[發明專利]聚酰亞胺類微孔分離膜的制備方法無效
| 申請號： | 200710039945.4 | 申請日： | 2007-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN101053786A | 公開（公告）日： | 2007-10-17 |
| 發明（設計）人： | 周瑞敏;吳新鋒;郝旭峰;周菲;王智濤;貴舜延;鄧邦俊 | 申請（專利權）人： | 上海大學 |
| 主分類號： | B01D71/46 | 分類號： | B01D71/46;B01D67/00 |
| 代理公司： | 上海上大專利事務所 | 代理人： | 顧勇華 |
| 地址： | 200444*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 聚酰亞胺 微孔 分離 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種聚酰亞胺類微孔分離膜的制備方法，其特征在于具有以下的過程和步驟：
a.首先用去離子水配制H2SO4和K2Cr2O7的蝕刻混合溶液，其中H2SO4溶液的濃度為6～10mol/L，K2Cr2O7溶液的濃度為0.1～0.3mol/L；
b.將具有微孔圖案的金屬模板覆蓋在高分子聚酰亞胺類薄膜上，然后采用常規的電子加速器，在該電子加速器所產生的電子束輻照下進行輻照，其輻照劑量為600～1200KGy；
c.將輻照后的聚酰亞胺類薄膜經酸洗、堿洗前處理，然后將其浸入上述配制好的蝕刻混合溶液中；在60～90℃溫度下進行蝕刻，控制蝕刻反應的時間為5～10小時；
d.將蝕刻好的聚酰亞胺類薄膜用去離子水清洗，然后放入干燥箱干燥；干燥后即可得到圖案排列規整、孔徑尺寸一致的高分子聚酰亞胺類微孔分離膜；其平均孔徑為20μm。
2.如權利要求1所述的一種聚酰亞胺類微孔分離膜的制備方法，其特征在于所述的高分子聚酰亞胺類薄膜包括有：由聚酰胺酸合成的聚酰亞胺、聚酰胺酯合成的聚酰亞胺，以及由各種單體聚合而成的高分子聚酰亞胺薄膜。
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