[發(fā)明專(zhuān)利]半導(dǎo)體封裝及其制造方法、半導(dǎo)體模塊和電子設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680042611.6 | 申請(qǐng)日: | 2006-11-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101310381A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石川和弘;西田勝逸;藤田和彌;仲橋孝博 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 夏普株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L23/28 | 分類(lèi)號(hào): | H01L23/28;H01L27/14 |
| 代理公司: | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 劉杰;劉宗杰 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 及其 制造 方法 模塊 電子設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體封裝及其制造方法、具備該半導(dǎo)體封裝的半導(dǎo)體模塊、以及具備該半導(dǎo)體模塊的電子設(shè)備。
背景技術(shù)
近年來(lái),移動(dòng)電話(huà)、移動(dòng)信息終端、個(gè)人電腦、數(shù)碼相機(jī)等各種各樣的電子設(shè)備中都使用了帶有攝像元件的電子式照相機(jī)。目前,人們對(duì)這些電子式照相機(jī)提出了小型化和低成本化要求。因此,很多電子設(shè)備逐漸開(kāi)始使用圖像傳感器(半導(dǎo)體芯片)和透鏡一體化(單個(gè)封裝)的小型的照相機(jī)模塊。
這樣,雖然照相機(jī)模塊的小型化需求不斷提高,但用于圖像傳感器和支承透鏡的透鏡支架的定位的區(qū)域會(huì)對(duì)模塊大小造成很大影響。
例如,專(zhuān)利文獻(xiàn)1~4中公開(kāi)了小型的照相機(jī)模塊。圖6~9是分別表示專(zhuān)利文獻(xiàn)1~4中公開(kāi)的照相機(jī)模塊結(jié)構(gòu)的剖視圖。
如圖6所示,在專(zhuān)利文獻(xiàn)1的照相機(jī)模塊100中,基板113上安裝了包含圖像傳感器或信號(hào)處理電路等的半導(dǎo)體芯片111,該半導(dǎo)體芯片111被中空結(jié)構(gòu)的遮蓋用框架構(gòu)件114和以將遮蓋用框架構(gòu)件114的開(kāi)口部密封的方式安裝的紅外線(xiàn)遮光用光學(xué)構(gòu)件112所包圍。此外,遮蓋用框架構(gòu)件114和紅外線(xiàn)遮光用光學(xué)構(gòu)件112被密封在透鏡支架122內(nèi)。透鏡支架122與遮蓋用框架構(gòu)件114的外周部分的、殘留在基板113的半導(dǎo)體芯片111安裝面上的部分相接合。這樣,照相機(jī)模塊100中,半導(dǎo)體芯片111、遮蓋用框架構(gòu)件114和透鏡支架122在基板113的同一基準(zhǔn)面上相接合。
另外,如圖7(a)和圖7(b)所示,在專(zhuān)利文獻(xiàn)2的照相機(jī)模塊200中,基板213上的半導(dǎo)體芯片(圖像傳感器)211被密封在外殼214內(nèi)。在該外殼214中形成有通過(guò)環(huán)狀加工而形成的具有圓形形成側(cè)面的階梯部218。此外,透鏡支架222被壓入到外殼214的階梯部218中,從而不需要使用特別的固定裝置,就能夠使外殼214和透鏡支架222固定在一起,不會(huì)滑動(dòng)。
另外,如圖8所示,專(zhuān)利文獻(xiàn)3的照相機(jī)模塊300中,在用于密封基板313上的半導(dǎo)體芯片311的樹(shù)脂形成部314上安裝有嵌入了透鏡的透鏡支架(樹(shù)脂制鏡筒)322。
另外,如圖9所示,在專(zhuān)利文獻(xiàn)4的照相機(jī)模塊400中,半導(dǎo)體封裝410具有安裝在基板413上的半導(dǎo)體芯片411、包含用于連接半導(dǎo)體芯片411和基板413的連線(xiàn)415并被樹(shù)脂密封的密封部414,該半導(dǎo)體封裝410上搭載著透鏡支架422。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本國(guó)公開(kāi)專(zhuān)利公報(bào)特開(kāi)2000-125212號(hào)公報(bào)(2000年4月28日公開(kāi))
專(zhuān)利文獻(xiàn)2:日本國(guó)公開(kāi)專(zhuān)利公報(bào)特開(kāi)2003-110946號(hào)公報(bào)(2000年4月11日公開(kāi))
專(zhuān)利文獻(xiàn)3:日本國(guó)公開(kāi)專(zhuān)利公報(bào)特開(kāi)2005-184630號(hào)公報(bào)(2005年7月7日公開(kāi))
專(zhuān)利文獻(xiàn)4:日本國(guó)公開(kāi)專(zhuān)利公報(bào)特開(kāi)2004-296453號(hào)公報(bào)(2004年10月21日公開(kāi))
發(fā)明內(nèi)容
在這種照相機(jī)模塊中,不僅是小型化,半導(dǎo)體芯片與透鏡構(gòu)件的對(duì)位也很重要。如果對(duì)位不充分,照相功能就會(huì)變差。因而,必須以高精度進(jìn)行該對(duì)位。
但是,在上述的現(xiàn)有結(jié)構(gòu)中,不能充分滿(mǎn)足照相機(jī)模塊的小型化和半導(dǎo)體芯片與透鏡構(gòu)件的高精度對(duì)位。
首先,在專(zhuān)利文獻(xiàn)1~3的結(jié)構(gòu)中,并沒(méi)有將半導(dǎo)體芯片(半導(dǎo)體芯片111、211、311)與連線(xiàn)215、315包含在一起進(jìn)行樹(shù)脂密封。因此,照相機(jī)模塊整體的尺寸(基板尺寸)就會(huì)大大超過(guò)半導(dǎo)體芯片的尺寸。
而且,在專(zhuān)利文獻(xiàn)1的結(jié)構(gòu)中,如圖6所示,密封半導(dǎo)體芯片111的遮蓋用框架構(gòu)件114整體被透鏡支架122覆蓋。即,在專(zhuān)利文獻(xiàn)1的結(jié)構(gòu)中,透鏡支架122在基板113面內(nèi)的位置(接合部位)被覆蓋著半導(dǎo)體芯片111的中空結(jié)構(gòu)的遮蓋用框架構(gòu)件114固定位,而基板113上除了半導(dǎo)體芯片111的安裝區(qū)域之外,也需要遮蓋用框架構(gòu)件114和透鏡支架122的接合區(qū)域。基板113的外形尺寸變得比半導(dǎo)體芯片111的尺寸大。
同樣地,在專(zhuān)利文獻(xiàn)2的結(jié)構(gòu)中,如圖7(a)和圖7(b)所示,密封半導(dǎo)體芯片211的外殼214整體被透鏡支架222覆蓋。因此,基板的外形尺寸進(jìn)一步變得比半導(dǎo)體芯片的尺寸更大。
另外,在專(zhuān)利文獻(xiàn)2的結(jié)構(gòu)中,如圖7(a)和圖7(b)所示,被壓入的透鏡支架222從用于密封半導(dǎo)體芯片211的外殼214上所形成的階梯部218中伸出來(lái)。進(jìn)而,在專(zhuān)利文獻(xiàn)2的結(jié)構(gòu)中,通過(guò)壓入使階梯部218與透鏡支架222相接合。但是,由于壓入時(shí)不使用粘合劑,為了使半導(dǎo)體芯片211和外殼214高精度地對(duì)位,必須非常精密地形成階梯部218。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于夏普株式會(huì)社,未經(jīng)夏普株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200680042611.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:連續(xù)焦化工藝
- 下一篇:電流模式邏輯數(shù)字電路
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





