[發明專利]電容器、硅基液晶顯示器及制作方法有效
| 申請號: | 200710046497.0 | 申請日: | 2007-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN101398578A | 公開(公告)日: | 2009-04-01 |
| 發明(設計)人: | 劉偉;傅靜;毛劍宏;韓軼男 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 | 代理人: | 逯長明 |
| 地址: | 201203*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電容器 液晶顯示器 制作方法 | ||
技術領域
本發明涉及硅基液晶(LCOS,Liquid?Crystal?On?Silicon)顯示器及其制作方法,特別涉及在制作硅基液晶顯示器的過程中,電容器及其制作方法。
背景技術
近幾年來,在液晶(LC)業界出現了許多新技術,其中較熱門的技術是硅基液晶顯示器技術。LCOS屬于新型的反射式micro?LCD投影技術,其結構是在硅基片上長電晶體,利用半導體工藝制作驅動面板(又稱為CMOS-LCD),然后在電晶體上透過研磨技術磨平,并鍍上鋁當作微反射鏡,形成CMOS基板,然后將CMOS基板與含有透明電極之上玻璃基板貼合,再抽入液晶,進行封裝測試。
與傳統的液晶顯示器(LCD)及數字光學工藝(DLP,Digital?LightProcessing)技術相比,LCOS具有下列技術優勢:a.光利用效率高:LCOS與LCD技術類似,主要的差別就是LCOS屬反射式成像,所以光利用效率可達40%以上,與DLP相當,而穿透式LCD僅有3%左右;b.體積小:LCOS可將驅動IC等外圍線路完全整合至CMOS基板上,減少外圍IC的數目及封裝成本,并使體積縮小;c.分辨率高:由于LCOS的晶體管及驅動線路都制作于半導體基底內,位于反射面之下,不占表面面積,所以僅有像素間隙占用開口面積,不像穿透式LCD的薄膜晶體管(TFT,Thin?Film?Transistor)及導線皆占用開口面積,故LCOS不論分辨率或開口率都會比穿透式LCD高;d.制造技術較成熟:LCOS的制作可分為前道的半導體CMOS制造及后道的液晶面板貼合封裝制造。前道的半導體CMOS制造已有成熟的設計、仿真、制作及測試技術,所以目前良率已可達90%以上,成本極為低廉;至于后道的液晶面板貼合封裝制造,雖然目前的良率只有30%,但由于液晶面板制造已發展得相當成熟,理論上其良率提升速率應遠高于數字微鏡芯片(DMD,digitalmicromirror?device),所以LCOS應比DLP更有機會成為技術的主流。因此LCOS技術在數碼相機、數碼攝像機、投影機外、監視器、大尺寸電視、移動電話等應用市場,都深具發展潛力。
LCOS技術中每個像素開關電路由一個MOSFET和一個電容組成,在常規工藝中,電容占整個像素面積的一半,但是隨著電路面積的減小,電容面積縮小,這在實際使用中會增加刷新頻率。為了增大電容,專利號為6437839的美國專利公開了一種具有多個電容的LCOS像素。其中硅基液晶顯示器中金屬-絕緣層-金屬電容器的制作方法,如圖1所示,在包含像素開關層等結構的半導體基底100上形成第一金屬層;在第一金屬層上采用光刻技術形成圖案化第一光阻層(圖未示);以第一光阻層為掩膜,采用蝕刻技術在第一金屬層中形成島狀的連接鏡面墊層103和光屏蔽層102a,形成所述光屏蔽層102a的目的是防止漏光進入半導體基底100中的電路器件,則影響電路性能以及壽命,因此需要專門用一層金屬來遮光。所述連接鏡面墊層103和光屏蔽層102a之間的填充間隙103a使得連接鏡面墊層103和光屏蔽層102a相互絕緣隔離,所述連接鏡面墊層103通過導電插塞與半導體基底100的像素開關層連接。
如圖2所示,去除第一光阻層;在光屏蔽層102a、連接鏡面墊層103上以及間隙103a內采用高密度等離子體化學氣相沉積技術形成氧化硅層104;用化學機械研磨法平坦化氧化硅層104至露出光屏蔽層102a、連接鏡面墊層103,氧化硅層104用于光屏蔽層102a和連接鏡面墊層103之間的隔離;在光屏蔽層102a、連接鏡面墊層102和填充在間隙103a內的氧化硅層104的表面上形成絕緣層106;在絕緣層106上形成圖案化第二光阻層(圖未示);以第二光阻層為掩膜,用等離子蝕刻法蝕刻絕緣層106,形成開口107,所述開口107暴露出部分連接鏡面墊層103。
如圖3所示,在絕緣層106以及開口107內形成第二金屬層,所述開口107內填充的金屬材料把第二金屬層和連接鏡面墊層103相電連接,所述第二金屬層采用反射率比較大的金屬材料,可以為鋁、銅以及它們形成的合金;平坦化第二金屬層,形成微反射鏡面108a,其中光屏蔽層102a、絕緣層106與微反反射鏡面108a構成了金屬-絕緣層-金屬電容器,光屏蔽層102a為電容器第一電極,微反射鏡面108a為電容器第二電極。
在如下中國專利申請200310122960還可以發現更多與上述技術方案相關的信息,由光屏蔽層、絕緣層與微反射鏡面構成了金屬-絕緣層-金屬電容器。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中芯國際集成電路制造(上海)有限公司,未經中芯國際集成電路制造(上海)有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710046497.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





