[發明專利]沉積高品質反射涂層的方法和設備

無效

• 申請號: 200680045503.4
• 申請日: 2006-10-11
• 公開（公告）號: CN101321708A
• 公開（公告）日: 2008-12-10
• 發明（設計）人: K·哈蒂格
• 申請（專利權）人: 卡迪奈爾鍍膜玻璃公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36;C03C17/00;C23C14/56
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 苗征;于輝

1、在玻璃片上沉積膜的方法，該方法包括：

a)提供涂布機，其具有延伸通過涂布機的基底行進通道，該涂布機包括 設置在基底行進通道之上的向下涂覆設備；

b)以通常水平的方向沿著基底行進通道傳送玻璃片，其中玻璃片的頂部 主表面定向朝上，且玻璃片的底部主表面定向朝下；并且

c)操作向下涂覆設備以在玻璃片的頂部主表面沉積涂層，從玻璃片的頂 部主表面向外，該涂層包括順序的至少七個膜區域，所述七個膜區域包括 第一透明介電膜區域、包含銀的第一紅外反射膜區域、第二透明介電膜區 域、包含銀的第二紅外反射膜區域、第三透明介電膜區域、包含銀的第三 紅外反射膜區域和第四透明介電膜區域；

該方法包括在玻璃片單次通過涂布機的過程中沉積所述至少七個膜區 域，且其中在此單次通過的過程中，所述玻璃片以超過275英寸每分鐘的 傳送速度傳送。

2、權利要求1的方法，其中所述涂布機具有向上濺射區和向下濺射區， 向上濺射區的特征是一系列下部靶設置在比基底行進通道低的高度，向下 濺射區的特征是一系列上部靶設置在比基底行進通道高的高度，其中，在 向上濺射區的所有濺射室中保持氧化濺射氣氛，且其中在向下濺射區的多 個濺射室中保持氮化濺射氣氛，所述方法包括在氧化氣體中向上反應性地 濺射所有下部靶，并在氮化氣體中向下反應性地濺射多個上部靶。

3、權利要求1的方法，其中所述傳送速度為300英寸每分鐘或更快。

4、權利要求1的方法，其中所述紅外反射膜區域通過在平均功率超過 8.5kW下濺射含銀的靶來沉積。

5、權利要求1的方法，其中所述傳送速度為310英寸每分鐘或更快， 所述紅外反射膜區域通過濺射含銀的靶來沉積，且至少一個含銀的靶在超 過12kW的功率下濺射。

6、權利要求1的方法，其中所述紅外反射膜區域通過濺射含銀的靶來 沉積，在沉積第一紅外反射膜區域中使用第一功率水平來濺射含銀的靶， 在沉積第二紅外反射膜區域中使用第二功率水平來濺射含銀的靶，在沉積 第三紅外反射膜區域中使用第三功率水平來濺射含銀的靶，第三功率水平 大于第二功率水平，且第二功率水平大于第一功率水平。

7、權利要求1的方法，其中所述涂布機具有延伸的濺射室系列，并包 括設置在基底行進通道下面的向上涂覆設備，該向上涂覆設備包含設置在 比基底行進通道的高度低的下部濺射靶，向下涂覆設備包含設置在比基底 行進通道的高度高的上部濺射靶，其中所述涂布機的延伸的濺射室系列包 括至少39個均包括至少一個上部濺射靶的向下濺射室。

8、權利要求7的方法，其中所述涂布機的延伸的濺射室系列包括至少 55個濺射室。

9、權利要求7的方法，其中操作向下涂覆設備以在玻璃片的頂部主表 面上沉積所述涂層，該方法包括：在所述玻璃片的頂部主表面與第一紅外 反射膜區域之間沉積至少50埃的透明介電膜；在第一和第二紅外反射膜區 域之間沉積至少100埃的透明介電膜；在第二和第三紅外反射膜區域之間 沉積至少100埃的透明介電膜；并在第三紅外反射膜區域之上沉積至少50 埃的透明介電膜。

10、權利要求9的方法，其中所述向下涂覆設備的操作包括：在所述 玻璃片的頂部主表面與第一紅外反射膜區域之間沉積不超過175埃的透明 介電膜。

11、權利要求1的方法，其中所述涂布機具有包括至少60個濺射室的 延伸的濺射室系列，所述玻璃片的主要尺寸為至少2米，且所述方法包括 在玻璃片單次通過涂布機的過程中全部涂覆玻璃片的頂部和底部主表面。

12、權利要求1的方法，其中，所述玻璃片單次通過涂布機是連續的， 在所述單次通過的過程中從涂布機移出玻璃片不中斷玻璃片的傳送。

13、權利要求1的方法，其中，在所述玻璃片單次通過涂布機的整個 過程中，所述傳送速度保持基本恒定。