[發明專利]低輻射鍍膜玻璃的制造方法及其所用的鍍膜溶液

有效

• 申請號: 200710008766.4
• 申請日: 2007-04-02
• 公開（公告）號: CN101121576A
• 公開（公告）日: 2008-02-13
• 發明（設計）人: 尚貴才;劉鴻雁;范麗香
• 申請（專利權）人: 福耀玻璃工業集團股份有限公司
• 主分類號: C03C17/245
• 分類號: C03C17/245;C03C17/22;C23C16/40;C23C16/452
• 代理公司: 廈門市新華專利商標代理有限公司
• 代理人: 翁素華

1.一種低輻射鍍膜玻璃的制造方法，包括如下步驟：

1)將鍍膜溶液輸送到鍍膜裝置，所用述的鍍膜裝置的噴口與玻璃板的垂直距離為30-40mm；

2)以干燥、凈化的壓縮空氣作為霧化氣，并且保持霧化氣的壓力為0.6-0.75MPa；

3)在霧化氣帶動下，將鍍膜溶液噴涂到移動的熱的玻璃板表面，玻璃板的溫度控制在550-625℃；

4)浮法生產線的下游設有一個排氣系統，鍍膜廢料經排氣系統抽掉；

5)移動的玻璃板經退火、在線檢測、切割、下片、包裝等工序成為最終產品。

2.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：步驟1)中所述的鍍膜裝置是噴槍，所述噴槍向浮法生產線的下游方向傾斜，與水平線夾角為30-45°。

3.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃的制造方法所用的鍍膜溶液由下列組分按重量百分比組成：

錫源15-30％；

氟源2-10％；

活化劑0.5-2％；

添加劑2-7％；

溶劑60-80％。

4.根據權利要求3所述的鍍膜溶液，其特征在于：錫源來自二氯化錫、四氯化錫、二丁基氧化錫、三丁基氟化錫、二丁基二氟化錫、三氟化丁基錫、三丁基氯化錫、二丁基二氯化錫、丁基三氯化錫、三氯化甲基錫、二氯化二甲基錫中的一種或幾種。

5.根據權利要求3所述的鍍膜溶液，其特征在于：所述的氟源來自氫氟酸、三氟乙酸、氟化銨、氟化鎂、氟化鈣、氟化鉀、氟化氨、氟氫化氨中的一種或者幾種。

6.根據權利要求3所述的鍍膜溶液，其特征在于：所述的活化劑為多羥基嵌段共聚物。

7.根據權利要求3所述的鍍膜溶液，其特征在于：所述的添加劑來自鋅、鎂、鎳、鉍、鋯、錳、鉻、鈰的氯化物的一種或者幾種。

8.根據權利要求3所述的鍍膜溶液，其特征在于：所述的溶劑來自苯、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丙酮、二甲基甲酰胺、鹵代甲烷、乙酸乙酯、甲酸乙酯以及去離子水的一種或者幾種。