美國專利第5141564號專利所揭示)及液相沉積?法(LPE、liquid?phase?deposition)等;其中屬于物理氣相沉積法的濺鍍法(sputter)為可提供工藝低廉且薄膜特性佳的方法,但目前并沒有具完整元素組成的CIGS濺鍍靶材(target),因此CIGS薄膜并無法直接以濺鍍法制造。?
目前CIGS薄膜的制造方法是先于基板上沉積先驅(qū)物(precursor),再經(jīng)由硒化(selenization)工藝的熱化學(xué)反應(yīng)形成CIGS薄膜(如日本第10-135495號專利所揭示),然而此工藝相當(dāng)繁瑣。?
此外,于日本第2000-73163號專利中,獲原淳一郎等人利用鑄造(casting)方法來制作Cu-Ga(銅-鎵)合金靶材,藉由控制降溫速率使得具脆性(brittle)的Cu-Ga合金在冷卻過程中不會裂開;另外,于中國第1719626號專利中,莊大明等人也使用鑄造方式來制作Cu-Ga合金靶材。雖然鑄造可獲得高密度及低氧含量的靶材,但該銅鎵二元合金應(yīng)用于制作太陽能電池的吸收層時,需使用較繁雜的共濺鍍(Co-sputtering)或多道濺鍍(multi-sputtering)程序,甚至還需加上硒化(selenization)方法,這樣才能制作出CIGS系列的合金薄膜,因此工藝上也相當(dāng)復(fù)雜;另外,熔煉(melting)Cu-Ga二元合金時,因Ga的蒸汽壓很高,使得鑄件(ingot)的成分不易控制;再者,鑄造會衍生縮孔(shrinkage)及成分偏析(segregation)等問題。?
綜上所述,如何制作具有完整元素成分的IB-IIIA-VIA靶材為使用濺鍍工藝制造CIGS太陽能電池的關(guān)鍵瓶頸,若能提供一含完整成分的CIGS靶材,則可大幅降低工藝復(fù)雜度,也可降低太陽能電池的制造成本。?
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于現(xiàn)有CIGS薄膜的制作工藝相當(dāng)繁瑣,本發(fā)明的目的在于提供一種靶材,其可應(yīng)用于制造具有IB-IIIA-VIA元素組成的薄膜。?
本發(fā)明的另一目的在于提供一種以該靶材所制作的薄膜,其可應(yīng)用于太陽能電池上,而可以較低廉的制造成本制造太陽能電池。?
為達(dá)到所述的目的,本發(fā)明的靶材的元素組成為IBx-IIIAy-VIAz;其中,?
IB選自于以下群組中的至少一種:Cu及Ag;?
IIIA選自于以下群組中的至少一種:In及Ga;?
VIA選自于以下群組中的至少一種:S、Se及Te;?
x為IB含量的原子百分比、y為IIIA含量的原子百分比、z為VIA含量的原子百分比,且滿足0<x<1、0<y<1、0<z<1,x+y+z=1。?
本發(fā)明的靶材的制作方法包含以下步驟:?
形成預(yù)合金:將一靶材元素與靶材元素組成中一種以上的其它元素合成預(yù)合金;?
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





