[發明專利]分子篩SSZ－73

有效

• 申請號: 200680052851.4
• 申請日: 2006-12-13
• 公開（公告）號: CN101374765A
• 公開（公告）日: 2009-02-25
• 發明（設計）人: S·I·佐內斯;小艾倫·W·伯頓;K·翁
• 申請（專利權）人: 雪佛龍美國公司
• 主分類號: C01B33/26
• 分類號: C01B33/26
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 孫愛

發明背景

發明領域

本發明涉及基本上全二氧化硅的新型結晶分子篩SSZ-73，使用3- 乙基-1，3，8，8-四甲基-3-氮雜雙環[3.2.1]辛烷陽離子作為結構導向 劑(“SDA”)制備SSZ-73的方法，和SSZ-73的用途。

現有技術狀況

由于它們獨特的篩分特性，以及它們的催化性能，結晶分子篩和 沸石尤其可用于例如烴轉化、氣體干燥和分離之類的用途。盡管已經 公開了許多不同的結晶分子篩，仍然需要用于氣體分離和干燥、烴和 化學品轉化和其它用途的具有合意的性質的新型分子篩。新型分子篩 可以含有新型內孔結構，從而在這些工藝中提供提高了的選擇性。

發明概述

本發明涉及具有獨特性質的一類結晶分子篩，其在本文中被稱為 “分子篩SSZ-73”或簡稱為“SSZ-73”。SSZ-73以它的硅酸鹽形式 得到。術語“硅酸鹽”是指含有全二氧化硅或與二氧化硅另一種氧化 物摩爾比非常高的分子篩。

根據本發明，提供了這樣的分子篩，該分子篩包含基本上全二氧 化硅并在煅燒后具有表II的X-射線衍射線。

本文所用的術語“基本上全二氧化硅”是指該分子篩的晶體結構 僅由二氧化硅構成或由二氧化硅和僅痕量的其它氧化物例如氧化鋁構 成，所述其它氧化物可作為二氧化硅源中的雜質而引入。

本發明還提供了這樣的結晶分子篩，其在合成后原樣狀態和在無 水狀態下具有以下組成，所述組成包含二氧化硅和按摩爾比計的以下 物質：

M_2/n/SiO₂??????0-0.03

Q/SiO₂?????????0.02-0.08

F/SiO₂?????????0.01-0.10

其中M是堿金屬陽離子、堿土金屬陽離子或它們的混合物；n是M的 價態(即1或2)；Q是3-乙基-1，3，8，8-四甲基-3-氮雜雙環[3.2.1] 辛烷陽離子，和F是氟。

根據本發明，還提供了包含基本上全二氧化硅的結晶材料的制備 方法，所述方法包括在結晶條件下使二氧化硅活性源、氟離子和包含 3-乙基-1，3，8，8-四甲基-3-氮雜雙環[3.2.1]辛烷陽離子的結構導向 劑接觸。本發明包括這樣的方法，其中所述結晶材料在煅燒后具有表 II的X-射線衍射線。

本發明包括這樣的制備結晶材料的方法，所述方法使用反應混合 物，所述反應混合物包含二氧化硅和按摩爾比計的以下物質：

OH^-/SiO₂???????0.20-0.80

Q/SiO₂?????????0.20-0.80

M_2/n/SiO₂??????0-0.04

H₂O/SiO₂???????2-10

HF/SiO₂????????0.20-0.80

其中M是堿金屬陽離子、堿土金屬陽離子或它們的混合物；n是M 的價態(即1或2)；Q是3-乙基-1，3，8，8-四甲基-3-氮雜雙環[3.2.1] 辛烷陽離子。

氣體分離

根據本發明，提供了分離氣體的方法，所述方法包括使氣體混合 物與含有分子篩的膜接觸，其中所述分子篩是結晶分子篩，所述結晶 分子篩包含基本上全二氧化硅并在煅燒后具有表II的X-射線衍射線。 所述氣體混合物可包含二氧化碳和甲烷。

氮氧化物的還原

根據本發明，提供了氣流中所含的氮氧化物的還原方法，其中所 述方法包括使所述氣流與結晶分子篩接觸，其中所述結晶分子篩包含 基本上全二氧化硅并在煅燒后具有表II的X-射線衍射線。所述分子 篩可以含有能夠催化氮氧化物還原的金屬或金屬離子(例如鈷、銅、 鉑、鐵、鉻、錳、鎳、鋅、鑭、鈀、銠或它們的混合物)，和所述方 法可以在化學計量過量的氧氣的存在下實施。在一個實施方案中，所 述氣流是內燃機的廢氣流。

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