[發明專利]光盤裝置、串擾校正方法和集成電路

有效

• 申請號: 200680047260.8
• 申請日: 2006-12-13
• 公開（公告）號: CN101553874A
• 公開（公告）日: 2009-10-07
• 發明（設計）人: 高澤稔;山田真一;山元猛晴;大石恭生
• 申請（專利權）人: 松下電器產業株式會社
• 主分類號: G11B7/095
• 分類號: G11B7/095
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 汪惠民

技術領域

本發明涉及一種在光點跨越軌道時，對泄漏到聚焦誤差信號的跟蹤誤差信號成分進行校正，并降低光盤裝置的耗電和提高聚焦控制的穩定性的光盤裝置、串擾(crosstalk)校正方法和集成電路。?

背景技術

近年來，作為高密度·大容量的記錄介質，DVD-ROM、DVD-RAM、DVD±R、DVD±RW得到開發。除了上述的光盤外，作為以記錄高清晰影像等為目的更大容量的記錄介質，藍光光盤(blu-ray?disc)等光盤得到開發。?

在光盤裝置中，在光盤聚光的光點跨越軌道時，會產生軌道跨越信號(跟蹤誤差信號(下面稱為“TE”信號)泄漏到聚焦誤差信號(下面稱為“FE信號”)的光學串擾。若產生光學串擾，則光點會產生抖動，在該抖動較大的情況下，會產生散焦。?

在光盤裝置中，在進行聚焦誤差信號的檢測中，較多采用非點像差法。非點像差法是一種如下所述的方法：將受光元件的受光面分成4部分，在被分割成4部分的受光面中，將在對角線上配置的2個受光面作為一組，對光強度信號進行相加(對各個以配置在對角線上的2個受光面構成的組進行光強度信號的加法運算，求取與各個組對應的這2個加法運算信號。)，從這2個加法運算信號的差檢測出聚焦誤差信號。?

在這樣的非點像差法中，例如，在受光元件的安裝位置偏離了相對于光軸的光盤的軌道的切線方向的情況下，由于泄漏到2個加法運算信號的軌道跨越成分(光學串擾)不能成為相同的量，所以泄漏到2個加法運算信號的軌道跨越成分不能相互抵消，在聚焦誤差信號中出現軌道跨越成分。若在該聚焦誤差信號出現的軌道跨越成分較大，在光盤裝置中，會產?生散焦。因此，需要校正光學串擾。?

在現有的光盤裝置中采用在尋道(seek)中等跟蹤控制停止的情況下，對光學串擾進行校正的方法。對此，利用圖29進行說明。在圖29表示了現有的光盤裝置600的構成圖。光盤裝置600主要由如下構成：用于從光盤102再生信息或將信息記錄在光盤102的光頭(主要由光源104、耦接透鏡(coupling?lens)106、偏振光分束器108、偏振板110、會聚透鏡(converging?lens)112、聚光透鏡114和受光元件116構成)、聚焦誤差檢測部2901、聚焦控制部2902、垂直移動部140、跟蹤誤差檢測部2904、跟蹤控制部2905、水平移動部142、和光學串擾校正部2911)。?

在圖29中，聚焦誤差檢測部2901通過受光元件116從來自光盤的反射光中檢測聚焦誤差信號，并輸出。聚焦控制部2902根據聚焦誤差檢測部2901的輸出，產生控制信號以使光點在光盤上的的聚光狀態大致保持恒定，通過該控制信號驅動垂直移動部140，執行聚焦控制。跟蹤誤差檢測部2904通過受光元件116從來自光盤的反射光檢測跟蹤誤差信號，并輸出。跟蹤控制部2905根據跟蹤誤差檢測部2904的輸出，產生控制信號以使光點的位置在自光盤的軌道中心大致恒定的范圍內，通過該控制信號驅動水平移動部142，執行跟蹤控制。在光點跨越軌道時，在從受光元件116向跟蹤誤差檢測部2904的路徑到受光元件116向聚焦誤差檢測部2901的路徑上，產生光學串擾。在圖29的2910表示的部分的構成，等價地表示該狀態。由于該光學串擾，從跟蹤誤差信號向聚焦誤差信號，泄漏相當于光學串擾的信號(光學的泄漏信號)。?

光學串擾校正部2911由系數器2908和加法器2912構成，對從聚焦誤差檢測部2901輸出的聚焦誤差信號進行電校正，以減少因光學串擾而產生的光學的泄漏信號成分。系數器2908將跟蹤誤差信號作為輸入信號，將用于減少因光學串擾而產生的光學的泄漏信號成分的增益值與跟蹤誤差信號相乘，輸出到加法器2912。加法器2912通過相加來自聚焦誤差檢測部2901的輸出和來自系數器2908的輸出，將減少了因光學串擾而產生的光學的泄漏信號成分的聚焦誤差信號輸出到聚焦控制部2902。?

由此，在光盤裝置600中，可以實現降低光學串擾的影響的聚焦控制。?

關于該聚焦誤差信號的校正，例如，具有如下技術：求出跟蹤停止時?的泄漏到聚焦誤差信號的跟蹤誤差信號的泄漏量，在尋道時，從聚焦誤差信號減去根據該求得的泄漏量進行水平(level)調整后的跟蹤誤差信號(例如，參照專利文獻1)。?

另外，關于該聚焦誤差信號的校正，以往也采用過如下技術：將在岸臺(land)和溝槽(groove)各不相同的聚焦偏置量，分別在岸臺和溝槽進行校正(例如，參照專利文獻2)。?