[發明專利]曝光裝置

有效

• 申請號: 200680034934.0
• 申請日: 2006-10-04
• 公開（公告）號: CN101268420A
• 公開（公告）日: 2008-09-17
• 發明（設計）人: 梶山康一;渡邊由雄
• 申請（專利權）人: 株式會社V技術
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02F1/1335
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 鄭小軍

技術領域

本發明涉及一種曝光裝置，其在按規定方向搬運被曝光體的同時，針對在被曝光體的表面上沿搬運方向以規定間隔設定的多個曝光區域，隔著光掩膜形成規定的曝光圖案列；詳細地說，能夠防止在上述多個曝光區域的外部彼此鄰接的曝光區域之間的部分被曝光。

背景技術

現有的曝光裝置使承載基板的載物臺和對應于需曝光層的光掩膜相對移動，在上述基板的多個曝光區域的每一個曝光區域曝光一層掩膜圖案，該曝光裝置包括：位置獲取裝置，其對各區域分別測量上述載物臺相對于在上述多個曝光區域曝光時的光掩膜的位置，同時以相對于基板上的規定識別用掩膜而定位的狀態的光掩膜為基準，獲取曝光時的上述載物臺相對于上述多個曝光區域的相對位置；相對移動裝置，其檢測上述位置識別用標記，定位上述光掩膜，以此時的光掩膜為基準，在測量上述載物臺相對于光掩膜的位置的同時使上述載物臺和光掩膜相對移動，從而再現上述取得的相對位置；在使載物臺和光掩膜相對移動，對基板上的多個曝光區域分別定位，曝光形成第一層圖案時，以一個曝光區域為基準，存儲其它曝光區域的上述相對位置的數據，在曝光形成第二層圖案時，根據上述相對位置數據而相對移動并定位上述載物臺和光掩膜，從而進行曝光(例如，參照專利文獻1)

專利文獻1：JP特開2004-246025號公報

發明內容

發明要解決的問題

但是，在這種現有的曝光裝置中，分步移動基板，逐個切換設定在基板上的多個曝光區域來曝光光掩膜的掩膜圖案，而不能在與形成在光掩膜上的多個掩膜圖案的排列方向正交的方向上以規定速度搬運與光掩膜鄰接相對設置的基板的同時，對多個曝光區域進行曝光。

另一方面，如圖11所示，在能夠在與形成在光掩膜上的多個掩膜圖案的排列方向正交的方向上以固定速度搬運基板的同時對多個曝光區域進行曝光的曝光裝置中，例如，在濾色基板1的搬運方向(箭頭A方向)上設定的多個曝光區域2的中，可能會在第1曝光區域2a和第2曝光區域2b之間的部分3a，或在第2曝光區域2b和第3曝光區域2c之間的部分3b，因上述多個掩膜圖案而形成曝光圖案列4，導致產品的外觀品質下降。

因此，本發明針對上述問題，目的在于提供一種能夠防止在曝光體上沿其搬運方向設定的多個曝光區域的外部彼此鄰接的曝光區域之間的部分被曝光的曝光裝置。

用于解決問題的方法

為了達成上述目的，第1發明的曝光裝置包括：載物臺，將多個曝光區域至少排成一列而設定的被曝光體承載在上表面上，沿著上述多個曝光區域的設定方向搬運上述被曝光體；掩膜載物臺，設置在上述載物臺的上方，以與上述被曝光體接近并對置的方式保持光掩膜；光源，在上述被曝光體的曝光過程中持續點亮，對保持在上述掩膜載物臺上的光掩膜照射曝光用光；聚光透鏡，設置在上述掩膜載物臺和光源之間，使照射在上述光掩膜上的曝光用光成為平行光；該曝光裝置的特征在于，包括：成像透鏡，設置在上述光源和聚光透鏡之間，在上述聚光透鏡的靠前側形成上述光源的像；光閘，設置在上述成像透鏡所成像的上述光源的像的成像位置附近，并與上述多個曝光區域隨著搬運上述被曝光體而依次通過上述光掩膜的下側同步，切換曝光用光的照射及遮斷。

根據這樣的結構，將多個曝光區域至少排成一列而設定的被曝光體承載在上表面上，沿著上述多個曝光區域的設定方向搬運上述被曝光體，掩膜載物臺以與上述被曝光體接近并對置的方式保持光掩膜，光源在上述被曝光體的曝光過程中持續點亮，對保持在上述掩膜載物臺上的光掩膜照射曝光用光。此時，成像透鏡在上述聚光透鏡的靠前側形成光源的像，并且通過聚光透鏡使照射在上述光掩膜上的曝光用光成為平行光。此時，與上述多個曝光區域隨著搬運上述被曝光體而依次通過上述光掩膜的下側同步，切換曝光用光的照射及遮斷。

此外，第2發明的曝光裝置包括：載物臺，將多個曝光區域至少排成一列而設定的被曝光體承載在上表面上，沿著上述多個曝光區域的設定方向搬運上述被曝光體；掩膜載物臺，設置在上述載物臺的上方，以與上述被曝光體接近并對置的方式保持光掩膜；光源，在上述被曝光體的曝光過程中持續點亮，對保持在上述掩膜載物臺上的光掩膜照射曝光用光；光積分儀，設置在上述掩膜載物臺和光源之間，使照射在上述光掩膜上的曝光用光的亮度分布變得均勻；聚光透鏡，設置在上述掩膜載物臺和光積分儀之間，使照射在上述光掩膜上的曝光用光成為平行光；該曝光裝置的特征在于，包括：成像透鏡，設置在上述光積分儀和聚光透鏡之間，在上述聚光透鏡的靠前側形成上述光積分儀的端面像；光閘，設置在上述成像透鏡所成像的上述光積分儀的端面像的成像位置附近，并與上述多個曝光區域隨著搬運上述被曝光體而依次通過上述光掩膜的下側同步，切換曝光用光的照射及遮斷。