[發明專利]透光性電磁波屏蔽膜、制造透光性電磁波屏蔽膜的方法、顯示面板用膜、顯示面板用濾光器和等離子體顯示面板有效
| 申請號: | 200680042066.0 | 申請日: | 2006-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN101305648A | 公開(公告)日: | 2008-11-12 |
| 發明(設計)人: | 佐佐木博友 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | H05K9/00 | 分類號: | H05K9/00;B32B15/08;G09F9/00;H01J11/02 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 于輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透光 電磁波 屏蔽 制造 方法 顯示 面板 濾光 等離子體 | ||
1.一種透光性電磁波屏蔽膜,包括:
透明基板;
含有銀作為主要成分的印刷圖案;和
至少一種防銹劑,
其中所述含有銀作為主要成分的印刷圖案包括:導電金屬部;和透光性部分,和
其中,所述至少一種防銹劑選自具有N-H結構的5-元環唑化合物、有機巰基化合物或它們的組合,按構成所述印刷圖案的金屬總質量計,所述印刷圖案的銀含量為60質量%或更大。
2.如權利要求1所述的透光性電磁波屏蔽膜,其中所述印刷圖案的銀含量為85質量%或更大。
3.如權利要求1所述的透光性電磁波屏蔽膜,其中所述印刷圖案含有銀和除銀之外的貴金屬。
4.如權利要求1所述的透光性電磁波屏蔽膜,其中所述印刷圖案含有銀和鈀、或銀和金。
5.如權利要求1所述的透光性電磁波屏蔽膜,其中所述有機巰基化合物是式(2)所代表的化合物:
式(2)
Z-SM
其中Z代表烷基、芳香基團或雜環基團,它們被至少一種選自羥基、-SO3M2基團、-COOM2基團、氨基和銨基的基團所取代或被至少一種選自羥基、-SO3M2基團、-COOM2基團、氨基和銨基的基團取代的取代基所取代,其中M2代表氫原子、堿金屬原子或銨基;以及
M代表氫原子、堿金屬原子或脒基,其可任選地形成氫鹵酸鹽或磺酸鹽。
6.如權利要求1所述的透光性電磁波屏蔽膜,其中所述有機巰基化合物是式(1)和(3)至(5)所代表的至少一種有機巰基化合物:
式(1):
其中,-D=和-E=每一個獨立地代表-CH=基團、-C(R0)=基團或-N=基團;
R0代表取代基;以及
L1、L2和L3每一個獨立地代表氫原子、鹵素原子或通過碳原子、氮原子、氧原子、硫原子或磷原子與環連接的取代基,條件是L1、L2、L3和R0中的至少一個是-SM基團,其中M代表堿金屬原子、氫原子或銨基。
式(3)和(4):
其中,R21和R22每一個獨立地代表氫原子或烷基,條件是R21和R22不同時代表氫原子并且所述烷基可以具有取代基;
R23和R24每一個獨立地代表氫原子或烷基;
R25代表羥基或羥基的鹽、氨基、烷基或苯基;
R26和R27每一個獨立地代表氫原子、烷基、酰基或-COOM22,條件是R26和R27不同時代表氫原子;
M21代表氫原子、堿金屬原子或銨基;
M22代表氫原子、烷基、堿金屬原子、芳基或芳烷基;
m代表0、1或2;以及
n代表2;
式(5):
其中,X40代表氫原子、羥基、低級烷基、低級烷氧基、鹵素原子、羧基或磺酸基;
M41和Ma每一個獨立地代表氫原子、堿金屬原子或銨基。
7.如權利要求6所述的透光性電磁波屏蔽膜,其中所述有機巰基化合物由式(1)所代表。
8.如權利要求1所述的透光性電磁波屏蔽膜,相對于所述印刷圖案而言,其包括量為0.001~0.04g/m2的至少一種防銹劑。
9.如權利要求1所述的透光性電磁波屏蔽膜,其還包括具有選自以下的一種或多種功能的功能性透明層:紅外線屏蔽性能、硬涂層性能、抗反射性能、防眩性能、抗靜電性能、防污性能、紫外線阻斷性能、氣體阻擋性能和顯示面板破損防止性能。
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