[發明專利]一種可提高成品率的光罩有效
| 申請號: | 200710046838.4 | 申請日: | 2007-10-09 |
| 公開(公告)號: | CN101408723A | 公開(公告)日: | 2009-04-15 |
| 發明(設計)人: | 劉慶煒 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所 | 代理人: | 屈 蘅;李時云 |
| 地址: | 2012*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 成品率 | ||
1.一種可提高成品率的光罩,其上具有至少一孤立器件圖形和多個設置在該孤立器件圖形周圍且用于增大其工藝窗口的散射條紋,該散射條紋具有一條狀本體,其特征在于,該條狀本體兩側邊上設置有多個支腳,該支腳包括設置在條狀本體兩末端的兩末端支腳對和多個設置在兩末端支腳對間及條狀本體上的內部支腳對,該末端支腳對由兩第一長方塊組成,該兩第一長方塊的長邊對稱設置在該條狀本體末端的兩側邊上,該第一長方塊的長為20至40納米,寬為4至5納米,該內部支腳對由兩第二長方塊組成,該兩第二長方塊的寬邊對稱設置在該條狀本體兩側邊上,該第二長方塊的長為4至5納米,寬為2至3納米,該條狀本體的寬度為40至50納米。
2.如權利要求1所述的可提高成品率的光罩,其特征在于,該光罩上還具有非孤立器件圖形。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





