[發明專利]拋光組合物和拋光方法

無效

• 申請號: 200710001877.2
• 申請日: 2007-02-02
• 公開（公告）號: CN101235253A
• 公開（公告）日: 2008-08-06
• 發明（設計）人: 山田修平
• 申請（專利權）人: 福吉米株式會社
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09G1/14;B24B29/00;H01L21/304
• 代理公司: 上海恩田旭誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 尹洪波

背景技術

本發明涉及一種用于例如硅片最終拋光的拋光組合物、和一種使用該拋光組合物的拋光方法。

技術領域

已知日本特開平4-291722號專利公報公開了用于硅片最終拋光的常用拋光組合物。所述拋光組合物包括HLB值不小于13且小于20的非離子表面活性劑，以抑制硅片表面的霧度。作為所述HLB值不小于13且小于20的非離子表面活性劑，該公報公開了加入環氧乙烷的壬基苯酚、加入環氧乙烷的對異丙苯基酚、加入環氧乙烷的碳數為12或13的伯醇、環氧乙烷和環氧丙烷的嵌段聚合物等等。然而，按照當前的要求，包含這些非離子表面活性劑的拋光組合物抑制硅片表面霧度的性能并不令人滿意。

發明內容

本發明的目標是提供一種適用于硅片最終拋光的拋光組合物、和一種使用該拋光組合物的拋光方法。

為實現上述目標，本發明提供了一種含有聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯、二氧化硅、水溶性纖維素、堿性化合物、和水，其中所述拋光組合物中的所述聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的含量小于0.0025％(質量)。

本發明還提供了一種硅片拋光方法，包括用上述拋光組合物進行硅片的最終拋光。

具體實施方式

下面對本發明的具體實施方式進行說明。

通過將聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯、二氧化硅、水溶性纖維素、堿性化合物、以及水混合，得到含有聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯、二氧化硅、水溶性纖維素、堿性化合物、和水的拋光組合物。例如，所述拋光組合物用于硅片的最終拋光。

當用所述拋光組合物對硅片進行拋光，所述拋光組合物中的所述聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯起到抑制所述硅片表面的霧度的作用。

所述聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯可由下述分子式表示。在該分子式中，R表示烷基或烯基，a、b和c表示自然數。

為得到符合實際應用的拋光速率(去除速率)，所述拋光組合物中的所述聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的含量必須小于0.0025％(質量)。這里，當所述含量超過0.0015％(質量)時，就有這樣的風險：所述硅片在用所述拋光組合物拋光后，所述硅片表面的潤濕性可能降低，并因此容易在所述硅片表面上附著粒子。因此，為了降低用所述拋光組合物對拋光硅片后，附著在所述硅片表面的粒子量，優選地，所述拋光組合物中聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的含量不超過0.0015％(質量)。同時，如果所述拋光組合物中聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的含量低于0.000025％(質量)，更具體地低于0.00005％(質量)，即使更具體地低于0.0005％(質量)，所述聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的含量不足，并因此有這樣的風險：所述硅片表面的霧度不能得到很好的抑制。因此，為了更加可靠地抑制所述霧度，優選地，所述拋光組合物中聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的含量不低于0.000025％(質量)，更優選地，不低于0.00005％(質量)，最好不低于0.0005％(質量)。

如果所述拋光組合物中聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的HLB值低于8，更具地低于11，即使更具體地低于14，所述拋光組合物中的聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯和溶劑的親和力較低，并因此有這樣的風險：所述硅片表面的霧度不能被很好地抑制。因此，為了更可靠地抑制所述霧度，優選地，所述拋光組合物中的聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的HLB值不低于8，更優選地，不低于11，最好不低于14。同時，如果所述拋光組合物中的聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的HLB值超過18，更具體地超過17，就有這樣的風險：所述硅片表面的霧度不能被很好地抑制。因此，為了更可靠地抑制所述霧度，優選地，所述拋光組合物中的聚氧乙烯失水山梨醇單脂肪酸酯的HLB值不大于18，更優選地，不大于17。

所述拋光組合物中的二氧化硅對硅片起機械拋光的作用。

優選地，所述包含在拋光組合物中的二氧化硅為硅溶膠和氣相法二氧化硅，更優選地為硅溶膠。當包含在拋光組合物中的二氧化硅為硅溶膠和氣相法二氧化硅，尤其當包含在拋光組合物中的二氧化硅為硅溶膠時，用所述拋光組合物拋光硅片后，形成于所述硅片表面的劃痕量減少。