[發明專利]等離子體產生裝置、等離子體外科手術裝置以及等離子體外科手術裝置的應用有效
| 申請號: | 200680030225.5 | 申請日: | 2006-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN101243732A | 公開(公告)日: | 2008-08-13 |
| 發明(設計)人: | N·蘇斯洛夫;I·魯賓納 | 申請(專利權)人: | 普拉斯馬外科股份公司;普拉斯馬外科投資有限公司 |
| 主分類號: | H05H1/34 | 分類號: | H05H1/34;H05H1/28 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 范莉 |
| 地址: | 瑞典默*** | 國省代碼: | 瑞典;SE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 產生 裝置 外科手術 以及 應用 | ||
優先權
本申請要求瑞典專利申請No.0501603-5的優先權,該瑞典專利申請No.0501603-5的申請日為2005年7月8日。
技術領域
本發明涉及一種等離子體產生裝置,它包括陽極、陰極和至少一個中間電極,所述中間電極布置成至少局部在所述陽極和所述陰極之間,所述中間電極和所述陽極至少形成等離子體槽道的一部分,該等離子體槽道有在所述陽極中的開口。本發明還用于等離子體外科手術裝置和等離子體外科手術裝置的應用。
背景技術
等離子體裝置涉及用于產生氣體等離子體的裝置。該氣體等離子體例如可以用于外科手術中,目的是破壞(剖開)生物組織和/或使生物組織凝結(coagulation)。
通常,這樣的等離子體裝置形成有較長和較窄的端部等,它能夠很容易地施加在要進行治療的合適區域,例如流血組織。在裝置的頂端有氣體等離子體,該氣體等離子體的高溫能夠治療該頂端附近的組織。
WO2004/030551(Suslov)公開了一種現有技術的等離子體外科手術裝置。該裝置包括等離子體產生系統,該等離子體產生系統有陽極、陰極和用于將氣體供給該等離子體產生系統的氣體供給槽道。而且,等離子體產生系統包括多個電極,這些電極布置在所述陰極和陽極之間。與陽極連接的導電材料殼體包圍等離子體產生系統,并形成氣體供給槽道。
由于近來外科手術技術的發展,經常使用稱為腹腔鏡(鎖孔)外科手術的技術。這意味著更需要小尺寸的裝置,以便能夠在沒有較大外科手術的情況下進行接近。較小儀器也有利于在外科手術操作中獲得良好的精度。
還希望能夠提高等離子體射流的精度,這樣,例如可能受到熱影響的區域更小。還希望能夠獲得一種等離子體產生裝置,它使得要治療的區域周圍受到有限的熱作用。
因此,需要改進等離子體裝置,特別是能夠制造高溫等離子體的小尺寸和高精度等離子體裝置。
發明內容
本發明的目的是提供根據權利要求1的前序部分所述的改進的等離子體產生裝置。
本發明的另一目的是提供一種等離子體外科手術裝置以及該等離子體外科手術裝置在外科手術領域中的應用。
根據本發明的一個方面,提供了一種等離子體產生裝置,它包括陽極、陰極和至少一個中間電極,所述中間電極布置成至少局部在所述陽極和所述陰極之間,所述中間電極和所述陽極至少形成等離子體槽道的一部分,該等離子體槽道有在所述陽極中的開口。
根據本發明,等離子體產生裝置包括至少一個冷卻劑槽道,該冷卻劑槽道布置有至少一個出口開口,該出口開口定位成沿從陰極至陽極的方向超過所述至少一個中間電極,且所述冷卻劑槽道在所述出口開口處的槽道方向有定向部件,該槽道方向與等離子體槽道在開口處的槽道方向相同。
等離子體產生裝置的該結構使得用于在冷卻劑槽道中流動的冷卻劑能夠在等離子體槽道的開口附近在等離子體產生裝置的端部處流出。由該結構獲得的優點是,通過冷卻劑槽道的出口流出的冷卻劑可以用于屏蔽和限制通過開口于陽極中的等離子體槽道出口而排出的等離子體射流。屏蔽和限制等離子體射流首先在治療小區域時特別有利,因為可以有效限制產生的等離子體射流的傳播。
還可以使用流出的冷卻劑來冷卻受到等離子體射流影響的目標。冷卻要治療的目標例如可以適合于保護治療區域周圍的區域。
例如,等離子體射流可以沿它的縱向方向被屏蔽,這樣,在屏蔽件的一側有相當低的熱量,在屏蔽件的另一側有較高熱量。這樣,沿等離子體射流的流動方向獲得等離子體射流的基本獨特位置,要治療的目標在該位置處受到影響,這可以使得等離子體產生裝置更精確地工作。
類似的,流出的冷卻劑可以提供沿徑向方向的等離子體射流屏蔽(相對于等離子體射流的流動方向)。這樣沿徑向方向屏蔽使得相對較小的表面能夠在治療時受到熱影響。相對于等離子體的流動方向沿橫向方向屏蔽也使得治療區域周圍的區域能夠同時通過流出的冷卻劑而冷卻,因此受到等離子體射流的熱量的影響程度相對較小。
現有技術的等離子體產生裝置通常使用封閉冷卻劑系統來在工作中冷卻等離子體產生裝置。這樣的封閉冷卻劑系統通常布置成使得冷卻劑沿等離子體產生裝置中的一個通路流入,并沿另一通路返回。這通常產生相對較長的流動通路。較長流動通路的缺點是用于冷卻劑的流動槽道通常必須制成為相對較大,以便防止較大壓力降。這又意味著流動槽道占據空間,這影響等離子體產生裝置的外部尺寸。
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