[發(fā)明專利]小晶粒低硅/鋁比的X沸石的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710064099.1
• 申請日: 2007-02-28
• 公開（公告）號: CN101254928A
• 公開（公告）日: 2008-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王輝國;王德華;馬劍鋒;郁灼
• 申請（專利權(quán)）人: 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油化工科;學(xué)研究院
• 主分類號: C01B39/22
• 分類號: C01B39/22
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 王景朝;龐立志

1.?一種制備晶粒尺寸為0.2～1.2微米、氧化硅/氧化鋁摩爾比為2.0～2.3的X沸石的方法，包括如下步驟：

(1)將含硅化合物、含鋁化合物、氫氧化鈉和水按(12～20)Na₂O∶Al₂O₃∶(8～20)SiO₂∶(140～320)H₂O的摩爾比混合均勻，15～50℃老化制成導(dǎo)向劑，

(2)將含硅化合物、氫氧化鈉、水和硫酸溶液或水溶性硫酸鹽混合，攪拌下加入含鋁化合物制成凝膠，向所得凝膠中加入(1)步制備的導(dǎo)向劑，得到摩爾組成為(2.5～5.0)Na₂O∶Al₂O₃∶(2.4～3.0)SiO₂∶(0.5～2.0)SO₄^2-∶(80～200)H₂O的混合物，然后于80～120℃靜止晶化0.5～3.0小時，再水洗、過濾、干燥。

2.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于(1)步制備導(dǎo)向劑的老化溫度為20～40℃，老化時間為2～30小時。

3.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于(1)步制備的導(dǎo)向劑的摩爾組成為(15～20)Na₂O∶Al₂O₃∶(10～18)SiO₂∶(200～320)H₂O。

4.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于(2)步所述混合物的摩爾組成為(3.5～5.0)Na₂O∶Al₂O₃∶(2.8～3.0)SiO₂∶(0.5～1.5)SO₄^2-∶(140～180)H₂O。

5.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于(2)步中所用的硫酸溶液的濃度為0.5～4.0mol/L。

6.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于所述的水溶性硫酸鹽選自硫酸鈉、硫酸鋁、硫酸鎂或硫酸銨。

7.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于(2)步中加入的導(dǎo)向劑為反應(yīng)總混合物的0.2～5.0質(zhì)量％。

8.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于所述的含硅化合物選自硅酸鈉或硅溶膠。

9.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于所述的含鋁化合物選自鋁酸鈉或偏鋁酸鈉。

10.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于(2)步中加入導(dǎo)向劑后制備晶化前混合物的溫度為10～35℃。

11.?按照權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于(2)步所述的晶化時間為1.0～2.0小時。