[發明專利]光學鄰近校正的方法有效
| 申請號： | 200710044547.1 | 申請日： | 2007-08-03 |
| 公開（公告）號： | CN101359178A | 公開（公告）日： | 2009-02-04 |
| 發明（設計）人： | 劉慶煒 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/14 | 分類號： | G03F7/14 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人： | 王潔 |
| 地址： | 2012*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 鄰近 校正 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于半導體層的光學鄰近校正的方法，所述半導體層的表面具有一最佳聚焦平面和一散焦平面，其特征在于，所述的半導體層包括兩個多晶硅層，兩個多晶硅層不相交的表面為最佳聚焦平面，兩個多晶硅層相交的表面為散焦平面，所述的兩個多晶硅層的相交區域的厚度大于兩個多晶硅層未相交區域的厚度，所述方法包括以下步驟：
首先使用用于最佳聚焦平面的光學鄰近校正模型對半導體層表面的最佳聚焦平面進行光學鄰近校正；
再使用用于散焦平面的光學鄰近校正模型對半導體層表面的散焦平面進行光學鄰近校正。
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