[發(fā)明專利]多溫區(qū)防爆式多晶體合成裝置及其方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710072455.4 | 申請日: | 2007-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN101092753A | 公開(公告)日: | 2007-12-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王猛;楊春暉;朱崇強;孫彧;馬天慧;夏士興;呂維強 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學 |
| 主分類號: | C30B35/00 | 分類號: | C30B35/00;C30B28/00 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 | 代理人: | 徐愛萍 |
| 地址: | 150001黑龍江*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多溫區(qū) 防爆 多晶體 合成 裝置 及其 方法 | ||
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及一種晶體材料的合成裝置及其合成方法
背景技術(shù)
二十世紀六十年代末,人們就已經(jīng)了解到黃銅礦類半導體晶體材料具有兩個突出的優(yōu)點,一是非線性光學系數(shù)很高,二是遠紅外區(qū)透過率很高。利用它這兩個優(yōu)點作為參量振蕩、光參量放大、二次諧波傳輸、四次諧波傳輸?shù)鹊姆蔷€性介質(zhì)材料,可以在中、遠紅波段的頻率轉(zhuǎn)換方面,尤其是對激光功率要求較高的領域,獲得廣闊的應用前景,如紅外光譜、紅外醫(yī)療器械、藥物檢測、紅外光刻、大氣中有害物質(zhì)的檢測、遠距離化學傳感、紅外激光定向干擾、夜視儀等。現(xiàn)有的多晶體合成裝置大多采用單回路控制,難以實現(xiàn)溫場精細調(diào)節(jié),導致多晶體產(chǎn)物純度較低。合成過程中由于產(chǎn)生的原料蒸氣難以迅速消耗,蒸氣壓過大,石英管易爆裂,導致合成失敗,甚至造成爐體受損。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決了現(xiàn)有多晶體合成裝置中存在的難以實現(xiàn)溫場精細調(diào)節(jié),導致多晶體產(chǎn)物純度較低。合成過程中由于產(chǎn)生的原料蒸氣難以迅速消耗,蒸氣壓過大,石英管易爆裂,導致合成失敗,甚至造成爐體受損的問題,而提出了一種多溫區(qū)防爆式多晶體合成裝置及其方法。
本發(fā)明包括爐體、石英管4、耐高溫不銹鋼管5、監(jiān)測熱電偶6、顯示裝置7、保護帽?10和控溫組件14;爐體由外壁1和保溫層2組成,外壁1內(nèi)部設置有保溫層2,爐體的中軸線位置貫穿有耐高溫不銹鋼管5,耐高溫不銹鋼管5的兩端置于爐體的外部,保護帽10固定在耐高溫不銹鋼管5的兩端,保護帽10上開有熱電偶插孔13,監(jiān)測熱電偶6插固于保護帽10上,監(jiān)測熱電偶6的測量端置于耐高溫不銹鋼管5內(nèi),監(jiān)測熱電偶6的參比端連接于顯示裝置7的輸入端,控溫組件14由加熱線圈3、控溫熱電偶9和控溫裝置8組成;控溫組件14兩組為一對,爐體軸向上至少均勻分布有一對控溫組件14,加熱線圈3均勻嵌放在保溫層2的一段內(nèi)壁上,每一段內(nèi)壁長度相加為整體保溫層2的總長度,控溫熱電偶9的測量端鄰近加熱線圈3,控溫熱電偶9的參比端置于爐體外部連接控溫裝置8的輸入端,控溫裝置8的控制端連接加熱線圈3的受控端;石英管4放置于耐高溫不銹鋼管5的腔體內(nèi)。
本發(fā)明的方法步驟如下:
步驟一:將合成原料分類放入石英管4兩端;
步驟二:石英管4抽真空并密封后至于耐高溫不銹鋼管5腔體內(nèi),固定螺絲11將保護帽10固定在耐高溫不銹鋼管5的兩端,兩個監(jiān)測熱電偶6的測量端分別通過熱電偶插孔13插入到耐高溫不銹鋼管5的空腔中,顯示裝置7顯示合成過程中原料溫度的實時變化監(jiān)測溫度值;
步驟三:??加熱線圈3開始加熱,加熱分為兩個階段,第一次加溫和第二次加溫,升溫過程中爐內(nèi)分為兩個溫區(qū),第一溫區(qū)和第二溫區(qū);
進行第一次加溫,第一溫區(qū)和第二溫區(qū)分別設定一個第一設定值,第一溫區(qū)的第一設定值a小于第二溫區(qū)的第一設定值b,將第一設定值輸入到控溫裝置8中,控溫裝置8控制加熱線圈3加溫3~5h到達第一設定值,之后保持爐溫不變3~8h;
進行第二次加溫,第一溫區(qū)和第二溫區(qū)分別設定一個第二設定值,第二溫區(qū)的第二設定值d與第二溫區(qū)的第一設定值b相同,第一溫區(qū)的第二設定值c大于或等于第二溫區(qū)的第一設定值b,將第二設定值再次輸入到控溫裝置8中,控溫裝置8控制加熱線圈3加溫3h到達第二設定值,之后保持爐溫不變10~18h,直至反應充分;
步驟四:降低爐內(nèi)溫度,降溫速率為50~300K/h,冷卻至室溫,得到多晶體。
采用本發(fā)明所述的多晶體合成裝置,爐內(nèi)溫場可精細調(diào)節(jié),穩(wěn)定性極佳。在這樣的溫度環(huán)境下,合成的多晶體純度更高。多晶體合成由兩個階段組成,.能產(chǎn)生的高壓氣體的原料在階段一就已大量反應消耗,如圖4和圖5所示,可有效的避免合成過程中石英管的爆裂。
附圖說明
圖1是本發(fā)明外部結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本發(fā)明合成裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;圖3是保護帽10的主視圖;圖4是磷的溫度-蒸氣壓圖,圖5是硫的溫度-蒸氣壓圖。
具體實施方式
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