[發明專利]多層化合物合成爐裝置有效
| 申請號： | 200710049885.4 | 申請日： | 2007-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN101118111A | 公開（公告）日： | 2008-02-06 |
| 發明（設計）人： | 侯仁義 | 申請（專利權）人： | 侯仁義 |
| 主分類號： | F27B5/02 | 分類號： | F27B5/02;F27B5/06;C01B19/04 |
| 代理公司： | 成都科海專利事務有限責任公司 | 代理人： | 鄧繼軒 |
| 地址： | 610065四川省*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 多層 化合物 合成 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.多層化合物合成爐裝置，其特征在于該裝置的合成爐(1)內設保溫層(2)、加熱絲(3)、隔熱板(4)和合成反應管(5)，合成爐的爐腔內用隔熱板分隔為多個合成室，每個合成室內放置多個合成反應管，控制爐腔內部的熱場溫度梯度≤±5℃/cm。
2.如權利要求1所述多層化合物合成爐裝置用于碲化鎘、碲化鋅和碲化鉛的合成。
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