[發明專利]晶體管及其制造方法、以及具有該晶體管的半導體裝置無效
| 申請號: | 200680031829.1 | 申請日: | 2006-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN101253609A | 公開(公告)日: | 2008-08-27 |
| 發明(設計)人: | 山手信一 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/336 | 分類號: | H01L21/336;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/40 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孫秀武;李平英 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶體管 及其 制造 方法 以及 具有 半導體 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及晶體管及其制造方法、具有該晶體管的半導體裝置。
背景技術
作為晶體管,已知有雙極晶體管、場效晶體管、靜電感應型晶體 管等各種晶體管。作為這些晶體管中一種的場效晶體管一般在連接有 源極或漏極的包含半導體材料的層(活性層)上具有介由絕緣層設有 柵極的結構。在這種場效晶體管中,在活性層中使用有機半導體化合 物的有機晶體管具有質量輕、可撓性的優點,期待在各種電子設備中 的應用。該有機晶體管的活性層大多如下形成:在設于基板上的絕緣 層上蒸鍍有機半導體化合物或者旋涂、液滴流延或印刷含有有機半導 體化合物的溶液而形成(非專利文獻1)。
已知,在這種有機晶體管中,通過賦予活性層規定取向性,載流 子遷移率提高。認為這是由于通過構成活性層的有機半導體化合物在 一定方向上排列,載流子的遷移變得有利。作為這種可以賦予活性層 取向性的有機晶體管的制造方法,公開了包括以下工序的方法:在基 板和活性層之間設置摩擦膜的取向膜的工序(非專利文獻2、3)、摩擦 活性層的工序(非專利文獻4)、形成含有摩擦轉印膜的活性層的工序 (專利文獻1)等。已知,通過這些制造方法獲得的有機晶體管與具有 未取向活性層的有機晶體管相比,具有優異的載流子遷移率。
非專利文獻1:《有機晶體管的工作性提高技術》、技術信息協會、 2003年
非專利文獻2:H.Sirringhaus等,Appl.Phys.Lett.,Vol?77,No.3, p.406-408,2002
非專利文獻3:M.L.Swiggers等,Appl.Phys.Lett.,Vol?79,No.9, p.1300-1302,2001
非專利文獻4:H.Heil等,Appl.Phys.Lett.,Vol?93,No.3,p. 1636-1641,2003
專利文獻1:日本特開2004-356422號公報
發明內容
但是,以通過形成具有取向性的活性層來提高載流子遷移率為目 的的上述以往有機晶體管的制造方法,用于賦予活性層取向性的工序 均很復雜,因此有機晶體管的制造與未使活性層取向的情況相比,有 顯著變得困難的傾向。
因此,本發明鑒于上述事實而完成,其目的在于提供能夠通過簡 單的方法形成具有取向的活性層、得到具有優異載流子遷移率的晶體 管的晶體管制造方法。另外,其目的在于提供具備具有取向的活性層、 具有高載流子遷移率的有機晶體管。
為了達成上述目的,本發明的晶體管的制造方法為具有包含半導 體膜的活性層的晶體管的制造方法,所述半導體膜含有有機半導體化 合物,其特征在于,該方法包括:拉伸半導體膜的工序、和在進行加 熱和/或加壓的同時將半導體膜粘貼在形成活性層的面上獲得活性層的 工序。
在上述拉伸半導體膜的工序中,通過拉伸構成半導體膜的有機半 導體化合物排列在拉伸方向上,由此可以賦予半導體膜規定的取向性。 這樣,在本發明中,僅通過拉伸半導體膜即可獲得取向的活性層,與 以往的方法相比,可以容易地形成具有取向的活性層。另外,在上述 本發明的制造方法中,在進行加熱和/或加壓的同時將半導體膜粘貼在 形成活性層的面上。因此,活性層密合于與其相鄰的層上,可以良好 地發揮載流子遷移率等特性。
予以說明,上述本發明的制造方法中,也可以先進行拉伸半導體 膜的工序,粘貼該拉伸的半導體膜,也可以先粘貼未拉伸的半導體膜 后對該半導體膜進行拉伸。在上述以往技術的制造方法中,均是在形 成活性層時,或在形成活性層后賦予取向的,如前在拉伸后粘貼半導 體膜時,可以對應成為活性層的半導體膜預先賦予適當的取向,有易 于形成具有所需取向性的活性層的傾向。
本發明的晶體管的制造方法為具有包含半導體膜的活性層的晶體 管的制造方法,所述半導體膜含有有機半導體化合物,其特征也可以 在于,該方法包括:使半導體膜取向的工序、和在進行加熱和/或加壓 的同時將半導體膜粘貼在形成活性層的面上,形成活性層的工序。這 樣,本發明中,通過在進行加熱和/或加壓的同時粘貼半導體膜,可以 良好地形成通過不必局限于拉伸的各種方法而取向的活性層。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





