[發明專利]分配器底板

有效

• 申請號: 200680048647.5
• 申請日: 2006-12-20
• 公開（公告）號: CN101346178A
• 公開（公告）日: 2009-01-14
• 發明（設計）人: F·豪詹伯格;K·澤赫特鮑爾;李晙赫;申明均;南宮源;趙敏永;鄭善光;崔洛晙;金倖久
• 申請（專利權）人: 西門子VAI金屬科技有限責任公司;浦項鋼鐵公司
• 主分類號: B01J8/44
• 分類號: B01J8/44
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 曹若

1.反應器，用于對給料進行冶金熱處理，帶有分配器底板(1)，該分配器底板用于為了形成渦流層(2)均勻地將充有固體微粒的過程氣體引入到布置于分配器底板上方的處理室(3)中，處理室由反應器的反應器壁(4)構成，其中，分配器底板(1)具有大量的孔，其特征在于，分配器底板具有所謂的壁附近的孔(5)，它們與反應器壁(4)間隔開布置，使得其中軸線的距離相應地最大為孔直徑的1至10倍，和/或壁附近的孔(5)的中軸線與分配器底板(1)的中軸線之間的距離相對于分配器底板的半徑的比例為0.9至1。

2.如權利要求1所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔(5)以圓形布置在1至5個圓(6)中。

3.如權利要求1或2中所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔與內部的反應器壁平行地布置在1至5行中。

4.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔(5)中的至少一個與反應器壁(4)中的至少一個成一直線地布置。

5.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔(5)中的至少一個與反應器壁(4)中的至少一個成±15°之間的角度。

6.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔(5)至少部分地布置在圓上，其中，至少2個圓的孔沿周向相互錯開地布置。

7.如權利要求6所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔(5)布置成下一個內部的圓的孔布置在外部的圓的孔之間。

8.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，所述分配器底板邊緣區域上單位面積的壁附近的孔(5)的數量大于遠離壁的區域上單位面積的遠離壁的孔(6)的數量。

9.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔(5)具有相對于遠離壁的孔(6)更大的直徑，從而能夠向壁附近的區域引入更多的過程氣體。

10.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔(5)中的至少一個與反應器壁(4)之一平行布置且/或相對于分配器底板上的法線以一個±15°的角度α傾斜布置。?

11.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，使所述壁附近的孔(5)中的至少一個相對于反應器壁(4)定向，使得反應器壁(4)被在孔處形成的過程氣體射流在計算出的射流射入深度處擊中。

12.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，使所述壁附近的孔(5)中的至少一個相對于反應器壁(4)定向，使得反應器壁(4)被在孔處形成的過程氣體射流在計算出的射流射入深度的70％至130％處擊中。

13.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，所述壁附近的孔(5)不同于遠離壁的孔(6)定向。

14.如權利要求1或2所述的反應器，其特征在于，所述孔(5、6)中的至少一個具有可調整位置的噴嘴(7)。

15.如權利要求14所述的反應器，其特征在于，所述可調整位置的噴嘴(7)包括導管(8)，其中，所述導管(8)的內直徑為最小的噴嘴直徑的1至10倍。

16.如權利要求15所述的反應器，其特征在于，所述導管(8)的長度相當于分配器底板(1)厚度的至少70％。

17.如權利要求15所述的反應器，其特征在于，所述導管(8)由耐火材料制成。

18.如權利要求15所述的反應器，其特征在于，噴嘴軸線相對于導管(8)的軸線和/或相對于分配器底板中的孔(5、6)傾斜地布置。

19.如權利要求15所述的反應器，其特征在于，所述導管(8)具有彎頭(9)。

20.如權利要求14所述的反應器，其特征在于，所述噴嘴(7)具有基本為圓柱形或圓錐形的噴嘴開孔。

21.如權利要求14所述的反應器，其特征在于，所述噴嘴(7)由金屬制成。

22.如權利要求14所述的反應器，其特征在于，所述噴嘴(7)借助于焊接連接或通過法蘭與分配器底板(1)相連接。?