[發(fā)明專利]抗反射膜及其制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710001779.9
• 申請日: 2007-01-16
• 公開（公告）號: CN101226245A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉博滔
• 申請（專利權(quán)）人: 達(dá)信科技股份有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G02B1/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 封新琴;巫肖南

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種抗反射膜，特別涉及一種具有高硬度及高耐磨性的抗反射膜。

背景技術(shù)

平面液晶顯示器已廣泛地應(yīng)用于各項現(xiàn)代電子化產(chǎn)品，如個人計算機(jī)、筆記本計算機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、移動電話、個人數(shù)字化助理(PDA)及液晶電視等。液晶面板產(chǎn)品技術(shù)的發(fā)展，除了朝向高對比、廣視角、高輝度、薄型化、大型化之外，也往表面附加功能如抗刮、抗眩、抗反射、抗污等方向發(fā)展。應(yīng)用在日常生活中，影像清晰度直接影響使用者的舒適感，外在光線在顯示器表面的玻璃或塑料基材的表面約有4～5％的反射率，在使用時，容易受外界光線干擾，影響畫面視覺效果，對于大尺寸面板，特別是大于20時以上的液晶電視而言，其屏幕表面外在光反射影響更為明顯。

要達(dá)成抗反射的效果通?？衫枚鄬庸飧缮嬖韥硗瓿桑?dāng)入射光線通過涂層界面時會有部分穿透及部分反射的特性，如穿透區(qū)介質(zhì)折射率大于入射區(qū)介質(zhì)的折射率時，反射波會產(chǎn)生180度轉(zhuǎn)相；反之，如穿透區(qū)介質(zhì)折射率小于入射區(qū)介質(zhì)的折射率時，反射波會維持與入射波同相。利用光線通過涂層的不同界面時，使其所產(chǎn)生的反射波形成破壞性干涉，即為多層光干涉的抗反射原理。當(dāng)涂層光學(xué)厚度(涂層折射率與涂膜厚度的乘積)為四分之一入射波波長的奇數(shù)倍時，破壞性干涉效果最佳。抗反射鍍膜可分為單層至多層結(jié)構(gòu)，層數(shù)越多抗反射效果越佳，低反射波長區(qū)域也越廣。低折射率層的折射率越低，抗反射效果也越好。

如美國專利第5591517號“antireflection?film”中所揭示及美國專利第6207263B1號“anti-refection?film?and?process?for?preparation?thereof”中所揭示，利用二至四層不同折射率涂層以達(dá)到較佳的抗反射效果。傳統(tǒng)上為了使抗反射膜具有較佳的硬度及耐磨擦性，低折射率層經(jīng)常使用熱硬化方式來制作，如美國專利第6649271B2號“anti-static?anti-reflective?film”中所揭示及美國專利第6841272B2號“film?for?optical?applications”中所揭示，然而熱硬化的低折射率涂液通常需要較高溫度或是較長時間來完成硬化反應(yīng)，對于厚度較薄的膜類基材并不適合。為了避免熱硬化涂液的缺點，JSR(JSRcorp.)，SOC(Sumitomo?Osaka?Cement?Co.Ltd.)，DSM(DSM?Desotech?Inc.)等公司陸續(xù)開發(fā)出紫外光硬化的低折射率涂料。然而，紫外光硬化的低折射率涂料雖然具有生產(chǎn)快速的特性，但卻有較差的硬度及耐磨擦的性質(zhì)。

傳統(tǒng)的抗反射膜結(jié)構(gòu)如圖1所示，硬鍍層涂液涂布于基材10之上，經(jīng)過烘箱將涂液中所含溶劑蒸發(fā)，經(jīng)過紫外燈照射后產(chǎn)生硬化反應(yīng)，形成穩(wěn)定的硬鍍層12。然后，再將低折射率涂料涂布于硬鍍層12之上，經(jīng)過烘箱將低折射率涂液中的溶劑蒸發(fā)，再經(jīng)過紫外燈照射后，形成低折射率層14。然而，不幸的是，紫外光硬化樹脂的硬鍍層具有較高的鍵結(jié)密度，其表面不易再附著一層紫外光硬化樹脂的低折射率層，無法獲得良好硬度及耐磨性的抗反射膜。

因此，業(yè)界亟需一種高硬度及耐磨性的抗反射膜，以改善傳統(tǒng)抗反射膜的缺點。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種抗反射膜及其制法，其可以達(dá)到提高硬度及耐磨性的功效。

為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供一種抗反射膜，包括設(shè)置于基底上的硬鍍層，設(shè)置于硬鍍層之上的低折射率層，以及設(shè)置于硬鍍層及低折射率層之間的介質(zhì)層(primer)。

為達(dá)上述目的，本發(fā)明還提供一種抗反射膜的制造方法，首先將硬鍍層涂液涂布于基底上形成硬鍍層，接著將硬鍍層以堿液處理或電暈(corona)處理后于其上涂布介質(zhì)層涂液形成介質(zhì)層，然后將低折射率涂液涂布于介質(zhì)層上，形成低折射率層。

為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉出優(yōu)選實施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下：

附圖說明

圖1所示為現(xiàn)有技術(shù)的抗反射膜的結(jié)構(gòu)剖面圖。

圖2所示為本發(fā)明優(yōu)選實施例的抗反射膜的結(jié)構(gòu)剖面圖。

主要附圖標(biāo)記說明

10、20～基底；

12、22～硬鍍層；

24～介質(zhì)層；

14、26～低折射率層。

具體實施方式