[發(fā)明專利]透光性電磁波屏蔽膜、制造透光性電磁波屏蔽膜的方法、顯示面板用膜、顯示面板用濾光器和等離子體顯示面板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680042066.0 | 申請(qǐng)日: | 2006-09-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101305648A | 公開(公告)日: | 2008-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 佐佐木博友 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H05K9/00 | 分類號(hào): | H05K9/00;B32B15/08;G09F9/00;H01J11/02 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 于輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透光 電磁波 屏蔽 制造 方法 顯示 面板 濾光 等離子體 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種透光性電磁波屏蔽膜,制造透光性電磁波屏蔽膜的方法和從所述方法得到的透光性電磁波屏蔽膜,還涉及使用所述屏蔽膜的顯示面板用膜、顯示面板用濾光器和等離子體顯示面板,其中所述透光性電磁波屏蔽膜能夠屏蔽從CRT(陰極射線管)、PDP(等離子體顯示面板)、液晶、EL(電致發(fā)光)或FED(場(chǎng)發(fā)射顯示器)的顯示屏幕、微波爐、電子器件和印刷線路板產(chǎn)生的電磁波并具有透光性。
背景技術(shù)
近年來,隨著各種電氣設(shè)備和電子應(yīng)用設(shè)備的使用的增加,EMI(電磁干擾)急劇增大。已知的是EMI在電子或電氣裝置中引起操作故障或麻煩。因此,需要控制電子或電氣裝置的電磁波強(qiáng)度在標(biāo)準(zhǔn)或規(guī)定水平內(nèi)。
作為針對(duì)上述EMI問題的對(duì)策,需要屏蔽電磁波,顯然可以利用金屬不允許電磁波透過的特性可實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)。例如,已經(jīng)采用了使用由金屬或高導(dǎo)電物質(zhì)制成的殼體的方法,在電路基板間插入金屬板的方法,以及用金屬箔覆蓋電纜的方法。然而,在CRT或PDP中,顯示時(shí)要求透明度,因?yàn)椴僮魅藛T應(yīng)識(shí)別屏幕上顯示的字符等。因此,使顯示屏幕經(jīng)常變成不透明的的上述方法不適于作為屏蔽電磁波的方法。
特別地,由于與CRT等相比,PDP產(chǎn)生大量電磁波,因此要求PDP具有更強(qiáng)的電磁波屏蔽能力。電磁波屏蔽能力可以簡單地以表面電阻值表示。例如,CRT用的透光性電磁波屏蔽材料其表面電阻值應(yīng)為約300Ω/sq或更小,PDP用的透光性電磁波屏蔽材料其表面電阻值應(yīng)為2.5Ω/sq或更小。在使用PDP的等離子體電視中,其表面電阻值應(yīng)為1.5Ω/sq或更小,更優(yōu)選具有極高導(dǎo)電性,高達(dá)0.1Ω/sq或更小。
此外,關(guān)于透明度水平,對(duì)于CRT,透明度應(yīng)為約70%或更大(對(duì)于全部可見的光透射率),對(duì)于PDP,透明度應(yīng)為約80%或更大,更高的透明度是優(yōu)選的。
為解決上述問題,已經(jīng)提出了使用具有開口的金屬網(wǎng)來提供電磁波屏蔽能力和透光性能力的各種材料和方法。作為其代表性例子,已經(jīng)有利用照相平版印刷方法的蝕刻加工網(wǎng)。利用照相平版印刷方法的常規(guī)蝕刻加工網(wǎng)能夠進(jìn)行微加工,可以形成具有高開口率(高透射率)的網(wǎng),其優(yōu)點(diǎn)在于,能夠屏蔽強(qiáng)的電磁波。另一方面,網(wǎng)的問題在于,網(wǎng)的制造過程復(fù)雜和昂貴,需要改進(jìn)。
作為以低成本制造金屬網(wǎng)的方法,已經(jīng)提出了一種在格子狀圖案中印刷含有金屬顆粒的糊狀物或油墨來得到金屬網(wǎng)的方法。
例如,JP-A-2003-318593公開了一種通過使用噴墨方法印刷導(dǎo)電材料如銀的微粒分散體,然后加熱和烘焙,來制造電磁波屏蔽元件的方法。
此外,JP-A-2004-119880公開了一種通過印刷含有銀化合物的糊狀物,加熱促進(jìn)銀化合物還原和分解成銀金屬和促進(jìn)金屬顆粒的彼此熔融,來制造電磁波屏蔽膜的方法。
此外,作為以低成本制造滿足要求的金屬網(wǎng)的方法,已經(jīng)提出了一種利用銀鹽成像原理的方法。
例如,JP-A-2004-221564公開了一種通過制備鹵化銀感光材料、以網(wǎng)狀圖案進(jìn)行曝光、對(duì)其進(jìn)行顯影處理、電鍍處理,來制造電磁波屏蔽元件的方法。
發(fā)明內(nèi)容
與利用照相平版印刷術(shù)制造蝕刻加工網(wǎng)的方法相比,利用上述印刷方法或上述鹵化銀照相方法得到的金屬網(wǎng)其優(yōu)點(diǎn)在于,允許以較少的步驟制造,并可以降低制造成本。另一方面,涉及到以下問題。
即,金屬部分不具有充分的耐化學(xué)品性,而這是用于顯示的電磁波屏蔽材料所要求的,因此需要改進(jìn)。
此外,除了金屬部分的耐化學(xué)品性之外,透射光的非金屬部分(透光性部分)的缺點(diǎn)在于變色,因此需要改進(jìn)。
本發(fā)明人廣泛研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),由于印刷金屬或金屬化合物的微粒的分散體,因此金屬網(wǎng)部分中的金屬相不會(huì)形成完整的連續(xù)相,并易于形成具有大表面積的金屬微粒。即,金屬部分的表面積在蝕刻處理金屬箔的情況下易于變大,這被認(rèn)為對(duì)金屬部分的耐化學(xué)品性不利。
此外,在金屬由銀構(gòu)成并具有高導(dǎo)電性的情況下,通過現(xiàn)有技術(shù)的印刷方法得到的金屬網(wǎng),表現(xiàn)出金屬銀的特殊光澤和反射,因此作為電子顯示器的電磁波屏蔽并不充分。為此,需要一種表現(xiàn)出較小反射并且不涉及上述缺點(diǎn)的黑色材料。
有鑒于上述情況完成了本發(fā)明,本發(fā)明的目的是提供一種透光性電磁波屏蔽膜,其具有優(yōu)異的耐化學(xué)品性如耐鹽水性、優(yōu)異的耐熱性、優(yōu)異的耐濕熱性、優(yōu)異的耐久性、隨時(shí)間變化變色小和高電磁波屏蔽能力,其產(chǎn)生較小的光散射并具有高透光率,可降低金屬的反射;還提供使用所述透光性電磁波屏蔽膜的顯示面板用膜、顯示面板用濾光器和等離子體顯示器用等離子體顯示面板。
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