[發明專利]烹調裝置

有效

• 申請號: 200680055820.4
• 申請日: 2006-12-07
• 公開（公告）號: CN101512234A
• 公開（公告）日: 2009-08-19
• 發明（設計）人: 黃根在;李英敏
• 申請（專利權）人: LG電子株式會社
• 主分類號: F24C7/08
• 分類號: F24C7/08
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 劉建功;車 文

1.一種烹調裝置，包括：

烹調腔，所述烹調腔設置有形成在所述烹調腔的兩個相對橫向側的一個中的第一開口和形成在所述烹調腔的兩個相對橫向側的另一個中的第二開口；

設置在位于所述烹調腔后方的后部空間中的部件室；

第一流徑，所述第一流徑通過所述第一開口將流從所述后部空間導入所述烹調腔中，并通過所述第二開口將流從所述烹調腔引導出來；以及

第二流徑，所述第二流徑從所述后部空間延伸，使得當所述第一流徑將流從所述第二開口引導出來時所述第二流徑與所述第一流徑相交，其中所述第二流徑將所述流驅趕至所述烹調裝置的外部。

2.如權利要求1所述的烹調裝置，還包括：

位于所述烹調腔下方的下部空間，其中所述第二流徑將所述流從所述烹調腔中的所述第二開口導向至所述下部空間，且朝向設置在所述下部空間中的出口。

3.如權利要求1所述的烹調裝置，還包括：

流導向件，所述流導向件設置在位于所述烹調腔后方的所述后部空間中，其中所述流導向件通過所述后部空間引導由設置在所述后部空間中的風扇產生的流并通過所述第一開口將所述流導向至所述烹調腔中。

4.如權利要求1所述的烹調裝置，還包括：

形成于所述烹調腔的上側的第三開口，其中在所述后部空間中產生流，并且在所述后部空間中產生的所述流的一部分通過所述第一開口和所述第三開口進入所述烹調腔。

5.如權利要求4所述的烹調裝置，還包括：

磁控管，所述磁控管將微波提供至所述烹調腔，其中，在所述后部空間中產生的所述流穿過所述磁控管且然后穿過所述烹調腔中的所述第一開口。

6.如權利要求4所述的烹調裝置，還包括：

用于打開和關閉所述烹調腔的門，其中，通過所述第三開口進入所述烹調腔的流沿著所述門在所述烹調腔內運動。

7.如權利要求1-6中任一項所述的烹調裝置，還包括：

位于所述烹調腔上方的上部空間；

位于所述烹調腔的相對橫向側的第一側部空間和第二側部空間；

位于所述烹調腔下方的下部空間；以及

冷卻流徑，所述冷卻流徑從所述后部空間穿過所述上部空間和/或所述側部空間延伸至所述下部空間，其中在所述后部空間內產生的流沿著所述冷卻流徑運動，并且其中所述冷卻流徑與通過所述烹調腔中的所述第二開口流出的流相交并通過所述下部空間將所流出的流驅趕至所述烹調裝置的外部。