[發(fā)明專利]非金屬基體化學(xué)鍍的一種活化工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710022996.6 | 申請日: | 2007-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN101054663A | 公開(公告)日: | 2007-10-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃彥;范菁菁;舒世立;胡小娟 | 申請(專利權(quán))人: | 南京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | C23C18/18 | 分類號: | C23C18/18;C23C18/30 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 徐冬濤;袁正英 |
| 地址: | 210009江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 非金屬 基體 化學(xué) 一種 活化 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種新的膠體鈀活化技術(shù),用于非金屬基體化學(xué)鍍,以得到均勻 的金屬鍍層。
背景技術(shù)
化學(xué)鍍又叫無電鍍(Electroless-plating)、自催化鍍(auto-catalytic?plating),其 原理是通過化學(xué)反應(yīng)還原金屬鹽并使金屬沉積在有催化活性的基體表面。金屬表 面一般都對化學(xué)鍍有催化活性,而非金屬表面則需經(jīng)過活化處理,即在其表面預(yù) 先沉積一些金屬微粒作為催化劑。在化學(xué)鍍過程中,反應(yīng)生成的金屬首先沉積在 金屬微粒催化劑上,而反應(yīng)生成的金屬又可繼續(xù)催化該化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)金屬 層的生長、連片、增厚,最終形成連續(xù)的金屬膜。
非金屬基體表面的活化效果對化學(xué)鍍層的質(zhì)量有直接的影響。理論上,凡是 能夠在基體表面均勻沉積金屬微粒的工藝都可以用來活化基體,但是,好的活化 工藝應(yīng)使產(chǎn)生的金屬微粒粒徑小、分布均勻、附著力強(qiáng)。許多論文和專利中已介 紹了化學(xué)鍍的各種活化工藝,已有人對此進(jìn)行了總結(jié)。例如,姜曉霞等[姜曉霞, 沈偉.化學(xué)鍍理論及實(shí)踐.北京國防工業(yè)出版社,2000,336-339]把活化方法總結(jié) 為浸鈀法、催化性涂料法、銀漿法、鉬錳法等;劉建國等[劉建國、陳純?nèi)A、鄭 家燊.非金屬材料化學(xué)鍍工藝中基體表面活化方法的研究.表面技術(shù),2006, 31(3):5-8]把以上方法都?xì)w為常規(guī)活化法,并又總結(jié)出四類方法,即氣相沉積法、 介電層放電法、光化學(xué)法及自催化法,但后四種方法應(yīng)用范圍有限、或正在完善 中。在以上提到的諸多活化方法中,浸鈀法應(yīng)用最為廣泛,其原理是通過化學(xué)反 應(yīng)將溶液中的鈀還原并使金屬鈀微粒均勻分散在基體表面。除鈀基活化劑外,其 它金屬基活化劑也有許多報道[L.P.Donovan,E.Maguire,L.A.Kadison.Aqueous suspensions?for?surface?activation?of?nonconductors?for?electroless?plating.US?Patent 3958048,1976],但是應(yīng)用范圍非常有限。浸鈀法的典范是膠體鈀法[張永鋒,馬 玲俊,郭為民,崔昭霞,溫青.非金屬化學(xué)鍍的活化工藝.材料開發(fā)與應(yīng)用,2000, 15(2):30-34],早期的活化工藝是兩步法,即先用敏化劑處理再用活化劑處理。 常用的敏化劑和活化劑為Sn2+和pd2+的酸性溶液,敏化時基體表面產(chǎn)生含Sn2+的膠體,活化時通過如下反應(yīng)得到鈀的微粒:
Sn2++Pd2+→Sn4++Pd
兩步活化法非常麻煩,1961美國學(xué)者Shipley[Shipley?C.R.Method?of?electroless deposition?on?a?substrate?and?catalyst?therefore.US?Patent:3011920,1961.]發(fā)明了一 步活化法,即將敏化劑Sn2+和活化劑Pd2+的強(qiáng)酸性溶液直接混合,形成膠體鈀, 即由還原反應(yīng)生成的金屬鈀核外圍包裹Sn2+和過量Cl-形成的帶負(fù)電荷膠體。活 化后,基體表面被植入鈀核,但在水洗過程中,包覆鈀核的錫離子水解,形成 Sn(OH)4和Sn(OH)2,后者也可以被空氣氧化成前者。要使鈀核裸露出來,基體 表面須經(jīng)解膠處理。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理
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