[發(fā)明專利]光盤標(biāo)簽刻畫方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710001666.9
• 申請(qǐng)日: 2007-01-09
• 公開（公告）號(hào): CN101221774A
• 公開（公告）日: 2008-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蕭亦隆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣明光電股份有限公司
• 主分類號(hào): G11B7/00
• 分類號(hào): G11B7/00;G11B7/26;G11B23/40
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 王志森;黃小臨

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明有關(guān)一種光盤標(biāo)簽刻畫方法，尤其是關(guān)于光盤標(biāo)簽刻畫時(shí)，記錄每次標(biāo)簽圖形刻畫的位置，以供多次刻畫標(biāo)簽的刻畫方法。

背景技術(shù)

一般的光盤有兩面，一面為數(shù)據(jù)記錄面，另一面為標(biāo)簽面，公知制作光盤標(biāo)簽的方式，一般使用者以馬克筆直接書寫于標(biāo)簽面，作為識(shí)別標(biāo)簽，而制造廠商則將標(biāo)示光盤的商標(biāo)及數(shù)據(jù)記錄內(nèi)容，以噴涂印刷或自粘貼紙的方式附著在光盤標(biāo)簽面上。

由于上述的方式，簡(jiǎn)陋、無個(gè)人化的標(biāo)示及容易脫落影響光盤的轉(zhuǎn)動(dòng)播放，因此另有一種公知的光雕(Light?Scribe)標(biāo)簽的方式，如圖1所示，利用光盤機(jī)的讀取頭(圖未示)所發(fā)射的激光，將使用者所需的圖形文字1直接刻畫在光盤2的標(biāo)簽面3，作為識(shí)別標(biāo)簽。刻畫標(biāo)簽時(shí)，將光盤2倒放，將標(biāo)簽面3對(duì)準(zhǔn)讀取頭，再由使用者選擇所需的圖形文字，利用計(jì)算機(jī)等主機(jī)中的光雕應(yīng)用程序，控制讀取頭，將圖形文字刻畫在標(biāo)簽面3，達(dá)到識(shí)別光盤的作用。

然而，公知光雕的標(biāo)示方式，對(duì)刻畫的圖形文字并未作記錄，為了避免標(biāo)簽的圖形文字重迭，影響標(biāo)示，僅能作一次刻畫標(biāo)簽，即使光盤的標(biāo)簽面仍有空白位置存在，亦無法配合多次記錄數(shù)據(jù)的光盤，重復(fù)刻畫更新的圖形或文字，造成使用上的不便。因此，公知的光盤標(biāo)簽刻畫方法在多次刻畫上，仍有問題亟待解決。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在提供一種光盤標(biāo)簽刻畫方法，利用光盤標(biāo)簽面既有可刻畫的位置，形成相對(duì)刻畫區(qū)的標(biāo)示區(qū)，以記錄刻畫圖形文字的位置。

本發(fā)明的目的在提供一種光盤標(biāo)簽刻畫方法，通過記錄光盤標(biāo)簽面每次刻畫圖形文字的位置，使標(biāo)簽面于空白位置可多次刻畫更新的圖形文字。

為了達(dá)到前述發(fā)明的目的，本發(fā)明的光盤標(biāo)簽刻畫方法，首先接收該主機(jī)中光雕應(yīng)用程序的指令開始刻畫標(biāo)簽，讀取位于光盤的標(biāo)簽刻畫區(qū)的標(biāo)示區(qū)，以獲得標(biāo)簽刻畫的信息，將獲得標(biāo)簽刻畫的信息傳輸至主機(jī)，由主機(jī)規(guī)劃光盤刻畫區(qū)可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，假如無法規(guī)劃出可繼續(xù)刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，則停止刻畫標(biāo)簽，否則進(jìn)行刻畫標(biāo)簽于光盤刻畫區(qū)，然后相對(duì)已刻畫標(biāo)簽的區(qū)塊，于光盤標(biāo)示區(qū)注記記號(hào)，最后停止刻畫標(biāo)簽。

附圖說明

圖1為公知光盤刻畫的標(biāo)簽。

圖2為標(biāo)簽刻畫型光盤標(biāo)簽面的標(biāo)示結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本發(fā)明光盤標(biāo)簽刻畫標(biāo)示區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4為本發(fā)明光盤標(biāo)簽刻畫方法的流程圖。

主要元件符號(hào)說明

10??中心孔

11??外周

12??商標(biāo)區(qū)

13??信息區(qū)

14??刻畫區(qū)

15??標(biāo)示區(qū)

S1??開始刻畫標(biāo)簽步驟

S2??讀取標(biāo)簽標(biāo)示區(qū)步驟

S3??傳輸至主機(jī)步驟

S4??規(guī)劃可標(biāo)簽刻畫區(qū)塊步驟

S5??刻畫標(biāo)簽步驟

S6??注記標(biāo)簽標(biāo)示區(qū)

S7??停止標(biāo)簽刻畫步驟

R1、R2??半徑

D??光盤

具體實(shí)施方式

有關(guān)本發(fā)明為達(dá)成上述目的，所采用的技術(shù)手段及其功效，舉較佳實(shí)施例，并配合附圖加以說明如下。

請(qǐng)參考圖2，為標(biāo)簽刻畫型光盤D標(biāo)簽面的標(biāo)示結(jié)構(gòu)。依據(jù)標(biāo)簽刻畫型(Label?Flash)光盤D的規(guī)格，由光盤D的中心孔10至外周11，依序定議為商標(biāo)區(qū)(LOGO?Area)12、信息區(qū)(Information?Area)13及刻畫區(qū)(DrawingArea)14。商標(biāo)區(qū)(LOGO?Area)12標(biāo)示廠商的商標(biāo)數(shù)據(jù)，信息區(qū)(InformationArea)13則標(biāo)示光盤D標(biāo)簽面材料、地址等數(shù)據(jù)。而刻畫區(qū)(Drawing?Area)14，則由信息區(qū)13的外周到達(dá)光盤半徑R1處，其中R1＝58.5mm，亦即標(biāo)簽面可刻畫的材料涂敷的最外圈至58.5mm。然而，光雕的應(yīng)用程序限制刻畫區(qū)14，僅可刻畫標(biāo)簽至半徑R2＝58mm處，尚有0.5mm未使用。

本發(fā)明光盤標(biāo)簽刻畫方法，即利用刻畫區(qū)14半徑R2＝58mm至R1＝58.5mm，0.5mm的環(huán)形寬度規(guī)劃為標(biāo)示區(qū)15。將標(biāo)示區(qū)15劃分成多個(gè)區(qū)塊，與刻畫區(qū)14的每一區(qū)塊一一相對(duì)位置，只要刻畫區(qū)14的某一區(qū)塊刻畫標(biāo)簽圖形文字，即在整個(gè)標(biāo)簽刻畫完成后，以讀取頭的激光，在標(biāo)示區(qū)15每一相對(duì)區(qū)塊，形成例如凹洞或相變化的記號(hào)，以標(biāo)示刻畫區(qū)14已刻畫標(biāo)簽的位置，供下次刻畫標(biāo)簽的依據(jù)。