[發明專利]光盤記錄裝置

無效

• 申請號: 200680041624.1
• 申請日: 2006-11-06
• 公開（公告）號: CN101305419A
• 公開（公告）日: 2008-11-12
• 發明（設計）人: 伊佐地昭裕;西川和彥;藪野寬之
• 申請（專利權）人: 松下電器產業株式會社
• 主分類號: G11B7/0045
• 分類號: G11B7/0045;G11B7/125
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 曲瑞

技術領域

本發明涉及一種針對可記錄的信息記錄介質的光學信息的記錄再現裝置。

背景技術

在信息記錄介質中，對信息、特別是數字信息進行記錄再現的裝置作為記錄再現大容量數據的手段得到了注目。其中，對于使用激光來記錄數據的光學信息記錄介質，在可記錄的光學信息記錄介質中，有僅可以記錄一次的追記型的光盤和改寫型的相變光盤等。它們都通過向旋轉的盤照射半導體激光器的光束來使記錄膜加熱融解，從而進行向光盤的記錄。根據該光束強度的強弱，記錄膜的到達溫度以及冷卻過程不同，引起記錄膜的變化。通過照射不會使記錄膜變化的再現用的低光束強度，并根據從記錄膜的反射率的差異取得的反射波的強度差，讀取所記錄的數據，從而進行所記錄的數據的再現。

作為向光盤的數據的記錄方式，有標記位置(mark?position)記錄方式(或者PPM方式)和標記邊緣記錄方式(或者PWM方式)，通常，標記邊緣記錄方式一方可以提高信息記錄密度。

在該標記邊緣記錄方式中，使標記始端部分和標記終端部分的位置、記錄功率等變化來記錄預定的標記。近年來，記錄時的速度得到了高速化，并且存在各種材質、制造商的差異、規格不同的記錄介質，為了應對這些情況，要求根據要記錄的速度、或者考慮到所記錄的記錄介質的種類、記錄介質的制造上的偏差、規格，對應于記錄介質來進行最佳的標記的記錄位置設定。

上述標記邊緣記錄方式在盤上將數據作為標記來進行標記邊緣記錄的情況下，對于預定的標記，針對激光生成被稱為多脈沖的多個脈沖串、或沒有多個脈沖的被稱為非多脈沖等的寫策略，通過進行該寫策略的調整，來進行最佳的記錄。在生成寫策略時，為了記錄預定的標記，設定寫策略的時間性位置、即相位，但為了高倍速化要求相位設定的高分辨率。

為了實現實際的光盤記錄再現裝置，用于決定寫策略的記錄脈沖條件被記錄在光盤記錄裝置或盤中，并且被預先設定成以針對每種記錄介質不同的特性參數來進行記錄。但是，在特性有偏差的記錄介質盤和記錄裝置中，在預先決定的寫策略的設定時，考慮無法以足夠的質量進行記錄的情況。

針對以上那樣的課題，在專利文獻1(或者專利文獻2)中，使多個標記前端脈沖條件、多個標記后端脈沖條件變換，將分別獨立地校正了各標準條件后的值設定為記錄再現裝置的記錄脈沖條件，以使記錄再現了各自對應的記錄圖案時的抖動成為容許值以下，來進行數據的記錄再現。

另外，在專利文獻2中公開了一種信息記錄介質，其特征在于，對于求出標記始端部分和終端部分的最佳位置的方法，為了最佳記錄本身的可靠性、縮短最佳位置的搜索時間、確立最佳方法，具有用于記錄特定記錄裝置的固有信息的特定信息記錄區域。

專利文獻1：日本特開2000-200418號公報

專利文獻2：日本特開2004-281046號公報

在提供可以進行最佳記錄的信息記錄介質、記錄再現裝置時，按照所設定的那樣輸出的寫策略的精度是必要的。取決于進行記錄的裝置，與寫策略的時間、相位設定對應的輸出有可能產生偏差。另外，考慮與寫策略的設定對應的相位輸出不同的情況等。在該情況下，以往的方法有可能無法預料學習的收斂電平、學習精度的提高，無法求出最佳的設定。

另外，在希望應對某特定裝置的偏差時，需要與該特定裝置的輸出特性對應的學習算法，無法使用一個學習算法來對應于所有的裝置。另外，在希望應對所有裝置的偏差的情況下，求出最佳值的學習有時變得復雜而無法求出最佳設定。

發明內容

本發明是為了解決上述課題而完成的，其目的在于提供一種光盤記錄裝置，即使每種記錄裝置的寫策略的輸出特性不同，也可以對與設定對應的最佳寫策略的輸出進行校正，進行正確的輸出，由此可以抑制每種裝置的偏差來進行最佳的記錄。