[發明專利]金屬膜及其制法、層疊型電子部件制法及層疊型電子部件無效
| 申請號： | 200680030947.0 | 申請日： | 2006-08-21 |
| 公開（公告）號： | CN101688321A | 公開（公告）日： | 2010-03-31 |
| 發明（設計）人： | 山口勝義 | 申請（專利權）人： | 京瓷株式會社 |
| 主分類號： | C25D7/00 | 分類號： | C25D7/00;C22C19/03;C25D3/56;C25D5/00;H01G4/12;H01G4/30 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 李香蘭 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 金屬膜 及其 制法 層疊 電子 部件 | ||
1.一種金屬膜，是以Ni為主成分的金屬膜，其特征在于，
該金屬膜含有Mn和從周期表3A～6A族元素組中選擇的元素，同時，與所述金屬膜的中央部相比周邊部更高濃度地存在所述Mn和所述從周期表3A～6A族元素組中選擇的元素。
2.根據權利要求1所述的金屬膜，其特征在于，
所述金屬膜周邊部的Mn和從周期表3A～6A族元素組中選擇的元素的總濃度與它們在所述中央部的總濃度相比在1.05～3倍的范圍內。
3.根據權利要求1所述的金屬膜，其特征在于，
所述金屬膜中Mn的含量為2×10-1～5質量％。
4.根據權利要求1所述的金屬膜，其特征在于，
所述金屬膜中從周期表3A～6A族元素組中選擇的元素的含量為1×10-1～3×10-1質量％。
5.根據權利要求1所述的金屬膜，其特征在于，
所述金屬膜中從周期表3A～6A族元素組中選擇的元素從由硫、硼及磷構成的組中選擇。
6.一種金屬膜的制法，其特征在于，
具備以下鍍敷工序：采用含有Mn和從周期表3A～6A族元素組中選擇的元素的鍍Ni液，在電流密度4.5～20A/dm2的條件下，在金屬構件上與Ni一起析出Mn和從周期表3A～6A族元素組中選擇的元素。
7.根據權利要求6所述的金屬膜的制法，其特征在于，
在所述鍍Ni液中含有的全部金屬成分中，Mn的含量為2×10-1～5質量％，從周期表3A～6A族元素組中選擇的元素的含量為1×10-1～3×10-1質量％。
8.一種層疊型電子部件的制法，其特征在于，
包括以下工序：在陶瓷生片上轉印權利要求1～5中任意一項所述的金屬膜、從而形成在陶瓷生片上形成有導體圖案的圖案片的工序和層疊多個該圖案片后進行燒成的工序。
9.一種層疊型電子部件，其具備陶瓷層及導體層交替層疊而成的電子部件本體，其特征在于，
所述導體層由權利要求1所述的金屬膜構成。
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