[發(fā)明專利]沉積高品質(zhì)反射涂層的方法和設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200680045503.4 | 申請日: | 2006-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN101321708A | 公開(公告)日: | 2008-12-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | K·哈蒂格 | 申請(專利權(quán))人: | 卡迪奈爾鍍膜玻璃公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36;C03C17/00;C23C14/56 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 苗征;于輝 |
| 地址: | 美國明*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 沉積 品質(zhì) 反射 涂層 方法 設(shè)備 | ||
相關(guān)申請
本申請要求2006年4月5日提交的美國實用新型申請 No.11/398,345(“‘345申請”)以及2005年10月11日提交的美國臨時申請 No.60/725891的優(yōu)先權(quán),而‘345申請要求2006年2月23日提交的美國 實用新型申請No.11/360,266的優(yōu)先權(quán),它們的全部內(nèi)容并入本申請中作為 參考。本申請是‘345申請的部分繼續(xù)申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于玻璃和其它基底的薄膜涂層。特別的,本發(fā)明涉及反 射紅外輻射的低輻射涂層。還提供了沉積薄膜涂層的方法和設(shè)備。
背景技術(shù)
低輻射涂層在本領(lǐng)域中是公知的。通常,它們包括一層或兩層紅外反 射膜和兩層或更多層透明介電膜。一般為導(dǎo)電金屬(如銀、金或銅)的紅外反 射膜通過涂層減小了熱傳遞。介電膜用于在選擇的光譜區(qū)(太陽光的可見區(qū)) 抗紅外反射膜的反射,并用于控制涂層的其它性能和特性,例如顏色和耐 久性。其中通常使用的介電材料包括鋅、錫、銦、鉍和鈦的氧化物。
大多數(shù)可商購的低輻射涂層具有一個或兩個銀層,各銀層夾在兩個透 明介電膜的涂層之間。在低輻射涂層中增加銀膜的數(shù)量可以增大其紅外反 射。在商業(yè)的涂覆方法中,通過生長支持層(下面的)和上面的保護層來支持 Ag膜。特別是上面的保護層可以增加對層疊體的一些附加(對于銀膜)吸收。 對于層疊體中的多層銀膜,這可以使總吸收水平對一些應(yīng)用不可接受。這 也會降低涂層的可見光透射,和/或負面地影響涂層的顏色,和/或降低涂層 的耐久性。在一些方法中,生長支持層設(shè)置在銀膜之下,保護膜設(shè)置在銀 膜之上。低輻射涂層中生長支持層和保護層數(shù)量的增加可以增加涂層的總 體吸收。這在一些情況中是不理想的。或許由于這些原因,具有三個銀層 的低輻射涂層過去沒有占據(jù)較大市場。
提供包括三個紅外反射膜區(qū)域,并具有理想涂層性能和特性的低輻射 涂層是理想的。還需要提供能制備這種性質(zhì)的高品質(zhì)涂層的沉積方法和設(shè) 備。
發(fā)明概述
在某些實施方案中,本發(fā)明提供了在玻璃片上沉積膜的方法。在本發(fā) 明的實施方案中,該方法包括提供涂布機,該涂布機具有延伸通過涂布機 的基底行進通道。
下面的描述使用具有水平的基底輸送通道的涂布機作為實例(指向下和 向上涂覆以覆蓋兩個表面)。
總所周知,使用(幾乎)垂直的玻璃輸送通道的涂布機可以實現(xiàn)相同的目 的。在這種情況中,涂覆方向“向上”和“向下”被替換成:左和右。
表述“濺射”或“磁控濺射”代表目前最常用的涂覆方法,但很顯然 可以使用任何(大面積)真空涂覆方法來替換。
與這些涂層站(coating?station)相銜接的(in-line)可以為用于加熱、冷卻、 清潔、活化或者完成一些等離子體噴射處理(plasma?peening?action)的處理站 (treatment?station)。
還意味著,如果在基底通過涂覆線路的行進過程中,應(yīng)用了不同的氣 體(混合物)和壓力,那么可以存在動力氣體分離區(qū)。
優(yōu)選地,涂布機包括設(shè)置在基底行進通道上面的向下涂覆設(shè)備。玻璃 片在通常為水平的方向上沿著基底行進通道傳送,其中玻璃片的頂部主表 面定向朝上,且玻璃片的底部主表面定向朝下。操作向下涂覆設(shè)備,以在 玻璃片的頂部主表面上沉積涂層,從玻璃片的頂部主表面向外,該涂層包 括一系列的至少七個膜區(qū)域:第一透明介電膜區(qū)域、包含銀的第一紅外反 射膜區(qū)域、第二透明介電膜區(qū)域、包含銀的第二紅外反射膜區(qū)域、第三透 明介電膜區(qū)域、包含銀的第三紅外反射膜區(qū)域和第四透明介電膜區(qū)域。在 本發(fā)明的實施方案中,所述方法包括在玻璃片單次通過涂布機時沉積所提 到的膜區(qū)域,并且在此單次通過的過程中,玻璃片以超過275英寸每分鐘 的傳送速度傳送。透明介電膜區(qū)域可以由不同材料的多個分層構(gòu)成。除了 用于光學(xué)性能的選擇,這些材料可以選擇用于在任何任選的熱處理之前和/ 或之后優(yōu)化整個層疊體的電子、機械、和/或化學(xué)性能。在本發(fā)明的一些實 施方案中,涂布機具有包括至少60個濺射室的延伸的系列腔室,有用的涂 布寬度的主要尺寸至少為2米,且該方法包括在玻璃片單次通過涂布機的 過程中全部地涂覆玻璃片的頂部和底部主表面。
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