[發明專利]制造極細顆粒和涂覆這種顆粒的方法與裝置

無效

• 申請號: 200680050270.7
• 申請日: 2006-10-13
• 公開（公告）號: CN101360482A
• 公開（公告）日: 2009-02-04
• 發明（設計）人: R·H·米勒;J·莫施威特澤
• 申請（專利權）人: 艾博特股份有限兩合公司
• 主分類號: A61K9/14
• 分類號: A61K9/14;B01J2/00;B01F5/06
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 周鐵;林森

1.制備極細顆粒混懸液的方法，其特征在于，使無顆粒的液體1 的液流與液體2的第二液流在高能區中或在到達該高能區之前最早2秒 匯集，所述無顆粒的液體1中含有呈溶解形式的活性化合物，其中所述 兩種液體可以彼此互溶，且溶解在液體1中的所述活性化合物不溶于或 較少溶于液體2，并在所述兩種液體混合時在所述高能區中或在到達所 述高能區之前最多2秒之內以顆粒形式沉淀出來。

2.權利要求1的方法，其特征在于，所述高能區是轉子-定子膠體 磨中的間隙、超聲探針之前的超聲暴露區、活塞-間隙高壓均質器的間隙 或高壓均質器的碰撞區，特別是射流均質器的Y室或Z室。

3.權利要求1或2的方法，其特征在于所述兩個液流彼此平行排列 且在到達高能區之前彼此不混合。

4.權利要求1或2的方法，其特征在于所述兩個液流最初彼此平行 排列并在到達高能區之前彼此接觸和平行地流過一段距離x。

5.權利要求4的方法，其特征在于所述兩個液流最初彼此平行排 列，在到達高能區之前彼此接觸和平行地流過一段距離x，且在到達高 能區之前特別是用靜態混合器混合。

6.權利要求4或5的方法，其特征在于在所述兩個液流到達高能區 之前的延遲時間可以通過改變距離x在1-100ms、100直到500ms或直 至1s或甚至2s的范圍內延長。

7.權利要求1-6之一的方法，其特征在于獲得小于10μm、優選 地小于4μm、更優選地小于1μm且特別是小于0.2μm(200nm)的平 均粒徑(激光衍射法，直徑50％)。

8.權利要求1-6之一的方法，其特征在于獲得了小于3000nm、優 選地小于500nm、特別是小于200nm、優選地小于120nm且特別是小 于50-80nm的平均粒徑(光子相關光譜法(PCS)，z-平均)。

9.用于制備權利要求1-8之一的顆粒混懸液的裝置，其特征在于兩 種液體從中以平行流輸入高能區、特別是膠體磨的間隙或超聲探針的超 聲暴露區的管道。

10.權利要求9的裝置，其特征在于兩種液體從中以平行流輸入超 聲探針的超聲暴露區的管道，其中a)直至到達所述超聲暴露區的延遲時 間和b)兩個流的接觸時間可以通過所述接觸距離x的變化來改變。

11.權利要求9或10的裝置，特征在于其為高壓均質器，其中所述 兩種液體在到達所述高能區之前最早2秒或直接在所述高能區內匯集。

12.權利要求9-11之一的裝置，其特征在于兩個管道，所述兩種液 體通過所述管道輸入具有位于圓柱體中的兩個移動活塞的活塞-間隙均 質器的上部區域S(液體1)或下部區域NS(液體2)，其中所述兩種液體通 過所述活塞的運動被吸入所述圓柱體，所述活塞在到達其止點之后各自 相向運動且液體受迫穿過所述均質化間隙。

13.權利要求9-11之一的裝置，其特征在于兩個管道，所述兩種液 體不經預先混合地通過所述管道輸入具有活塞的活塞-間隙均質器中，或 者所述兩種液體在到達均質器圓柱體之前以平行流彼此發生接觸。

14.權利要求12或13的裝置，其特征在于用射流均質器的碰撞區 代替所述活塞-間隙均質器的間隙，液體1被在中心引入運載液體2的管 道，然后所述兩種液體被通過均質化室的管道系統輸入所述碰撞區。

15.涂覆顆粒的方法，其特征在于，待涂覆顆粒，特別是通過權利 要求1-8之一的方法制備的顆粒，被分散在含有溶解形式的涂覆材料的 分散介質中，其中通過借助于易揮發組分的pH變化或與易揮發組分配 位、特別是形成鹽而溶解所述涂覆材料，然后使由此制備的顆粒混懸液 在提高的溫度下經受干燥處理。

16.權利要求15的方法，其特征在于，所述涂覆材料包括聚合物或 由聚合物構成，其中所述聚合物適宜以期望的方式影響顆粒的釋放性 能。