[發明專利]一種陶瓷開光釉制作方法及其釉料

有效

• 申請號: 200710035136.6
• 申請日: 2007-06-14
• 公開（公告）號: CN101066895A
• 公開（公告）日: 2007-11-07
• 發明（設計）人: 彭宏
• 申請（專利權）人: 醴陵玉茶瓷業有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86;C03C8/22
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域：

本發明屬于一種陶瓷的后處理釉料的制作方法及其釉料，尤其是指一種日用陶瓷和陳設陶瓷表面陶瓷開光釉料制作方法及其釉料，屬于無機非金屬陶瓷釉料及其制作工藝，用于陶瓷表面裝飾而獲得更佳效果。

背景技術：

陶瓷表面形成開光效果具有特別的立體美感，其制品倍受市場歡迎。雖然也可以在無光的釉面描繪亮光金，二次彩燒也能獲得類似開光的效果。但這樣工藝復雜，價格昂貴，其在市場受到很大制約，而且產品的耐久性不好，耐磨性較差，色彩變化不豐富。

發明內容：

本發明的目的是提供一種開光釉效果的制作方法，該方法應比現有的開光釉效果的工藝方法更為簡單，且價格便宜，耐久性、耐磨性更好，色彩變化豐富。

本發明的另一目的在于提供一種適合上述開光釉效果制作方法的開光釉料。

所述的發明目的是通過下述技術方案實現的：采用在陶瓷坯體上先上一次底釉，再上一次面釉的二次上釉方法，且面釉表面張力遠遠大于底釉；再將上好兩次釉的陶瓷坯體送入窯爐，用常規的高溫燒制，在高溫條件下由于底釉和面釉張力差異的作用，面釉裂開顯現出光澤的底釉與無光的面釉相映襯形成開光效果。

所述的釉料分為底釉和面釉，底釉和面釉由基釉和色劑兩部分組成，其組成的重量百分比為：基釉80—100％、色劑0—20％，色劑為陶瓷用商品顏料或工業用氧化物。

所述的底釉和面釉的施涂方法可以是噴涂或刷涂，也可以是浸釉，施釉時應保證底釉的厚度在0.2～0.3毫米，面釉的厚度在0.3～0.4毫米。

所述的底釉的基釉主要包括SiO₂、Al₂O₃、CaO、ZnO、Li₂O、MgO、K₂O和Na₂O，由長石、石英、方解石、滑石(燒)和鋰瓷石任意組合制成，以保證底釉的基釉化學組成含量如下：

SiO₂：50～67％?????????Al₂O₃：9～14％???????CaO：3.2～6.3％

ZnO：2～4％????????????Li₂O：0～0.5％???????MgO：0.5～1.0％

K₂O：4.1～6.2％????????Na₂O：2.1～4.5％?????其余為雜質。

所述的面釉的基釉主要包括SiO₂、Al₂O₃、CaO、ZnO、Li₂O、MgO、K₂O和Na₂O，由長石、石英、方解石、滑石(燒)和鋰瓷石任意組合制成，以保證面釉的基釉化學組成含量如下：

SiO₂：48～60％????Al₂O₃：12～20％?????CaO：3.2～4.2％

ZnO：0～1％???????Li₂O：0～0.5％??????MgO：6.2～7.8％

K₂O：3.8～6.0％???Na₂O：1.8～4.3％????其余為雜質。

所述的底釉和面釉的制作方法與常規釉料制作工藝基本一樣：按配方稱取各種原料，將原料球磨，按原料：球石：水＝1：1.5～2：0.6球磨24小時，底釉細度為：325目篩篩余0.1～0.15％，面釉細度為：325目篩篩余0.05～0.1％，加水稀釋過160目篩，即可上釉。

本發明開光釉效果的作用原理：

本發明是陶瓷坯體上施兩層釉料后再去燒制的，且有意識的將面釉表面張力遠遠大于底釉，所以在高溫條件下由于力的作用，面釉裂開顯現出光澤的底釉與無光的面釉相映襯形成開光效果。

原料的化學分析如下：

本發明特點在于：

1、調節底、面釉顏色可獲得色彩豐富的表面裝飾效果。

2、調節釉料的百分組成可獲得不同的開光效果及適用于不同的燒成溫度和氣氛。

3、不僅適用于日用陶瓷同樣也適用于制造墻地磚產品。

具體實施方式：

下面將結合具體實施例對本發明作進一步的描述。

實施例一