[發明專利]利用溶劑熱反應低溫合成氮化硅納米材料的方法無效
| 申請號: | 200710016229.4 | 申請日: | 2007-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN101134569A | 公開(公告)日: | 2008-03-05 |
| 發明(設計)人: | 錢逸泰;郭春麗;邢政;徐立強 | 申請(專利權)人: | 山東大學 |
| 主分類號: | C01B31/36 | 分類號: | C01B31/36;B82B3/00 |
| 代理公司: | 濟南圣達專利商標事務所 | 代理人: | 李健康 |
| 地址: | 250061山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 溶劑 反應 低溫 合成 氮化 納米 材料 方法 | ||
技術領域
本發明屬于氮化硅納米材料制備技術領域,尤其涉及一種利用溶劑熱反應低溫合成Si3N4納米材料的方法。
背景技術
荷蘭《材料科學》(JOURNAL?OF?MATERIALS?SCIENCE?33(24):5803-5810?DEC?1998)報道拉長的β-Si3N4顆粒有抑制陶瓷易碎的性質,是一種性能優良的陶瓷材料的補強增韌劑。美國《陶瓷會志》(JOURNAL?OF?THE?AMERICAN?CERAMIC?SOCIETY?81(10):2661-26691998)報道了用多晶氮化硅為原料添加2-3%鋁粉和6-10%氧化釔于氮氣氣氛中加熱到1900℃制備出β-Si3N4晶須。英國《材料研究通報》(MATERIALS?RESEARCH?BULLETIN?37(8):1481-1485?JULY?2002)報道了由硅粉、α-Si3N4為原料,Y2O3為稀釋劑于氮氣氣氛通過自蔓延高溫合成反應制備大量的β-Si3N4晶須。美國《國際材料快報》(SCRIPTAMATERIALIA?50(3):383-386?2004)報道了在氮氣流中以硅、氮化硅、氯化胺為起始原料通過自蔓延高溫合成反應制備大量的β-Si3N4纖維。但這些制備反應都需要很高的反應溫度,而且反應都需要在氣流中進行,需要較高的成本,容易帶進雜質,不利于大量的制備氮化硅納米線。歐洲《陶瓷會志》(JOURNAL?OF?THE?EUROPEAN?ERAMIC?SOCIETY20(8):1191-1195?JULY?2000)報道了直接用α-Si3N4顆粒在氮氣流中于2000℃轉化為β-Si3N4晶須。雖然不需要添加其他添加劑,但還是要求很高的轉化溫度,不利于工業化。因此,在較低溫度下廉價的制備大量β-Si3N4納米線,對提升氮化硅陶瓷的性能以及擴大其應用都具有特別重要的意義。
發明內容
針對現有技術的不足,本發明提出了一種利用溶劑熱反應在相對較低的溫度下(200-300℃)制備氮化硅納米材料的方法,以克服現有技術反應溫度高以及低溫不能獲得結晶Si3N4納米材料的缺陷。
本發明所述利用溶劑熱反應低溫合成氮化硅納米材料的方法,其特征在于,按摩爾比2.8-5.8∶1∶0.8-2.7的量將SiCl4、NaN3和鎂粉混合,或以鐵粉為還原劑按摩爾比5.8-6.0∶1∶0.58-0.60的量將SiCl4、NaN3和鐵粉混合,密封在高壓釜中,于200℃-300℃反應10小時±0.5小時;產物經酸洗、水洗、離心分離和干燥,即獲得氮化硅—維納米材料。
上述利用溶劑熱反應低溫合成氮化硅納米材料的方法,優選實施方式1是:按摩爾比5.8∶1∶1.0-1.3的量將SiCl4、NaN3和鎂粉混合,密封在高壓釜中,于200℃-300℃反應10小時±0.5小時;產物經酸洗、水洗、離心分離和干燥,即獲得以β-Si3N4納米棒為主的氮化硅粉末。
上述利用溶劑熱反應低溫合成氮化硅納米材料的方法,優選實施方式2是:按摩爾比2.8∶1∶2.7的量將SiCl4、NaN3和鎂粉混合,密封在高壓釜中,于300℃反應10小時±0.5小時;產物經酸洗、水洗、離心分離和干燥,即獲得以β-Si3N4納米線為主的氮化硅粉末。
上述利用溶劑熱反應低溫合成氮化硅納米材料的方法,優選實施方式3是:按摩爾比5.8∶1∶0.58的量將SiCl4、NaN3和鐵粉混合,密封在高壓釜中,于250℃反應10小時;產物經酸洗、水洗、離心分離和干燥,即獲得以α-Si3N4納米線為主的氮化硅粉末。
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