[發明專利]曝光裝置有效
| 申請號： | 200680034934.0 | 申請日： | 2006-10-04 |
| 公開（公告）號： | CN101268420A | 公開（公告）日： | 2008-09-17 |
| 發明（設計）人： | 梶山康一;渡邊由雄 | 申請（專利權）人： | 株式會社V技術 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產權代理有限公司 | 代理人： | 鄭小軍 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 裝置 | ||
1.一種曝光裝置，包括：
載物臺，將多個曝光區域至少排成一列而設定的被曝光體承載在上表面上，沿著上述多個曝光區域的設定方向搬運上述被曝光體；
掩膜載物臺，設置在上述載物臺的上方，以與上述被曝光體接近并對置的方式保持光掩膜；
光源，在上述被曝光體的曝光過程中持續點亮，對保持在上述掩膜載物臺上的光掩膜照射曝光用光；
聚光透鏡，設置在上述掩膜載物臺和光源之間，使照射在上述光掩膜上的曝光用光成為平行光；
該曝光裝置的特征在于，包括：
成像透鏡，設置在上述光源和聚光透鏡之間，在上述聚光透鏡的靠前側形成上述光源的像；
光閘，設置在上述成像透鏡所成像的上述光源的像的成像位置附近，并與上述多個曝光區域隨著搬運上述被曝光體而依次通過上述光掩膜的下側同步，切換曝光用光的照射及遮斷。
2.一種曝光裝置，包括：
載物臺，將多個曝光區域至少排成一列而設定的被曝光體承載在上表面上，沿著上述多個曝光區域的設定方向搬運上述被曝光體；
掩膜載物臺，設置在上述載物臺的上方，以與上述被曝光體接近并對置的方式保持光掩膜；
光源，在上述被曝光體的曝光過程中持續點亮，對保持在上述掩膜載物臺上的光掩膜照射曝光用光；
光積分儀，設置在上述掩膜載物臺和光源之間，使照射在上述光掩膜上的曝光用光的亮度分布變得均勻；
聚光透鏡，設置在上述掩膜載物臺和光積分儀之間，使照射在上述光掩膜上的曝光用光成為平行光；
該曝光裝置的特征在于，包括：
成像透鏡，設置在上述光積分儀和聚光透鏡之間，在上述聚光透鏡的靠前側形成上述光積分儀的端面像；
光閘，設置在上述成像透鏡所成像的上述光積分儀的端面像的成像位置附近，并與上述多個曝光區域隨著搬運上述被曝光體而依次通過上述光掩膜的下側同步，切換曝光用光的照射及遮斷。
3.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，上述光閘能夠向與上述被曝光體的搬運方向相反的方向移動，沿著該移動方向形成有與上述被曝光體的多個曝光區域相同數量的狹縫。
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