[發(fā)明專利]拋光刷,拋光方法,拋光裝置及磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200680036280.5 | 申請(qǐng)日: | 2006-09-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101277790A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鹿島隆一;植田政明;重田文彥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | HOYA株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | B24D13/10 | 分類號(hào): | B24D13/10;B24B9/00;B24B29/00;G11B5/84 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 史雁鳴 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 拋光 方法 裝置 磁盤(pán) 玻璃 制造 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及拋光刷、拋光構(gòu)件、利用所述拋光刷和拋光構(gòu)件的拋光方法及拋光裝置,特別是,涉及適合于在小直徑磁盤(pán)用玻璃基板的內(nèi)周側(cè)端面的拋光中使用的拋光刷、拋光構(gòu)件、拋光方法及拋光裝置,以及磁盤(pán)用玻璃基板及磁盤(pán)的制造方法。
背景技術(shù)
目前,信息記錄技術(shù),特別是磁記錄技術(shù),伴隨著IT業(yè)的迅猛發(fā)展,要求飛躍性的技術(shù)革新。對(duì)于裝載在硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(HDD)等信息記錄裝置上的磁盤(pán),根據(jù)高容量化的需要,要求能夠?qū)崿F(xiàn)40Gbit/inch2~100Gbit/inch2以上的信息記錄密度的技術(shù)。
作為磁盤(pán)等磁記錄介質(zhì)用的基板,過(guò)去廣泛采用鋁系合金基板,但是,最近,作為適合于高記錄密度化的磁盤(pán)用基板,玻璃基板引起人們的關(guān)注。玻璃基板由于比鋁系合金基板剛性高,所以適合于磁盤(pán)裝置的高速旋轉(zhuǎn),另外,由于得到平滑的表面,所以容易使磁頭的上浮量降低,能夠提高記錄信號(hào)的S/N比,所以,玻璃基板是合適的。
另外,為了使磁盤(pán)高記錄密度化,對(duì)于玻璃基板的加工精度要求也很高,不僅對(duì)于玻璃基板的主表面如此,對(duì)于端面形狀也具有同樣的要求。
作為這種玻璃基板的端面拋光方法,在下面的專利文獻(xiàn)1中,揭示了一種拋光方法,所述拋光方法,將在中心部具有圓孔的圓盤(pán)狀玻璃基板浸漬到含有游離磨料的拋光液中,利用上述拋光液,使該玻璃基板的內(nèi)周端面與拋光刷或拋光墊旋轉(zhuǎn)接觸,進(jìn)行拋光。
圖10是用于說(shuō)明這種現(xiàn)有的拋光方法的拋光裝置的一個(gè)例子的剖視圖。在圖10中,60是作為拋光對(duì)象的磁盤(pán)用玻璃基板,61是容納多個(gè)上述玻璃基板60并將其浸漬于拋光液中的基板盒,65是可自由轉(zhuǎn)動(dòng)地固定保持基板盒61的旋轉(zhuǎn)保持臺(tái),62是插入到多個(gè)疊層的上述玻璃基板60的內(nèi)周側(cè)圓孔中的拋光刷,68是容納拋光液69的拋光液容納部。上述基板盒61在其下部的適當(dāng)?shù)牟课簧显O(shè)置有拋光液流通孔70,以便盒內(nèi)外部的拋光液能夠流通。上述旋轉(zhuǎn)保持臺(tái)65結(jié)合到旋轉(zhuǎn)軸66上,可以借助向正反兩個(gè)方向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)該旋轉(zhuǎn)軸66的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置67進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。另外,上述拋光刷62連接到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置64的旋轉(zhuǎn)軸上,能夠進(jìn)行正反兩個(gè)方向的旋轉(zhuǎn)。進(jìn)而,該拋光刷62借助凸輪機(jī)構(gòu)(圖中未示出)將刷毛63壓到上述玻璃基板60的內(nèi)周側(cè)端面上,同時(shí)可以沿著刷的旋轉(zhuǎn)軸方向往復(fù)擺動(dòng)。過(guò)去,利用這種拋光裝置,例如,在使上述旋轉(zhuǎn)保持臺(tái)65和拋光刷62在彼此相反的方向上旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下進(jìn)行拋光。
專利文獻(xiàn)1:特開(kāi)平11-221742號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
隨著信息化社會(huì)的進(jìn)展,對(duì)于磁盤(pán)的高記錄密度化和低價(jià)格化的要求日益增高。對(duì)于磁盤(pán)的端面形狀,也要求更加平滑化、提高加工精度以及縮短加工時(shí)間,提高輔助材料的壽命。
另外,上述硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器不僅裝載在現(xiàn)有的個(gè)人計(jì)算機(jī)等上,近年來(lái),用于便攜式電話、便攜式信息終端(PDA等)、汽車(chē)導(dǎo)航系統(tǒng)等中的所謂的移動(dòng)式的用途也快速擴(kuò)展。在考慮到這種移動(dòng)式的用途的情況下,不僅要求磁盤(pán)的耐沖擊性,而且,由于能夠裝載硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的空間極為有限,所以要求硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器本身的小型化,因此,也要求裝載在硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器上的磁盤(pán)小型化。因此,作為這些適合于移動(dòng)式用途的磁盤(pán),作為現(xiàn)有技術(shù)的磁盤(pán),提出了與比較小型的與所謂2.5英寸磁盤(pán)直徑相比更小的磁盤(pán),例如,外徑為48mm、內(nèi)徑為12mm的1.8英寸磁盤(pán),外徑為27.4mm、內(nèi)徑為7mm的1英寸磁盤(pán),外徑為22mm、內(nèi)徑為6mm的0.85英寸的磁盤(pán)等方案。
另外,伴隨著這種磁盤(pán)的小直徑化,磁盤(pán)基板的厚度也薄型化。例如,過(guò)去,磁盤(pán)基板的厚度為0.635mm,在謀求磁盤(pán)的小直徑化的情況下,要求磁盤(pán)基板的厚度為0.581mm、0.381mm,或者更小。
對(duì)于這種小直徑化、薄膜化的磁盤(pán)用玻璃基板,有必要以良好的尺寸精度將內(nèi)周側(cè)端面精加工成規(guī)定的端面形狀,同時(shí)將其表面精加工成平滑的鏡面狀態(tài)。而且,要求以低成本穩(wěn)定地大量提供基板之間沒(méi)有偏差、高品質(zhì)精加工的磁盤(pán)用玻璃基板。
但是,在利用上述專利文獻(xiàn)1揭示的現(xiàn)有技術(shù)的拋光方法制造多個(gè)磁盤(pán)用玻璃基板的情況下,存在著玻璃基板之間的內(nèi)周側(cè)端面形狀、尺寸精度的偏差,不能高度平滑地精加工內(nèi)周側(cè)端面的表面等問(wèn)題,并且存在著盡管對(duì)可再加工的基板進(jìn)行再加工,但是,不得不將其它次品進(jìn)行廢棄處理,不管那種情況都會(huì)提高成本的問(wèn)題。
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