[發(fā)明專利]光盤標簽刻畫方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710001666.9
• 申請日: 2007-01-09
• 公開（公告）號: CN101221774A
• 公開（公告）日: 2008-07-16
• 發(fā)明（設計）人: 蕭亦隆
• 申請（專利權）人: 廣明光電股份有限公司
• 主分類號: G11B7/00
• 分類號: G11B7/00;G11B7/26;G11B23/40
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 王志森;黃小臨

1.一種光盤標簽刻畫方法，其步驟包含：

(1)開始刻畫標簽；

(2)讀取光盤標示區(qū)以獲得標簽刻畫的信息；

(3)規(guī)劃光盤刻畫區(qū)可繼續(xù)刻畫標簽的區(qū)塊；

(4)刻畫標簽于光盤刻畫區(qū)；

(5)相對刻畫區(qū)已刻畫標簽的區(qū)塊，于光盤標示區(qū)區(qū)塊注記記號；以及

(6)停止刻畫標簽。

2.依據(jù)權利要求1所述的光盤標簽刻畫方法，其中該步驟(1)中光盤由一光盤機播放，光盤機接收刻畫標簽指令后，開始進行標簽的刻畫。

3.依據(jù)權利要求2所述的光盤標簽刻畫方法，其中該光盤機相連一主機，接收該主機中光雕應用程序的指令開始刻畫標簽。

4.依據(jù)權利要求3所述的光盤標簽刻畫方法，其中該步驟(2)后進一步包含一步驟(2-1)于讀取光盤標示區(qū)后，將獲得標簽刻畫的信息傳輸至主機。

5.依據(jù)權利要求1所述的光盤標簽刻畫方法，其中該光盤標示區(qū)位于光盤的標簽刻畫區(qū)。

6.依據(jù)權利要求5所述的光盤標簽刻畫方法，其中該光盤標示區(qū)位于光盤的標簽刻畫區(qū)的最外圈環(huán)形區(qū)。

7.依據(jù)權利要求6所述的光盤標簽刻畫方法，其中該環(huán)形區(qū)位于光盤半徑58mm至58.5mm。

8.依據(jù)權利要求6所述的光盤標簽刻畫方法，其中該環(huán)形區(qū)具有與刻畫區(qū)相同的軌道數(shù)。

9.依據(jù)權利要求8所述的光盤標簽刻畫方法，其中該軌道數(shù)為675圈。

10.依據(jù)權利要求8所述的光盤標簽刻畫方法，其中該環(huán)形區(qū)在徑向上規(guī)劃區(qū)域與軌道形成多個區(qū)塊。

11.依據(jù)權利要求6所述的光盤標簽刻畫方法，其中該標示區(qū)與刻畫區(qū)的區(qū)塊為點對點對應。

12.依據(jù)權利要求6所述的光盤標簽刻畫方法，其中該標示區(qū)的區(qū)塊對應刻畫區(qū)的副碼結構區(qū)塊。

13.依據(jù)權利要求6所述的光盤標簽刻畫方法，其中該標示區(qū)的區(qū)塊對應刻畫區(qū)的軌道數(shù)區(qū)塊。

14.依據(jù)權利要求6所述的光盤標簽刻畫方法，其中該標示區(qū)的區(qū)塊對應刻畫區(qū)的區(qū)段區(qū)塊。

15.依據(jù)權利要求6所述的光盤標簽刻畫方法，其中該光盤標示區(qū)為標簽刻畫的未使用區(qū)。

16.依據(jù)權利要求1所述的光盤標簽刻畫方法，其中該步驟(3)中，假如可規(guī)劃出可繼續(xù)刻畫標簽的區(qū)塊，則進入步驟(4)，否則進入步驟(6)停止刻畫標簽。

17.依據(jù)權利要求16所述的光盤標簽刻畫方法，其中該步驟(3)系依據(jù)使用者所需的標簽與步驟(2)所獲得的標簽刻畫信息進行規(guī)劃。

18.依據(jù)權利要求16所述的光盤標簽刻畫方法，其中該步驟(3)規(guī)劃出可繼續(xù)刻畫標簽的區(qū)塊為區(qū)空白區(qū)塊。

19.依據(jù)權利要求18所述的光盤標簽刻畫方法，其中該步驟(4)中標簽系刻畫在標簽面的刻畫區(qū)內空白區(qū)塊。

20.依據(jù)權利要求1所述的光盤標簽刻畫方法，其中該步驟(5)標示區(qū)區(qū)塊所注記者為已刻畫的記號。