[發(fā)明專利]烹調(diào)裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680055820.4 | 申請日: | 2006-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN101512234A | 公開(公告)日: | 2009-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃根在;李英敏 | 申請(專利權(quán))人: | LG電子株式會社 |
| 主分類號: | F24C7/08 | 分類號: | F24C7/08 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 劉建功;車 文 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 烹調(diào) 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明總體涉及一種烹調(diào)裝置,更具體而言,涉及一種能利用不同流將從烹調(diào)腔出來的流排到外部的烹調(diào)裝置。
背景技術(shù)
韓國專利申請公開No.2005-0083504公開了一種烹調(diào)裝置的典型實例,該烹調(diào)裝置具有設(shè)置于烹調(diào)腔一側(cè)的主要部件,這些主要部件包括:磁控管、高壓變壓器、高壓電容器以及冷卻風(fēng)扇。韓國專利申請公開No.2006-0037003公開了一種烹調(diào)裝置,該烹調(diào)裝置具有安裝于烹調(diào)腔上側(cè)的主要部件、并將對流加熱器組件容納于該烹調(diào)腔的后壁,這些主要部件包括:磁控管、高壓變壓器以及高壓電容器。韓國實用新型申請公開No.1999-0010444公開了一種烹調(diào)裝置,該烹調(diào)裝置具有設(shè)置于烹調(diào)腔下側(cè)的主要部件和操作面板,這些主要部件包括:磁控管、高壓變壓器以及冷卻風(fēng)扇。
另外,韓國實用新型申請公開No.1998-0016489公開了一種烹調(diào)裝置,該烹調(diào)裝置具有安裝于烹調(diào)腔側(cè)壁的主要部件,并設(shè)置有從該烹調(diào)腔的頂壁開始到其側(cè)面的冷卻流徑,這些主要部件包括磁控管、高壓變壓器以及冷卻風(fēng)扇。
韓國專利申請公開No.1998-0053939公開了作為烹調(diào)裝置典型實例的微波爐的門,其中,該門設(shè)置有用于阻擋微波的門框以及環(huán)繞該門框的阻流蓋。
韓國專利申請公開No.1995-0003729公開了一種烹調(diào)裝置,該烹調(diào)裝置具有從烹調(diào)腔的側(cè)面開始經(jīng)由烹調(diào)腔的底側(cè)而到達門的烹調(diào)流徑。
韓國專利申請公開No.2004-0108050公開了烹調(diào)裝置中所使用的操作面板的示例,其中,該操作面板設(shè)置有使用靜電的玻璃觸摸鍵盤。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
本發(fā)明的一個目的是提供一種烹調(diào)裝置,該烹調(diào)裝置能通過具有不同流徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到外部。
本發(fā)明的另一目的是提供一種烹調(diào)裝置,該烹調(diào)裝置能利用烹調(diào)腔的后部空間內(nèi)所形成的流來除去烹調(diào)腔內(nèi)產(chǎn)生的熱量和氣味。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置,該烹調(diào)裝置能將從烹調(diào)腔逸出的流導(dǎo)向至烹調(diào)裝置的下部空間。
本發(fā)明的又一目的是提供一種烹調(diào)裝置,該烹調(diào)裝置能將流有效地導(dǎo)向至烹調(diào)腔,并將經(jīng)過烹調(diào)腔的流有效地導(dǎo)向至烹調(diào)裝置的外部。
技術(shù)方案
為了實現(xiàn)以上目的和優(yōu)點,提供了一種烹調(diào)裝置,其包括:烹調(diào)腔,該烹調(diào)腔設(shè)置有第一開口和第二開口;第一流徑,該第一流徑延伸為用于使得流進入第一開口并從第二開口出來;以及第二流徑,該第二流徑與從第二開口出來的流結(jié)合并將該流驅(qū)趕至外部。通過此結(jié)構(gòu),通過具有不同流徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到烹調(diào)裝置外部是可能的。
在本發(fā)明的另一方面中,該烹調(diào)裝置還包括位于烹調(diào)腔下方的下部空間,且第二流徑將流導(dǎo)向至下部空間,該下部空間設(shè)置有該流的出口。通過此構(gòu)造,通過具有不同流徑的流將從烹調(diào)腔逸出的流排到烹調(diào)裝置的下部空間是可能的。
在本發(fā)明的另一方面中,該烹調(diào)裝置還包括流導(dǎo)向件,該流導(dǎo)向件用于將流導(dǎo)向至第一開口。通過此構(gòu)造,能將流有效地引導(dǎo)至烹調(diào)腔內(nèi)。
在本發(fā)明的另一方面中,提供了一種烹調(diào)裝置,其包括:烹調(diào)腔;后部空間,位于烹調(diào)腔后方并產(chǎn)生流;形成于烹調(diào)腔的第一開口和第二開口,該流進入第一開口和第二開口;以及形成于烹調(diào)腔的第三開口,該流從第三開口出來。通過此構(gòu)造,可利用烹調(diào)腔的后部空間內(nèi)所形成的流來除去該烹調(diào)腔內(nèi)所產(chǎn)生的熱量和氣味。
在本發(fā)明的另一方面中,第一開口形成于烹調(diào)腔的一側(cè),第二開口形成于該烹調(diào)腔的上側(cè),而第三開口形成于該烹調(diào)腔的另一側(cè)。
在本發(fā)明的另一方面中,該烹調(diào)裝置還包括磁控管,該磁控管用于將微波提供至烹調(diào)腔,且進入第一開口的流經(jīng)過該磁控管。
在本發(fā)明的另一方面中,該烹調(diào)裝置還包括門,該門用于打開和關(guān)閉烹調(diào)腔,且進入第二開口的流沿著該門在烹調(diào)腔內(nèi)運動。
在本發(fā)明的另一方面中,提供了一種烹調(diào)裝置,包括:烹調(diào)腔;后部空間,位于烹調(diào)腔后方;上部空間,位于烹調(diào)腔上方;側(cè)部空間,位于烹調(diào)腔的一側(cè);下部空間,位于烹調(diào)腔下方;出口,形成于烹調(diào)腔的一側(cè),且來自烹調(diào)腔的流從該出口流出;以及冷卻流徑,該冷卻流徑從后部空間通過上部空間延伸至側(cè)部空間,后部空間內(nèi)所產(chǎn)生的流沿著該冷卻流徑運動,且該冷卻流徑將從上述出口出來的流導(dǎo)向至下部空間。
本發(fā)明的額外和/或其它方面和優(yōu)點將部分地在隨后的描述中闡述,并且部分地從該描述將是顯而易見的,或可以通過本發(fā)明的實踐習(xí)得。
附圖說明
通過參照附圖描述本發(fā)明的某些實施例,本發(fā)明的上述方面和特征將更明顯,在附圖中:
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