[發明專利]一種陶瓷開光釉制作方法及其釉料

有效

• 申請號: 200710035136.6
• 申請日: 2007-06-14
• 公開（公告）號: CN101066895A
• 公開（公告）日: 2007-11-07
• 發明（設計）人: 彭宏
• 申請（專利權）人: 醴陵玉茶瓷業有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86;C03C8/22
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• 代理人: 暫無信息

1、一種陶瓷開光釉制作方法，其特征在于：采用在陶瓷坯體上先上一次底釉，再上一次面釉的二次上釉方法；再將上好二次釉的陶瓷坯體送入窯爐燒制，通過底釉和面釉張力差異的作用，面釉裂開顯現出光澤的底釉與無光的面釉相映襯形成開光效果；且所述的釉料分為底釉和面釉，底釉和面釉由釉基釉和色劑兩部分組成，其組成的重量百分比組成為：基釉80—100％、色劑0—20％，色劑為陶瓷用商品顏料或工業用氧化物；所述的底釉的基釉包括SiO₂、Al₂O₃、CaO、ZnO、Li₂O、MgO、K₂O和Na₂O，由長石、石英、方解石、滑石和鋰瓷石任意組合制成，底釉的基釉化學組成含量如下：

SiO₂：50～67％???????????Al₂O₃：9～14％?????????CaO：3.2～6.3％

ZnO：2～4％??????????????Li₂O：0～0.5％????????MgO：0.5～1.0％

K₂O：4.1～6.2％??????????Na₂O：2.1～4.5％???????其余為雜質。

所述的面釉的基釉包括SiO₂、Al₂O₃、CaO、ZnO、Li₂O、MgO、K₂O和Na₂O，由長石、石英、方解石、滑石和鋰瓷石任意組合制成，面釉的基釉化學組成含量如下：

SiO₂：48～60％?????????Al₂O₃：12～20％????????CaO：3.2～4.2％

ZnO：0～1％????????????Li₂O：0～0.5％????????MgO：6.2～7.8％

K₂O：3.8～6.0％????????Na₂O：1.8～4.3％??????其余為雜質。

2、如權利要求1所述的開光釉制作方法，其特征在于：所述的底釉和面釉的施涂方法是噴涂或刷涂，或是浸釉，施釉時應同時保證底釉的厚度在0.2～0.3毫米，面釉的厚度在0.3～0.4毫米。

3、如權利要求1所述的開光釉制作方法，其特征在于：所述的底釉和面釉的制作方法是，按配方稱取各種原料，將原料球磨，按原料：球石：水＝1：1.5～2：0.6球磨24小時，同時控制底釉細度為：325目篩篩余0.1～0.15％，面釉細度為：325目篩篩余0.05～0.1％，加水稀釋過160目篩，即可上釉。