[發明專利]聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法

有效

• 申請號: 200710051000.4
• 申請日: 2007-12-27
• 公開（公告）號: CN101225221A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發明（設計）人: 楊剛;繆培凱;唐文睿;曾科;唐艷;周柯;王宜鵬;周鴻飛;劉韜;趙春娥;徐國亮;周韶鴻;洪海兵
• 申請（專利權）人: 四川大學
• 主分類號: C08L67/04
• 分類號: C08L67/04;C08J7/18;C08K5/3492;B29C71/04;C08L3/02;C08L1/02;C08K3/00
• 代理公司: 成都科海專利事務有限責任公司
• 代理人: 黃幼陵;馬新民

1.聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于將聚乳酸或聚乳酸共聚物與填料、交聯劑在室溫混合均勻制備成復合材料，然后將所述復合材料加工成制品置于氮氣氛圍或真空環境中，在室溫用電子束輻射，輻射劑量為10～180kGy。

2.根據權利要求1所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于制備復合材料時，填料與聚乳酸或聚乳酸共聚物的質量比為5∶100～60∶100；交聯劑與聚乳酸或聚乳酸共聚物的質量比為0.5∶100～10∶100。

3.根據權利要求1或2所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于填料至少為淀粉、纖維素、甘油、明膠、碳酸鈣、硅藻土、二氧化硅、磷酸鈣、炭黑、聚乙烯醇中的一種。

4.根據權利要求1或2所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于交聯劑至少為三聚氰酸三烯丙酯、三烯丙基季戊四醇、四烯丙基季戊四醇、異氰脲酸三烯丙基酯、三羥甲基丙烷三烯丙基醚中的一種。

5.根據權利要求3所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于交聯劑至少為三聚氰酸三烯丙酯、三烯丙基季戊四醇、四烯丙基季戊四醇、異氰脲酸三烯丙基酯、三羥甲基丙烷三烯丙基醚中的一種。

6.根據權利要求1或2所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于所述氮氣氛圍或真空環境是指氧氣濃度為大于0～2000mg/L。

7.根據權利要求3所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于所述氮氣氛圍或真空環境是指氧氣濃度為大于0～2000mg/L。

8.根據權利要求4所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于所述氮氣氛圍或真空環境是指氧氣濃度為大于0～2000mg/L。

9.根據權利要求5所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于所述氮氣氛圍或真空環境是指氧氣濃度為大于0～2000mg/L。

10.根據權利要求9所述的聚乳酸及其共聚物復合材料的電子束輻射改性方法，其特征在于所述電子束為低能或中能或高能電子束，低能電子束的能量為0.15～0.5MeV，中能電子束的能量為大于0.5～5MeV，高能電子束的能量為大于5～10MeV。