[發明專利]一種等離子廢氣凈化裝置無效
| 申請號： | 200710065423.1 | 申請日： | 2007-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN101091872A | 公開（公告）日： | 2007-12-26 |
| 發明（設計）人： | 史啟媛 | 申請（專利權）人： | 北京藍景創新科技有限公司 |
| 主分類號： | B01D53/74 | 分類號： | B01D53/74;B01J19/08;H05H1/00 |
| 代理公司： | 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 | 代理人： | 吳小燦 |
| 地址： | 100085北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子 廢氣 凈化 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.等離子廢氣凈化裝置，包括具有廢氣進口和氣體出口的廢氣通道，以及在廢氣通道上設置的高頻離子發生器，其特征在于：在氣體出口與高頻離子發生器之間還設置有高頻射線發生器，并在高頻射線發生器與高頻離子發生器之間形成粒子反應室。
2.根據權利要求1所述的等離子廢氣凈化裝置，其特征在于：所述廢氣通道具有夾層結構，所述廢氣進口處設置有緩沖預處理室，所述高頻離子發生器的上游側設置有二級氣室，廢氣從緩沖預處理室通過夾層結構的夾層氣室進入二級氣室。
3.根據權利要求1所述的等離子廢氣凈化裝置，其特征在于：所述高頻射線發生器與氣體出口之間設置有消聲凈化室，該消聲凈化室附設有顆粒收集器。
4.根據權利要求1所述的等離子廢氣凈化裝置，其特征在于：所述高頻離子發生器通過高比表面積的納米材料燒結于改性的陶瓷材料表面形成耐高壓的電場發射區激發等離子對氣體中有害物的降解。
5.根據權利要求1所述的等離子廢氣凈化裝置，其特征在于：所述高頻射線發生器通過利用納米技術制備的對人體無害的輻射高分子材料產生的射線來降解氣體中的有害物質。
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