[發明專利]微孔沸石、制備方法及其應用

有效

• 申請號: 200710037241.3
• 申請日: 2007-02-07
• 公開（公告）號: CN101239728A
• 公開（公告）日: 2008-08-13
• 發明（設計）人: 魏一倫;高煥新;周斌;方華;顧瑞芳;季樹芳
• 申請（專利權）人: 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司上海石油化工研究院
• 主分類號: C01B39/46
• 分類號: C01B39/46;B01J20/18;B01J29/04
• 代理公司: 上海浦東良風專利代理有限責任公司
• 代理人: 張惠明

1.?一種微孔沸石，包括以下摩爾關系的組成：(l/n)Al₂O₃∶SiO₂∶(m/n)R，式中n＝10～350，m＝0.02～50，R為烷基、烷烯基或苯基中的至少一種；

所述沸石的Si²⁹NMR固體核磁圖譜在-80～+50ppm之間至少包含有一個Si²⁹核磁共振譜峰；

所述沸石的X-射線衍射圖譜在13.2±0.2，12.3±0.1，10.9±0.3，9.1±0.3，6.8±0.2，6.1±0.2，5.6±0.2，4.4±0.3，4.0±0.3，3.6±0.2，3.4±0.1和3.3±0.2埃處有d-間距最大值。

2.?根據權利要求1所述的微孔沸石，其特征在于n＝20～150，m＝0.1～20；所述烷基為碳原子數為1～8的烷基，所述烷烯基為碳原子數為2～10的烷烯基。

3.?根據權利要求2所述的微孔沸石，其特征在于所述烷基為甲基或乙基，所述烷烯基為乙烯基。

4.?權利要求1所述的微孔沸石的制備方法，包括：

a)將有機硅源、無機硅源、鋁源、堿、有機胺模板劑和水混合，以無機硅源中的SiO₂為基準，反應混合物以摩爾比計為：SiO₂/Al₂O₃＝10～350，有機硅源/SiO₂＝0.001～1，OH^-/SiO₂＝0.01～5.0，H₂O/SiO₂＝5～100，有機胺/SiO₂＝0.01～2.0；

b)將上述反應混合物在晶化反應溫度為80～225℃條件下，反應12小時～10天后取出，經水洗、干燥制得微孔沸石。

5.?根據權利要求4所述的微孔沸石的制備方法，其特征在于所述無機硅源選自硅溶膠、固體氧化硅、硅膠、硅酸酯、硅藻土或水玻璃中的至少一種；所述有機硅源選自鹵硅烷、硅氮烷或烷氧基硅烷中的至少一種；所述鋁源選自鋁酸鈉、偏鋁酸鈉、硫酸鋁、硝酸鋁、氯化鋁、氫氧化鋁、氧化鋁、高嶺土或蒙脫土中的至少一種；所述堿為無機堿，選自氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銣或氫氧化銫中的至少一種；所述有機胺選自乙二胺、己二胺、環己胺、六亞甲基亞胺、七亞甲基亞胺、吡啶、六氫吡啶、丁胺、己胺、辛胺、奎胺、十二胺、十六胺或十八胺中的至少一種。

6.?根據權利要求5所述的微孔沸石的制備方法，其特征在于所述鹵硅烷選自三甲基氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三乙基氯硅烷、二乙基二氯硅烷、二甲基氯溴硅烷、二甲基乙基氯硅烷、二甲基丁基氯硅烷、二甲基苯基氯硅烷、二甲基異丙基氯硅烷、二甲基叔丁基氯硅烷、二甲基十八烷基氯硅烷、甲基苯基乙烯基氯硅烷、乙烯基三氯硅烷或二苯基二氯硅烷中的至少一種；所述硅氮烷選自六甲基二硅氮烷、七甲基二硅氮烷、四甲基二硅氮烷、二乙烯基四甲基二硅氮烷或二苯基四甲基二硅氮烷中的至少一種；所述烷氧基硅烷選自三甲基乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、三甲氧基苯基硅烷或二苯基二乙氧基硅烷中的至少一種。

7.?根據權利要求4所述的微孔沸石的制備方法，其特征在于以無機硅源中的SiO₂為基準，反應混合物以摩爾比計為：SiO₂/Al₂O₃＝20～150，有機硅源/SiO₂＝0.005～0.5，OH^-/SiO₂＝0.05～1.0，H₂O/SiO₂＝10～80，有機胺/SiO₂＝0.05～1.0。

8.?根據權利要求4所述的微孔沸石的制備方法，其特征在于晶化反應溫度為120～190℃，晶化反應時間為12～120小時。

9.?根據權利要求4所述的微孔沸石的制備方法，其特征在于所述反應混合物在晶化之前先在10～80℃條件下陳化2～100小時。

10.?權利要求1所述的微孔沸石作為有機化合物轉化用的吸附劑或催化劑組份的應用。