[發明專利]真空吸附定位裝置無效
| 申請號： | 200710075297.8 | 申請日： | 2007-07-25 |
| 公開（公告）號： | CN101352845A | 公開（公告）日： | 2009-01-28 |
| 發明（設計）人： | 劉高文;陳志強;文濤 | 申請（專利權）人： | 深圳富泰宏精密工業有限公司 |
| 主分類號： | B25B11/00 | 分類號： | B25B11/00;B29C33/18 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 吸附 定位 裝置 | ||
1.一種真空吸附定位裝置，用于吸附定位一鑲嵌件，其特征在于：該真空吸附定位裝置包括一真空發生器、一定位裝置及若干氣管，該定位裝置具有一用于定位該鑲嵌件于其上的定位面，該定位裝置貫穿開設若干氣道，并于該定位面上對應形成若干吸附孔，該真空發生器通過氣管與該氣道相連通。
2.如權利要求1所述的真空吸附定位裝置，其特征在于：所述真空吸附定位裝置還包括一控制閥，用于控制氣管的連通及斷開。
3.如權利要求2所述的真空吸附定位裝置，其特征在于：所述真空吸附定位裝置還包括一控制中心，用于控制該控制閥的開啟及關閉。
4.如權利要求3所述的真空吸附定位裝置，其特征在于：所述真空吸附定位裝置還包括一壓力傳感器，該壓力傳感器通過氣管與真空發生器連接，并與該控制中心電連接，該壓力傳感器用于感測其所受到的壓力值，并將該壓力值轉化為電信號傳送給控制中心。
5.如權利要求4所述的真空吸附定位裝置，其特征在于：所述控制中心為單片機或可編程控制器。
6.如權利要求4所述的真空吸附定位裝置，其特征在于：所述控制閥為一電磁閥。
7.如權利要求1所述的真空吸附定位裝置，其特征在于：所述定位裝置為一模具，該模具包括一公模及一母模，該公模具有一模仁，該定位面設置于該模仁上，該氣道貫穿開設于該公模上，并于該定位面上形成該吸附孔。
8.如權利要求1所述的真空吸附定位裝置，其特征在于：所述定位面突設若干定位柱，該鑲嵌件具有若干定位孔，該定位柱容置于該定位孔內。
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