[發明專利]抗反射膜及其制造方法

無效

• 申請號: 200710001779.9
• 申請日: 2007-01-16
• 公開（公告）號: CN101226245A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發明（設計）人: 劉博滔
• 申請（專利權）人: 達信科技股份有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G02B1/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 封新琴;巫肖南

1.一種抗反射膜，包括：

基底；

設置于該基底上的硬鍍層；

設置于該硬鍍層之上的低折射率層；以及

設置于該硬鍍層及該低折射率層之間的介質層。

2.如權利要求1所述的抗反射膜，其中該介質層的材料為光硬化型硅氧烷。

3.如權利要求2所述的抗反射膜，其中該介質層的材料還包括多個納米粒子。

4.如權利要求1所述的抗反射膜，其中該硬鍍層的材料為紫外光硬化型樹脂。

5.如權利要求4所述的抗反射膜，其中該硬鍍層的材料還包括寡聚物。

6.如權利要求1所述的抗反射膜，其中該低折射率層的材料為紫外光硬化型材料。

7.如權利要求6所述的抗反射膜，其中該紫外光硬化型材料包括多孔性二氧化硅、氟衍生物或前述的組合。

8.一種抗反射膜的制造方法，包括：

提供基底；

將硬鍍層涂液涂布于該基底上，形成硬鍍層；

將該硬鍍層進行堿液處理或電暈處理；

將介質層涂液涂布于該堿液處理或該電暈處理過的該硬鍍層上，形成介質層；以及

將低折射率涂液涂布于該介質層上，形成低折射率層。

9.如權利要求8所述的抗反射膜的制造方法，其中該硬鍍層涂液包括光引發劑、紫外光硬化型樹脂單體、寡聚物及溶劑。

10.如權利要求8所述的抗反射膜的制造方法，其中該介質層涂液包括光硬化型硅氧烷聚合物及極性溶劑。

11.如權利要求10所述的抗反射膜的制造方法，其中該光硬化型硅氧烷聚合物的化學式為下列式1，

Y-[CH₂]_n-SiR_mX_3-m????式1

其中，

n為0至5的整數，m為0至2的整數，R為烷基，X為氧烷基，Y為乙烯基(CH₂＝CH-)、丙烯酰基(CH₂＝CHCOO-)或甲基丙烯?；?CH₂＝CCH₃COO-)。

12.如權利要求10所述的抗反射膜的制造方法，其中該介質層涂液還包括多個納米粒子。

13.如權利要求8所述的抗反射膜的制造方法，其中該低折射率涂液為紫外光硬化型材料。

14.如權利要求13所述的抗反射膜的制造方法，其中該紫外光硬化型材料包括多孔性二氧化硅、氟衍生物或前述的組合。

15.如權利要求8所述的抗反射膜的制造方法，其中該堿液包括氫氧化鉀(KOH)或氫氧化鈉(NaOH)水溶液。