[發明專利]餾出物噴射式真空蒸餾技術有效
| 申請號： | 200710071487.2 | 申請日： | 2007-09-29 |
| 公開（公告）號： | CN101219286A | 公開（公告）日： | 2008-07-16 |
| 發明（設計）人： | 吳兆立 | 申請（專利權）人： | 吳兆立 |
| 主分類號： | B01D3/10 | 分類號： | B01D3/10;C07C213/10 |
| 代理公司： | 杭州中成專利事務所有限公司 | 代理人： | 唐銀益 |
| 地址： | 310030浙江省杭州市西*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 餾出物 噴射式 真空 蒸餾 技術 | ||
【權利要求書】：
1.一種餾出物噴射式真空蒸餾技術，其特征在于，利用真空蒸餾塔的餾出物作為噴射介質，將其射過液力真空泵，以成為真空蒸餾塔的真空源。
2.根據權利要求1所述的餾出物噴射式真空蒸餾技術，其特征在于，所述真空蒸餾塔的真空源的絕壓為50～500mmHg。
3.根據權利要求1所述的餾出物噴射式真空蒸餾技術，其特征在于，在乙醇胺反應真空脫水時，所述噴射介質是脫水得到的含氨的水，此時脫水蒸餾塔頂絕壓保持在250～380mmHg。
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