[發明專利]光盤裝置、串擾校正方法和集成電路

有效

• 申請號: 200680047260.8
• 申請日: 2006-12-13
• 公開（公告）號: CN101553874A
• 公開（公告）日: 2009-10-07
• 發明（設計）人: 高澤稔;山田真一;山元猛晴;大石恭生
• 申請（專利權）人: 松下電器產業株式會社
• 主分類號: G11B7/095
• 分類號: G11B7/095
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 汪惠民

1.一種光盤裝置，在具有由岸臺和溝槽構成的軌道的光盤進行信息的 記錄再生，所述光盤裝置具有：

聚焦誤差檢測部，其從在所述光盤聚光的點的反射光中檢測聚焦誤差 信號，并輸出所述聚焦誤差信號；

跟蹤誤差檢測部，其從所述反射光中檢測跟蹤誤差信號，并輸出所述 跟蹤誤差信號；

光學串擾校正量決定部，其在所述點跨越所述軌道時，根據在來自所 述光盤的反射光中產生的從所述跟蹤誤差信號泄漏到所述聚焦誤差信號 的信號成分的微分值，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的校正 量；

乘法器，其將所述跟蹤誤差檢測部的輸出和所述光學串擾校正量決定 部所決定的所述校正量相乘；

加法器，其將所述聚焦誤差檢測部的輸出和所述乘法器的輸出相加；

聚焦控制部，其根據所述加法器的輸出對所述點的聚焦進行控制；和

跟蹤控制部，其根據所述跟蹤誤差檢測部的輸出進行跟蹤控制。

2.一種光盤裝置，在具有由岸臺和溝槽構成的軌道的光盤進行信息的 記錄再生，所述光盤裝置具有：

聚焦誤差檢測部，其從在所述光盤聚光的點的反射光中檢測聚焦誤差 信號，并輸出所述聚焦誤差信號；

跟蹤誤差檢測部，其從所述反射光中檢測跟蹤誤差信號，并輸出所述 跟蹤誤差信號；

光學串擾校正量決定部，其在所述點跨越所述軌道時，根據在來自所 述光盤的反射光中產生的從所述跟蹤誤差信號泄露到所述聚焦誤差信號 的信號成分，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的校正量；

乘法器，其將所述跟蹤誤差檢測部的輸出和所述光學串擾校正量決定 部所決定的所述校正量相乘；

加法器，其將所述聚焦誤差檢測部的輸出和所述乘法器的輸出相加；

聚焦控制部，其根據所述加法器的輸出對所述點的聚焦進行控制；和

跟蹤控制部，其根據所述跟蹤誤差檢測部的輸出進行跟蹤控制，

所述光學串擾校正量決定部在執行所述點的聚焦控制而不執行所述 點的跟蹤控制的情況下，根據從所述跟蹤誤差信號泄漏到所述聚焦誤差信 號的信號成分的振幅值，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的所述 校正量的粗略校正量；在執行所述點的聚焦控制并執行所述點的跟蹤控制 的情況下，根據從所述跟蹤誤差信號泄漏到所述聚焦誤差信號的信號成分 的微分值，決定用于校正所述跟蹤誤差檢測部的輸出的所述校正量的精確 校正量。

3.根據權利要求2所述的光盤裝置，其特征在于，

還具有對所述跟蹤控制部的輸出附加擾動信號的擾動附加部；

所述擾動附加部，在執行所述跟蹤控制的情況下，附加具有所述跟蹤 控制和所述聚焦控制的頻帶外的頻率和振幅的擾動信號；

所述光學串擾校正量決定部根據因附加所述擾動信號而產生的、從所 述跟蹤誤差信號泄漏到所述聚焦誤差信號的信號成分，決定用于校正所述 跟蹤誤差檢測部的輸出的所述校正量的所述精確校正量。

4.根據權利要求1～3中任意一項所述的光盤裝置，其特征在于，

還具有跟蹤極性決定部，其將進行跟蹤控制的對象決定為所述軌道的 所述岸臺和所述溝槽的某一方；

所述光學串擾校正量決定部根據所述跟蹤極性決定部的輸出，設定所 述校正量。

5.根據權利要求4所述的光盤裝置，其特征在于，

所述光學串擾校正量決定部在所述岸臺和所述溝槽的至少任意一方 中，求取所述校正量。

6.根據權利要求4所述的光盤裝置，其特征在于，

所述光學串擾校正量決定部根據所述岸臺的所述校正量，決定所述溝 槽的所述校正量。

7.根據權利要求4所述的光盤裝置，其特征在于，

所述光學串擾校正量決定部根據所述溝槽的所述校正量，決定所述岸 臺的所述校正量。