[發明專利]分子篩SSZ-73有效
| 申請號: | 200680052851.4 | 申請日: | 2006-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN101374765A | 公開(公告)日: | 2009-02-25 |
| 發明(設計)人: | S·I·佐內斯;小艾倫·W·伯頓;K·翁 | 申請(專利權)人: | 雪佛龍美國公司 |
| 主分類號: | C01B33/26 | 分類號: | C01B33/26 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 孫愛 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分子篩 ssz 73 | ||
1.包含全二氧化硅的具有表II的X-射線衍射線的煅燒后的結晶 分子篩SSZ-73:
表II
(a)±0.1;
其中該X射線圖中最強的線被指定為值100;W(弱)是低于20; VS(非常強)是大于60。
2.結晶分子篩SSZ-73,其在合成后原樣狀態和在無水狀態下具 有以下組成,所述組成包含二氧化硅和按摩爾比計的以下物質:
M2/n/SiO2??????0-0.03
Q/SiO2?????????0.02-0.08
F/SiO2?????????0.01-0.10
其中M是堿金屬陽離子、堿土金屬陽離子或它們的混合物;n是M的 價態;Q是3-乙基-1,3,8,8-四甲基-3-氮雜雙環[3.2.1]辛烷陽離 子,和F是氟,
該原樣狀態的SSZ-73具有表I的X-射線衍射線:
表I
(a)±0.1
(b)基于相對強度等級來提供X-射線圖,其中該X射線圖中最強 的線被指定為值100;W(弱)是低于20;M(中)是在20至40之間; S(強)是在40至60之間;VS(非常強)是大于60。
3.權利要求2的結晶分子篩SSZ-73的制備方法,所述方法包括 在結晶條件下使二氧化硅活性源、氟離子和包含3-乙基-1,3,8,8-四 甲基-3-氮雜雙環[3.2.1]辛烷陽離子的結構導向劑接觸。
4.權利要求3的方法,其中所述結晶分子篩SSZ-73由反應混合 物來制備,所述反應混合物包含二氧化硅和按摩爾比計的以下物質:
其中M是堿金屬陽離子、堿土金屬陽離子或它們的混合物;n是M 的價態和Q是3-乙基-1,3,8,8-四甲基-3-氮雜雙環[3.2.1]辛烷陽離 子。
5.權利要求4的方法,其中所述反應混合物包含二氧化硅和按摩 爾比計的以下物質:
6.分離氣體的方法,所述方法包括使氣體混合物與含有權利要求 1的結晶分子篩SSZ-73的膜接觸。
7.權利要求6的方法,其中所述氣體混合物包含二氧化碳和甲 烷。
8.氣流中所含的氮氧化物的還原方法,其中所述方法包括使所述 氣流與權利要求1的結晶分子篩SSZ-73接觸,所述結晶分子篩SSZ -73含有能夠催化氮氧化物還原的金屬或金屬離子。
9.權利要求8的方法,其中所述方法在氧氣的存在下實施。
10.權利要求8的方法,其中所述金屬是鈷、銅、鉑、鐵、鉻、 錳、鎳、鋅、鑭、鈀、銠或它們的混合物。
11.權利要求8的方法,其中所述氣流是內燃機廢氣流。
12.權利要求10的方法,其中所述氣流是內燃機廢氣流。
13.含有烴和其它污染物的冷啟動發動機廢氣流的處理方法,所 述方法包括使所述發動機廢氣流流過分子篩床層,所述分子篩床層在 吸附水之前優先吸附烴,以提供第一廢氣流,并使所述第一廢氣流流 過催化劑以將所述第一廢氣流中所含的任何殘留的烴和其它污染物轉 化為無害產物并提供處理過的廢氣流,并將所述處理過的廢氣流排放 到大氣中,所述分子篩床層包含權利要求1的結晶分子篩SSZ-73。
14.權利要求13的方法,其中所述發動機是內燃機。
15.權利要求14的方法,其中所述內燃機是汽車發動機。
16.權利要求13的方法,其中所述發動機以烴質燃料為燃料。
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