[發(fā)明專利]用于將模具與固化壓印材料分開的技術(shù)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200680044171.8
• 申請日: 2006-09-22
• 公開（公告）號: CN101316693A
• 公開（公告）日: 2008-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: M·加納帕斯蘇伯拉曼尼安;崔炳鎮(zhèn);M·N·米勒;N·A·斯塔西;M·P·C·瓦茨
• 申請（專利權(quán)）人: 分子制模股份有限公司
• 主分類號: B29C59/02
• 分類號: B29C59/02;B29C43/00;B41F1/00;B29C69/00;B41F19/00
• 代理公司: 上海專利商標事務(wù)所有限公司
• 代理人: 茅翊忞

背景技術(shù)

本發(fā)明的領(lǐng)域總的涉及結(jié)構(gòu)的納米級制造。更具體地說，本發(fā)明涉及一種用于 改進在壓印光刻工藝中采用的接觸壓印的方法。

納米級制造涉及制造非常小的結(jié)構(gòu)，例如，具有一納米或幾納米量值的特征。 用在納米級制造中較有前景的工藝被稱為壓印光刻。在許多出版物中詳細描述了示 例性的壓印光刻工藝，諸如名稱為“Method?and?a?Mold?to?Arrange?Features?on?a Substrate?to?Replicate?Features?having?Minimal?Dimensional?Variability”、提交作為美 國專利申請10/264,960的美國專利申請公布2004/0065976；名稱為“Method?of Forming?a?Layer?on?a?Substrate?to?Facilitate?Fabrication?of?Metrology?Standards”、提交 作為美國專利申請10/264,926的美國專利申請公布2004-0065252；以及名稱為 “Method?and?a?Mold?to?Arrange?Features?on?a?Substrate?to?Replicate?Features?having Minimal?Dimensions?Variability”的美國專利6,936,194；所有這些都轉(zhuǎn)讓給了本發(fā) 明的受讓人。

參見圖1，壓印光刻的基本概念是在襯底上形成浮凸圖形，該襯底尤其可用作 蝕刻掩模，從而可在襯底中形成與該浮凸圖形相對應(yīng)的圖形。用來形成浮凸圖形的 系統(tǒng)10包括其上支承襯底12的平臺11、以及具有其上帶有圖形面18的模具16 的模板14。圖形面18可以是基本光滑的和/或平坦的，或者可以形成圖形從而在其 中形成一個或多個凹陷。模板14聯(lián)接至壓印頭20以促進模板14的移動。流體分 配系統(tǒng)22被聯(lián)接從而選擇性地放置成與襯底12流體連通，從而在襯底上沉積可聚 合材料24。能量28的電源26被聯(lián)接，以將沿著路徑30引導(dǎo)能量28。壓印頭20 和平臺11構(gòu)造成分別將模具16和襯底12布置成疊置關(guān)系并且位于路徑30內(nèi)。壓 印頭20和平臺11中的任一個或兩個可改變模具16和襯底12之間的距離，以限定 由可聚合材料24充填于其間的所想要容積。可采用標準夾緊技術(shù)來保持襯底12 和平臺11的相對位置。例如，平臺11可包括真空夾盤，諸如聯(lián)接至真空源(未示 出)的銷式夾盤(未示出)。

通常，在將所想要的容積限定于模具16和襯底12之間前，將可聚合材料24 設(shè)置在襯底12上。然而，在已經(jīng)獲得所想要的容積之后，可聚合材料24可充填該 容積。在用可聚合材料24充填所想要的容積之后，電源26產(chǎn)生能量28，該能量 引起襯底面25和模具面18的成形。通過處理器32來調(diào)節(jié)該工藝控制，該處理器 32與平臺11、壓印頭20、流體分配系統(tǒng)22和電源26數(shù)據(jù)通信，并且運行一存儲 在存儲器34中的計算機可讀程序。

在可聚合材料24中精確形成圖形的重要特征是確保在可聚合材料24中形成的 特征尺寸可受控制。否則，會導(dǎo)致將特征中的變形蝕刻到下置的襯底中。

因此，需要改進在接觸光刻工藝中采用的壓印技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種用于將模具與固化壓印材料分開的方法，該方法包括：在其中 包括模具的模板中產(chǎn)生變形。該變形足以產(chǎn)生一回復(fù)力，該回復(fù)力大于固化壓印材 料和模具之間的粘合力。例如，變形可源自模具和模板設(shè)置成與模具相反的一側(cè)之 間產(chǎn)生的壓差。這樣，變形可以是在模具中足夠量值的波狀起伏，以接觸其上設(shè)置 固化壓印材料的襯底。這里描述了這些和其它的實施例。

附圖說明

圖1是根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的光刻系統(tǒng)的簡化平面圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明的模板和設(shè)置在襯底上的壓印材料的簡化平面圖；

圖3是圖2所示的模板和襯底的簡化平面圖，其中壓印材料顯示成在襯底上已 形成圖形和固化；

圖4是根據(jù)本發(fā)明的圖2和3所示的襯底的詳圖；

圖5是圖4所示的襯底的詳圖，其中具有設(shè)置于其上的壓印材料的固化構(gòu)型；

圖6是圖5所示的襯底在經(jīng)受了對于襯底暴露區(qū)域的蝕刻化學(xué)工藝之后的詳 圖；

圖7是圖6所示的襯底在經(jīng)受了蝕刻和去除固化壓印材料之后的詳圖；

圖8是根據(jù)本發(fā)明的柔性模板的橫截面圖；