[發明專利]分配器底板

有效

• 申請號: 200680048647.5
• 申請日: 2006-12-20
• 公開（公告）號: CN101346178A
• 公開（公告）日: 2009-01-14
• 發明（設計）人: F·豪詹伯格;K·澤赫特鮑爾;李晙赫;申明均;南宮源;趙敏永;鄭善光;崔洛晙;金倖久
• 申請（專利權）人: 西門子VAI金屬科技有限責任公司;浦項鋼鐵公司
• 主分類號: B01J8/44
• 分類號: B01J8/44
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 曹若

技術領域

本發明涉及一種分配器底板，特別是噴嘴分配器底板，用于均勻地將過程氣體特別是充有固體微粒的過程氣體必要時為了形成渦流層引入到一個布置于分配器底板上方的處理室中，處理室由反應器的反應器壁構成，反應器用于對給料進行冶金處理，特別是熱處理，其中，分配器底板具有大量的孔。

背景技術

分配器底板用于將過程氣體受控地引入或分配到反應器中。這種反應器例如根據渦流層的原理工作，其中，過程氣體流多數將應當在反應器中得到處理的塊狀材料保持在渦流層中。

在現有技術中已知，通過反應器中的分配器底板確保過程氣體的分配。

在運行這種反應器時的一個基本問題是在反應器壁上或在分配器底板本身的區域中的沉積。它可以由此產生，即，存在液化非常少的區域，這樣，如果固體易于粘附，那么固體可以在這個位置形成牢固的附聚物，它也作為粘合物被公知。這種效應一方面減少了反應器的可利用容積，另一方面可能妨礙或完全喪失部件的功能，比如對于換熱管，其熱傳遞可能大大減小。

從WO98/55218中可以獲悉一種用于改善渦流層機組中的氣流的裝置。然而，其中的缺點是，通過所展示的分配器底板不能可靠地避免沉積，特別是在反應器容器范圍內的沉積。

發明內容

以現有技術為出發點，本發明的任務是，克服現有技術中的缺點并提供一種在整個反應器室中在很大程度上避免粘合物的分配器底板。

按照本發明的任務將根據一種反應器來解決，所述反應器用于對給料進行冶金熱處理，帶有分配器底板，該分配器底板用于為了形成渦流層均勻地將充有固體微粒的過程氣體引入到布置于分配器底板上方的處理室中，處理室由反應器的反應器壁構成，其中，分配器底板具有大量的孔，其特征在于，分配器底板具有所謂的壁附近的孔，它們與反應器壁間隔開布置，使得其中軸線的距離相應地最大為孔直徑的1至10倍，和/或壁附近的孔的中軸線與分配器底板的中軸線之間的距離相對于分配器底板的半徑的比例為0.9至1。

粘合物特別是在反應器中流速較小的區域內產生問題，因為這里只是較少地被液化且因此只有較少的用于中斷固體-固體-橋接的沖力可供使用。粘附經常出現在反應器壁的處分配器底板的區域中。通過按照本發明的分配器底板，壁附近的孔以這種方式與反應器壁間隔開地布置，即，其中心距相應地最大為孔直徑的1至10倍，特別是2倍。這里，壁附近可以理解為從外邊緣開始測量，大概為直徑的5％至20％之間的區域。

相對于現有技術，孔的定位離反應器壁明顯更近。因此，確保了即使是在反應器壁的區域內也存在足夠大的流速及由此存在足夠的過程氣體流，這樣，粘附得以避免。盡量靠近反應器壁來布置壁附近的孔避免形成壁附近流速較小的渦流層，這種渦流層會再次導致將在反應器中得到處理的塊狀或細粒狀材料的沉積。通過根據孔的直徑調節距離，流動狀況可以得到相應地影響或調整。

按照本發明的分配器底板的一種特殊的實施方式，壁附近的孔的中軸線與分配器底板的中軸線之間的距離相對于分配器底板的半徑的比例為0.9至1。該特殊的設計方案允許產生一種有利的連續流動并因此允許形成渦流層。

根據按照本發明的分配器底板的一種特殊的實施方式，壁附近的孔圓形地布置在1至5個、特別是3個圓中。這種特殊的布置形式特別在具有圓形橫截面的反應器內允許過程氣體到反應器中的有利的連續流動或輸入。因此，可以避免壁附近沒有孔的分配器底板區域并排除易于粘附的區域。每個圓的孔可以相應地與壁之間以相同的距離布置。每個圓中的孔的角度位置可以根據流動狀況的調節需要而變化。還可以考慮這樣確定圓中的孔，即，孔各自按照徑向指向的射束布置。另外還可以考慮的是，為不具有圓形的而是比如帶有棱角的橫截面的反應器設置這種孔的布置。通過孔的布置與橫截面狀況的匹配也可以可靠地避免在角落中的沉積。

根據按照本發明的分配器底板的一種特殊的實施方式，壁附近的孔與反應器內壁平行地布置在1至5行、特別是2行中。這種設計方案特別在具有比如帶棱角的橫截面的反應器中得到應用。通過按照本發明的布置可以有利地調整流動條件。

根據按照本發明的分配器底板的一種有利的實施方式，壁附近的孔中的至少一個與反應器壁中的至少一個成一直線地布置。壁附近的孔的布置這樣實現，即，使孔的軸與最近的反應器壁成一直線，也就是說，孔的軸至少平行于壁。通過這種布置，再結合孔與反應器壁之間微小的距離，實現了反應器壁處非常好的流動性。由此可以避免粘附。